Маскировочный материал

 

Изобретение относится к области военной техники, конкретно к материалам для изготовления маскировочных устройств. Маскировочный материал содержит тканевую основу и несколько нанесенных на нее полимерных слоев различного цвета и толщины, образующих маскировочный рисунок в виде случайно расположенных пятен неправильной формы. Полимерные слои формируют рельефную поверхность материала с глубиной рельефа 0,5...5 мм. Указанный маскировочный материал обеспечивает улучшение маскировочных свойств. 1 ил.

Изобретение относится к маскировке, а конкретно - к материалам для изготовления маскировочной одежды, маскировочных покрытий и других устройств, выполняющих маскировочные функции.

Известен патент США №4656065, F 41 H 3/00, 1987, в котором предложено для имитации трехмерной текстуры поверхности естественного фона использовать камуфляжный рисунок, в котором пятна различных оттенков соответствуют различным участкам светотеневого рисунка естественного фона. При изменении характера естественного освещения меняется соотношение яркости освещенных и неосвещенных (теневых) участков естественного трехмерного фона, то есть контраст (В_св-В_т)/В_св, где В_св - яркость освещенного участка фона, а В_т - яркость неосвещенного участка фона.

В ясный солнечный день величина контраста между освещенными и неосвещенными поверхностями естественных трехмерных объектов выше, чем в пасмурную погоду. Напротив, контраст между темными и светлыми пятнами плоского камуфляжного рисунка остается постоянным, так как определяется постоянным соотношением коэффициентов отражения светлых и темных участков поверхности. Это приводит к отличию видимой текстуры естественного фона от видимой текстуры камуфляжа, что определяет недостаток указанного решения.

Известен патент США №3069796, 1962, в котором предложен трехмерный камуфляжный материал, образующийся в результате прорезывания в исходном плоском материале периодического набора разрезов, что при растягивании материала создает трехмерную структуру, имитирующую растительный фон.

Недостатком указанного решения является снижение прочности материала, а также невозможность создания мелкомасштабной текстуры.

Известен патент США №2502926, 1950, в котором для создания декоративного рельефа на поверхности плоского материала предлагается нанесение пасты поливинилхлорида.

Однако нанесенный рисунок, выполняя декоративные функции, не имитировал естественного фона и не мог использоваться для маскировки.

Известен патент США №4243709, В 32 В 003/10, 1981, в котором предложен камуфляжный материал, образованный нанесением на материю нескольких слоев пластизоля, образующих пятна различного цвета случайной формы.

Предложенный материал имел гладкую поверхность, что приводит к независимости величины контраста светлых и темных участков поверхности от интенсивности и характера естественного освещения и определяет недостаток данного решения. Данный аналог по совокупности признаков является наиболее близким к изобретению.

Задачей данного изобретения является улучшение маскировочных свойств маскировочных изделий за счет имитации трехмерной фактуры естественных фонов.

Для решения данной задачи предлагается материал, содержащий тканевую основу и несколько полимерных слоев различного цвета, нанесенных на нее. Каждый слой наносится в виде случайно расположенных пятен неправильной формы. При этом полимерные слои имеют различную толщину, и поэтому поверхность предлагаемого материала имеет рельеф. Предлагаемое решение лишено недостатков прототипа, поскольку образуемый выпуклыми участками полимерного слоя светотеневой рисунок соответствует по своему контрасту светотеневому рисунку естественного фона, и это соответствие сохраняется при изменении интенсивности и характера естественного освещения.

На чертеже схематически изображено сечение предлагаемого материала, содержащего тканевую основу 1 и два полимерных слоя 2.

Глубина рельефа L должна быть от 0,5 до 5 мм, чтобы наилучшим образом имитировать пространственную структуру естественного фона, не повышая при этом жесткость материала выше эргономически допустимых значений.

Рельефные полимерные слои могут быть, например, слоями поливинилхлорида, полученными путем нанесения пасты (пластизоля), например, ротационно-шаблонным способом. Ротационно-шаблонный метод печати пастами ПВХ широко применяется в промышленности.

Формула изобретения

Маскировочный материал, содержащий тканевую основу и несколько полимерных слоев различного цвета, нанесенных на указанную тканевую основу и образующих маскировочный рисунок в виде случайно расположенных пятен неправильной формы, отличающийся тем, что указанные полимерные слои выполнены различной толщины и образуют рельефную поверхность с глубиной рельефа 0,5...5 мм.

РИСУНКИ

Рисунок 1