Способ электролитического осаждения индия

Авторы патента:

C25D3/54 - металлов, не отнесенных к подгруппам C25D 3/04- C25D 3/50

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

222I04

Союз Советскик

Социалистическик

Республик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

Заявлено 11.17.1967 (№ 1148585/22-1) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 07.Х.1969. Бюллетень № 31

Дата опубликования описания З.I I I.1970

Кл. 48а, 5,30.ЧПК С 23Ь

УДК 621.357.7:669,872 (088.8) Комитет по делам изобретений и открытии при Совете Министров

СССР

Авторы изобретения

М. А. Лошкарев и А. А. Казаров

Заявитель

Днепропетровский химико-технологический институт

СПОСОБ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ИНДИЯ

Предмет изобретения

Известный способ электролитического осаждения индия из хлоридных электролитов имеет тот недостаток, что осадки индия склопны к дендритообразованию.

По предложенному способу электролитического осаждения индия для получения мелкокристаллических плотных и равномерных осадков в электролит вводят тиомочевину, фенилтиомочевину и желатину при следующем соотношении компонентов (в г/л): хлористый индий 83 хлористый натрий 58 тиомочевина 0,4 вЂ” 0,6 фенилтиомочевина 0,4 вЂ” 0,6 желатина 1,5 вЂ” 2

Процесс ведут при температуре 25 С и плотности тока 150 а/.из.

Осадки индия, полученные из предложенного электролита при многосуточном электролизе, плотные и очень равномерные.

Введение тиомочевины, фенилтиомочевины и желатины возможно не только при гальваническом нанесении покрытий индием, но и при электролитическом рафинировании индия.

Эффективность действия указанных добавок сохраняется при плотности тока до

200 а/л - . Дальнейшее повышение плотности тока возможно лишь прн интенсивном перемешивании раствора.

Способ электролитического осаждения индия из электролита на основе хлористого индия и хлористого натрия, оттичающийся тем, что, с целью получения мелкокристаллических плотных и равномерных осадков, в электролит вводят тиомочевину, фенилтиомочевину и желатину при следующем соотношении компонентов (в г/л): хлористый индий 83 хлористый натрий 58 тиомочевина 0,4 вЂ” 0,6 фенплтиомочевина 0,4 вЂ” 0,6 желатина 1,5 вЂ” 2 и процесс ведут при температуре 25 С и D, 150 а/лт - .

Способ индирования стал-ных изделий, например,под пайку // 178256

Способ электрохимического осаждения мышьяка // 174923

Способ электролитического сурьмирования металлов // 142489

Способ гальванического титанирования полупроводниковой пленки из двуокиси олова // 134090

Ванна для титанирования // 127121

Способ электролитического отложения висмута // 126343

Способ вольфрамирования металлических изделий // 125991

Электролит для титанирования // 119154

Способ покрытия марганцем изделий из черных металлов // 112488

Способ электролитического осаждения молибдена из водных растворов электролитов // 2299279

Изобретение относится к электролитическому нанесению покрытий из водных растворов, в частности к электролитическому осаждению молибдена из водных растворов электролитов

Способ изготовления ртутного пленочного электрода // 2326189

Изобретение относится к способам электрохимического нанесения покрытий и может быть использовано в практике вольтамперометрических измерений для изготовления электрохимического датчика для определения концентрации восстанавливающихся веществ и ионов, в частности для контроля содержания тяжелых металлов и кислорода в объектах окружающей среды, пищевых продуктах и т.д

Электролит для осаждения индия // 2346088

Изобретение относится к области гальваностегии и может быть использовано при нанесении покрытий из индия

Способ электролитического осаждения тантала из водного раствора электролита (варианты) // 2352691

Изобретение относится к области гальваностегии и может быть использовано при осаждении тантала на изделия из меди и медных сплавов

Способ электролитического нанесения молибдена из водного раствора // 2407828

Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для получения функциональных покрытий на основе молибденового покрытия, а также в ювелирном деле для замены платины

Способ обработки металлических деталей // 2432421

Изобретение относится к области получения тонких пленок, а именно к способам обработки стальных деталей для повышения их износостойкости

Электролит висмутирования // 2064535

Изобретение относится к гальваностегии, в частноcти к электролитическому осаждению висмутовых покрытий

Электролитический способ осаждения индия // 241885

Способ электролитического осаждения галлия // 241886

// 241887