Магнетрон цилиндрического типа для напыления внутренней поверхности тел

Авторы патента:

C23C14/35 - с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном

Магнетрон цилиндрического типа для напыления внутренней поверхности тела, состоящий из вакуумной камеры, проходного высоковольтного изолятора, катода-мишени, элементов магнитной системы и источников питания, отличающийся тем, что каждый элемент магнитной системы выполнен из набора кольцевых постоянных магнитов со встречными полюсами с соотношением толщины магнитов 1:4: 1, состыкованных через шайбы-концентраторы магнитного поля, выполненные из ферромагнитного материала и толщиной, определяемой из соотношения 6 < h₁/h₀ < 7, где h₀ - толщина шайбы-концентратора магнитного поля; h₁ - толщина единичного кольцевого магнита, а на концах каждого элемента магнитной системы установлены шайбы-полюсные наконечники толщиной h₁ из ферромагнитного материала.

Изобретение относится к установкам для нанесения покрытия в вакууме

Вакуумно-дуговой источник плазмы // 2072642

Способ изготовления и реставрации мишени для магнетронного распыления в вакууме // 2068886

Изобретение относится к микроэлектронной промышленности, стремительное развитие которой требует резкого увеличения производства полуфабрикатов из алюминия особой чистоты (АОЧ) в виде распыляемых мишеней

Установка для ионно-плазменного распыления // 2065889

Изобретение относится к области приборостроения и может быть использовано для изготовления магнитного носителя информации (магнитные ленты и диски)

Многошпиндельная установка для нанесения фотопроводниковых слоев в вакууме // 2065506

Изобретение относится к области технологии нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано в производстве электрофотографических носителей изображения

Способ плазменной обработки деталей и устройство для его осуществления // 2063472

Изобретение относится к вакуумной плазменной технологии, предназначено для чистки и напыления на поверхность изделий тонкопленочных защитных или декоративных покрытий и может использоваться в машиностроении, микроэлектронике, легкой и других отраслях промышленности

Способ напыления пленок // 2058429

Изобретение относится к технике нанесения тонкопленочных покрытий в вакууме и может быть использовано в технологии производства полупроводниковых приборов, поверхностного легирования материалов, нанесения защитных и декоративных покрытий, получения различных пленочных структур

Устройство для нанесения покрытий в вакууме // 2058428

Изобретение относится к плазменной технике и вакуумной технологии нанесения покрытий и направлено на расширение технологических возможностей устройства и улучшение качества наносимых покрытий

Способ получения эпитаксильных пленок // 2046837

Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано для изготовления интегральных схем

Катодный узел преимущественно для пучково-плазменного нанесения тонких пленок в вакууме // 2046154

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме путем пучково-плазменного распыления

Способ получения защитно-декоративных покрытий // 2100476

Изобретение относится к технологии получения вакуумных покрытий и может быть использовано при нанесении защитных, износостойких и декоративных покрытий, в частности на керамические и стеклянные облицовочные плитки

Магнитная система планарного магнетрона // 2102527

Изобретение относится к области покрытия металлических материалов, а также других материалов металлическими и диэлектрическими материалами и может быть использовано при разработке устройств для вакуумного нанесения покрытий методом магнетронного распыления, а более конкретно магнитных систем планарного магнетрона в установках вакуумного нанесения покрытия на различные подложки, в том числе на полимерные пленки

Магнетронная распылительная система // 2107970

Магнетронная распылительная система // 2107971

Устройство для управления потоком рентгеновского излучения и способ его получения // 2109358

Изобретение относится к рентгеновской оптике, в частности, к устройствам для отражения, поворота, деления, фокусировки и монохроматизации потока рентгеновского излучения и может быть использовано для проведения процессов рентгеновкой литографии, рентгеновской микроскопии, рентгеновской спектроскопии, а также в астрономии, физике, биологии, медицине и других областях технике, где используется рентгеновское излучение

Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия // 2112076

Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электродов и прозрачных электрообогревательных элементов

Способ магнетронного распыления // 2114487

Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике

Источник многокомпонентных атомарных потоков // 2119730

Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок

Рельсовый плазматрон для получения покрытий на поверхности диэлектрических материалов // 2124069

Магнетронный источник // 2125117