Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство



Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство
Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство
Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство
Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство
Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство
Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство
Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство

 


Владельцы патента RU 2596193:

КЭНОН КАБУСИКИ КАЙСЯ (JP)

Изобретение раскрывает электрографический фоточувствительный элемент, содержащий основу, электропроводный слой, сформированный на основе, и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, при этом электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, частицы оксида олова, легированного фосфором, и связующий материал; и если общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V1P и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V2P, величины VT, V1P и V2P удовлетворяют следующим выражениям: 2≤{(V2P/VT)/V1P/VT)}×100≤25 и 15≤{(V1P/VT)+(V2P/VT)}×100≤45. Также раскрываются технологический картридж и электрофотографическое устройство, которые содержат указанный выше электрофотографический фоточувствительный элемент. Технический результат заключается в получении электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффекта памяти рисунка практически не происходит и практически не происходит возникновения трещин в электропроводном слое. 7 н. и 15 з.п. ф-лы, 5 ил., 74 табл., 1 пр.

 

Область техники

Данное изобретение относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу, и технологическому картриджу и электрофотографическому устройству, включающим электрофотографический фоточувствительный элемент.

Предшествующий уровень техники

В отношении электрофотографического фоточувствительного элемента с применением органического фотопроводящего материала (органического электрофотографического фоточувствительного элемента) в последние годы проводились интенсивные исследования и разработки.

Электрофотографический фоточувствительный элемент в основном включает основу и фоточувствительный слой, сформированный на основе. Фактически, тем не менее, различные слои располагают во многих случаях между основой и фоточувствительным слоем с целью, например, покрывания дефектов на поверхности основы, защиты фоточувствительного слоя от электрического разрушения, улучшения поляризуемости и улучшения способности к блокированию инжекции зарядов от основы к фоточувствительному слою.

Из слоев, располагаемых между основой и фоточувствительным слоем, слой, содержащий частицы оксида металла, известен как слой, предоставляемый с целью покрывания дефектов на поверхности основы. Слой, содержащий частицы оксида металла, обычно обладает высокой электропроводностью (например, первоначальным объемным удельным сопротивлением от 1,0×108 Ом·см до 2,0×1013 Ом·см) по сравнению с ее величиной для слоя, не содержащего частицы оксида металла, и даже если толщина слоя увеличена, возрастание остаточного потенциала во время формирования изображения затруднено. Поэтому, слой, содержащий частицы оксида металла, легко покрывает дефекты на поверхности основы. Когда такой слой, обладающий высокой электропроводностью (далее в данном документе называемый как «электропроводный слой») предоставлен между основой и фоточувствительным слоем, чтобы покрывать дефекты на поверхности основы, допустимый интервал дефектов на поверхности основы увеличен. В результате, допустимый интервал используемой основы увеличивается. Соответственно, обеспечивается преимущество в улучшении производительности электрофотографического фоточувствительного элемента.

Патентный документ 1 описывает технологию, включающую применение в электропроводном слое между основой и фоточувствительным слоем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором или вольфрамом. Кроме того, Патентный документ 2 описывает технологию, включающую применение в электропроводном слое между основой и фоточувствительным слоем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом или фтором.

Кроме того, Патентный документ 3 описывает технологию, содержащую включение в нижний слой электрофотографического фоточувствительного элемента, полученного последовательным наслаиванием нижнего слоя, промежуточного слоя и фоточувствительного слоя на электропроводную основу, двух видов частиц оксида металла, имеющих разные средние диаметры частиц. Кроме того, Патентный документ 4 описывает следующую технологию. Два или более вида электропроводных частиц, имеющих разные диаметры первичных частиц, включают в промежуточный слой электрофотографического фоточувствительного элемента, полученного наслаиванием промежуточного слоя и фоточувствительного слоя на электропроводную основу в указанном порядке, отношение «A:B» между средними диаметрами первичных частиц A, имеющих наибольший средний диаметр частиц из электропроводных частиц, и первичных частиц B имеющих наименьший средний диаметр частиц из электропроводных частиц устанавливают от 12:1 до 30:1, и средний диаметр частиц первичных частиц B устанавливают при 0,05 мкм или менее. Кроме того, Патентный документ 4 описывает технологию, включающую применение частиц оксида олова, легированного танталом, в промежуточном слое электрофотографического фоточувствительного элемента.

Кроме того, Патентный документы 5 и 6 описывают каждый технологию, включающую применение частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое или промежуточном слое между основой и фоточувствительным слоем.

Список ссылок

Патентные документы

Патентный документ 1: Выложенная заявка на патент Японии № 2012-18371

Патентный документ 2: Выложенная заявка на патент Японии № 2012-18370

Патентный документ 3: Выложенная заявка на патент Японии № 2007-187771

Патентный документ 4: Выложенная заявка на патент Японии № 2004-151349

Патентный документ 5: Выложенная заявка на патент Японии № H01-248158

Патентный документ 6: Выложенная заявка на патент Японии № H01-150150

Сущность изобретения

Техническая проблема

В последние годы увеличивается следующая возможность: большое число изображений, идентичных одно другому, выводят из одного и того же электрофотографического фоточувствительного элемента в течение короткого периода времени.

В таком случае, направление перемещения среды для печати (такой как материал для переноса (например, бумага) или промежуточный передающий элемент) в электрофотографическом фоточувствительном элементе и вертикальное направление (продольное направление, когда электрофотографический фоточувствительный элемент является цилиндрическим) не отклоняются одно от другого. Соответственно, например, когда сплошное черное изображение или полутоновое изображение выводят после того, как было выведено непрерывным образом большое число изображений, каждое из которых включает вертикальные линии 306 (линии, параллельные направлению перемещения среды для печати), подобно изображению 301 на Фиг. 4, эффект, называемый памятью рисунка, имеет место на участках, на которых формировались вертикальные линии. Более конкретно, по существу, выводят сплошное черное изображение, подобное изображению 302 на Фиг. 4, и выводят полутоновое изображение, подобное изображению 303 на Фиг. 4. Однако когда сплошное черное изображение выводят после того, как было выведено непрерывным образом большое число изображений, каждое из которых включает вертикальные линии 306, подобно изображению 301 на Фиг. 4, выводимое изображение может быть изображением 304 с вертикальными линиями 307, являющимися следствием повторяющегося гистерезиса вертикальных линий 306 изображения 301 на Фиг. 4. Также в случае полутонового изображения, как и в случае сплошного черного изображения, выводимое изображение может быть изображением 305 с вертикальными линиями 308, являющимися следствием повторяющегося гистерезиса вертикальных линий 306 изображения 301 на Фиг. 4. Часть изображения, где проявляется повторяющийся гистерезис, подобно этим вертикальным линиям 307 и 308, называют памятью рисунка.

В частности, увеличивается следующая возможность по сравнению с прошлым временем в связи с увеличением срока службы электрофотографического фоточувствительного элемента: большое число изображений, идентичных одно другому, выводят из одного и того же электрофотографического фоточувствительного элемента в течение короткого периода времени. Соответственно, также и в случае обычного электрофотографического фоточувствительного элемента, который ранее мог быть использован в достаточной мере, начала проявляться ситуация, когда память рисунка имеет место при выведении большого числа изображений, идентичных одно другому, в течение короткого периода времени. В связи с этим, каждый из электрофотографических фоточувствительных элементов, включающих обычные электропроводные слои, описанных в Патентных документах с 1 по 6, вовлекался иногда в обстоятельства, когда имеет место эффект памяти рисунка.

С другой стороны, в случае электропроводного слоя, содержащего связующий материал и частицы оксида металла, возможно возникновение трещин в электропроводном слое, даже когда объемное удельное сопротивление электропроводного слоя уменьшено лишь посредством увеличения содержания частиц оксида металла в электропроводном слое, с тем, чтобы могло сдерживаться увеличение остаточного потенциала во время формирования изображения. Соответственно, возникает настоятельная потребность в подавлении возникновения эффекта памяти рисунка и подавлении увеличения остаточного потенциала наряду с подавлением возникновения трещин в электропроводном слое.

Принимая во внимание вышеуказанное, данное изобретение направлено на предоставление электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и практически не происходит возникновение трещин в электропроводном слое, и технологического картриджа и электрофотографического устройства, включающих такой электрофотографический фоточувствительный элемент.

Решение проблемы

В соответствии с одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, частицы оксида олова, легированного фосфором, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V1P, и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V2P, величины VT, V1P и V2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2).

2≤{(V2P/VT)/(V1P/VT)}×100≤25 (1)

15≤{(V1P/VT)+(V2P/VT)}×100≤45 (2)

В соответствии с другим аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, частицы оксида олова, легированного вольфрамом, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V1W, и общий объем частиц оксида олова, легированного вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V2W, величины VT, V1W и V2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7).

2≤{(V2W/VT)/(V1W/VT)}×100≤25 (6)

15≤{(V1W/VT)+(V2W/VT)}×100≤45 (7)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, частицы оксида олова, легированного фтором, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, в электропроводном слое представлен как V1F, и общий объем частиц оксида олова, легированного фтором, в электропроводном слое представлен как V2F, величины VT, V1F и V2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12).

2≤{(V2F/VT)/(V1F/VT)}×100≤25 (11)

15≤{(V1F/VT)+(V2F/VT)}×100≤45 (12)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, частицы оксида олова, легированного ниобием, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, в электропроводном слое представлен как V1Nb, и общий объем частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое представлен как V2Nb, величины VT, V1Nb и V2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17).

2≤{(V2Nb/VT)/(V1Nb/VT)}×100≤25 (16)

15≤{(V1Nb/VT)+(V2Nb/VT)}×100≤45 (17)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, частицы оксида олова, легированного танталом, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, в электропроводном слое представлен как V1Ta, и общий объем частиц оксида олова, легированного танталом, в электропроводном слое представлен как V2Ta, величины VT, V1Ta и V2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22).

2≤{(V2Ta/VT)/(V1Ta/VT)}×100≤25 (21)

15≤{(V1Ta/VT)+(V2Ta/VT)}×100≤45 (22)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется технологический картридж, присоединяемый с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства, при этом технологический картридж интегрированным образом поддерживает: вышеописанный электрофотографический фоточувствительный элемент; и по меньшей мере один узел, выбранный из группы, состоящей из узла для зарядки, узла для проявления, узла для переноса и узла для очистки.

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографическое устройство, содержащее: вышеописанный электрофотографический фоточувствительный элемент; узел для зарядки; узел для экспонирования; узел для проявления; и узел для переноса.

Преимущества данного изобретения

В соответствии с данным изобретением, предоставлен электрофотографический фоточувствительный элемент, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и практически не происходит возникновение трещин в электропроводном слое, и технологический картридж и электрофотографическое устройство, включающие такой электрофотографический фоточувствительный элемент.

Другие особенности данного изобретения станут очевидными из представленного ниже описания типичных вариантов осуществления со ссылками на приложенные чертежи.

Краткое описание чертежей

Фиг. 1 представляет собой вид, иллюстрирующий пример схематической конструкции электрофотографического устройства, включающего технологический картридж, имеющий электрофотографический фоточувствительный элемент по данному изобретению.

Фиг. 2 представляет собой вид (вид сверху) для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Фиг. 3 представляет собой вид (вид поперечного сечения) для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Фиг. 4 представляет собой вид (пример изображения) для иллюстрирования эффекта памяти рисунка.

Фиг. 5 представляет собой вид, иллюстрирующий изображение с одноточечным рисунком с шахматным расположением.

Описание вариантов осуществления

Электрофотографический фоточувствительный элемент по данному изобретению представляет собой электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий основу, проводящий слой, сформированный на основе, и фоточувствительный слой, сформированный на проводящем слое.

Фоточувствительный слой может быть однослойным фоточувствительным слоем, полученным включением вещества, генерирующего заряды, и вещества, переносящего заряды, в единственный слой, или может быть многослойным фоточувствительным слоем, полученным наслаиванием слоя для генерации зарядов, содержащего вещество, генерирующее заряды, и слоя для переноса зарядов, содержащего вещество, переносящее заряды. Кроме того, в случае необходимости, промежуточный слой может быть предоставлен между электропроводным слоем и фоточувствительным слоем, сформированными на основе.

Основа, обладающая электропроводностью, (электропроводная основа) является предпочтительной в качестве основы, и, например, может быть использована металлическая основа, сформированная из металла, такого как алюминий, алюминиевый сплав или нержавеющая сталь. В случае применения алюминия или алюминиевого сплава, может быть использована алюминиевая труба, изготовленная способом производства, включающим процесс с экструзией и процесс с волочением, или алюминиевая труба, изготовленная способом производства, включающим процесс экструзии и процесс вытяжки с утонением. Такая алюминиевая труба предоставляет хорошую точность размеров и хорошую чистоту поверхности без резки ее поверхности и является выгодной также с точки зрения затрат. Однако на необработанной поверхности алюминиевой трубы возможны выступающие дефекты в виде задиров. Соответственно, является особенно эффективным предоставление электропроводного слоя.

В электрофотографическом фоточувствительном элементе по данному изобретению любую из представленных ниже комбинаций частиц оксида металла, а также связующий материал используют в электропроводном слое, подлежащем формированию на основе:

(p) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, и частицы оксида олова, легированного фосфором;

(w) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, и частицы оксида олова, легированного вольфрамом;

(f) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, и частицы оксида олова, легированного фтором;

(nb) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, и частицы оксида олова, легированного ниобием, и

(ta) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, и частицы оксида олова, легированного танталом.

Один из признаков заключается в том, что в каждой из комбинаций (p), (w), (f), (nb) и (ta) частиц оксида металла, фосфор (P), вольфрам (W), фтор (F), ниобий (Nb) или тантал (Ta) является общим с элементом, которым легирован оксид олова. Следует заметить, что частицы оксида титана являются частицами оксида титана (TiO2), и частицы оксида олова являются частицами оксида олова (SnO2).

Далее в данном документе, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, также называются как «частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного фосфором также называются как «частицы P-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, также называются как «частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного вольфрамом также называются как «частицы W-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, также называются как «частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного фтором также называются как «частицы F-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, также называются как «частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного ниобием, также называются как «частицы Nb-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, также называются как «частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного танталом также называются как «частицы Ta-легированного оксида олова».

Кроме того, в электрофотографическом фоточувствительном элементе по данному изобретению, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (p), когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V1P, и объем частиц P-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V2P, величины VT, V1P, и V2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2).

2≤{(V2P/VT)/(V1P/VT)}×100≤25 (1)

15≤{(V1P/VT)+(V2P/VT)}×100≤45 (2)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (w), когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, объем частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V1W, и объем частиц W-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V2W, величины VT, V1W, и V2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7).

2≤{(V2W/VT)/(V1W/VT)}×100≤25 (6)

15≤{(V1W/VT)+(V2W/VT)}×100≤45 (7)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (f), когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, объем частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V1F, и объем частиц F-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V2F, величины VT, V1F, и V2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12).

2≤{(V2F/VT)/(V1F/VT)}×100≤25 (11)

15≤{(V1F/VT)+(V2F/VT)}×100≤45 (12)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (nb), когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, объем частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V1Nb, и объем частиц Nb-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V2Nb, величины VT, V1Nb, и V2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17).

2≤{(V2Nb/VT)/(V1Nb/VT)}×100≤25 (16)

15≤{(V1Nb/VT)+(V2Nb/VT)}×100≤45 (17)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (ta), когда общий объем электропроводного слоя представлен как VT, объем частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V1Ta, и объем частиц Ta-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V2Ta, величины VT, V1Ta, и V2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22).

2≤{(V2Ta/VT)/(V1Ta/VT)}×100≤25 (21)

15≤{(V1Ta/VT)+(V2Ta/VT)}×100≤45 (22)

Далее в данном документе, V1P, V1W, V1F, V1Nb, и V1Ta в собирательном значении также представлены как «V1», и V2P, V2W, V2F, V2Nb, и V2Ta в собирательном значении также представлены как «V2». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, и частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова в собирательном значении также представлены как «первые частицы оксида металла», и частицы P-легированного оксида олова, частицы W-легированного оксида олова, частицы F-легированного оксида олова, частицы Nb-легированного оксида олова и частицы Ta-легированного оксида олова в собирательном значении также представлены как «вторые частицы оксида металла».

Авторы данного изобретения провели интенсивные исследования в отношении предотвращения возникновения памяти рисунка. В результате, авторы данного изобретения нашли, что эффект памяти рисунка подавляется посредством формирования в электропроводном слое хорошо проводящего пути на протяжении широкого интервала, иными словами, посредством равномерного перемещения зарядов в электропроводном слое. Это, вероятно, обусловлено тем, что локальное задерживание или удерживание зарядов в электропроводном слое практически не происходит. Однако задерживание или удерживание зарядов может не коррелировать в значительной степени с объемным удельным сопротивлением или электрическим сопротивлением электропроводного слоя, поскольку задерживание или удерживание является локальным эффектом. Формирование хорошо проводящего пути в электропроводном слое для подавления эффекта памяти рисунка требует формирования проводящего пути, который проходит как через первые частицы оксида металла, так и через вторые частицы оксида металла. С этой целью, следующая потребность может возникать для подавления эффекта памяти рисунка: вместо формирования электропроводного слоя, содержащего лишь первые частицы оксида металла, или электропроводного слоя, содержащего лишь вторые частицы оксида металла, первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла включают в электропроводный слой при определенном соотношении, и в таком случае образуется проводящий путь, который проходит как через первые частицы оксида металла, так и через вторые частицы оксида металла. А именно, может потребоваться удовлетворение выражению (1), (6), (11), (16) или (21). Когда величина для {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 составляет менее чем 2, отношение количества вторых частиц оксида металла к количеству первых частиц оксида металла становится недостаточным. Соответственно, полагают, что ситуация становится близкой к той, что имеет место в случае электропроводного слоя, содержащего лишь первые частицы оксида металла, и поэтому проводящий путь, пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, не может быть сформирован. С другой стороны, когда величина для {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 составляет более чем 25, отношение количества вторых частиц оксида металла к количеству первых частиц оксида металла становится чрезмерным. Соответственно, полагают, что ситуация становится близкой к той, что имеет место в случае электропроводного слоя, содержащего лишь вторые частицы оксида металла, и поэтому проводящий путь, пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, не может быть сформирован. Когда удовлетворяется приведенное ниже выражение (3), (8), (13), (18) или (23), становится дополнительно существенным подавление эффекта возникновения памяти рисунка, поскольку соотношение между первыми частицами оксида металла и вторыми частицами оксида металла становится соотношением, при котором может быть сформирован проводящий путь, дополнительно пригодный для подавления возникновения памяти рисунка.

5≤{(V2P/VT)/(V1P/VT)}×100≤20 (3)

5≤{(V2W/VT)/(V1W/VT)}×100≤20 (8)

5≤{(V2F/VT)/(V1F/VT)}×100≤20 (13)

5≤{(V2Nb/VT)/(V1Nb/VT)}×100≤20 (18)

5≤{(V2Ta/VT)/(V1Ta/VT)}×100≤20 (23)

Кроме того, формирование проводящего пути, который проходит через первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла, в электропроводном слое может требовать, чтобы сумма величин содержания первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла в электропроводном слое находилась в определенном интервале. А именно, может потребоваться удовлетворение выражению (2), (7), (12), (17) или (22). Когда величина для {(V1+V2)/VT}×100 составляет менее чем 15, склонно происходить задерживание или удерживание зарядов в электропроводном слое, и, следовательно, увеличение остаточного потенциала склонно быть большим в случае повторяющегося применения электрофотографического фоточувствительного элемента. Величина для {(V1+V2)/VT}×100 составляет более предпочтительно 20 или более. С другой стороны, когда величина для {(V1+V2)/VT}×100 составляет более чем 45, количество связующего материала становится слишком малым, и, следовательно, возникновение трещин склонно происходить в электропроводном слое. Величина для {(V1+V2)/VT}×100 составляет более предпочтительно 40 или менее. А именно, более предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (4), (9), (14), (19) или (24).

20≤{(V1P/VT)+(V2P/VT)}×100≤40 (4)

20≤{(V1W/VT)+(V2W/VT)}×100≤40 (9)

20≤{(V1F/VT)+(V2F/VT)}×100≤40 (14)

20≤{(V1Nb/VT)+(V2Nb/VT)}×100≤40 (19)

20≤{(V1Ta/VT)+(V2Ta/VT)}×100≤40 (24)

Как описано выше, необходимо удовлетворение выражениям (1) и (2) одновременно, удовлетворение выражениям (6) и (7) одновременно, удовлетворение выражениям (11) и (12) одновременно, удовлетворение выражениям (16) и (17) одновременно или удовлетворение выражениям (21) и (22) одновременно для получения электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и образование трещин в электропроводном слое практически не происходит.

Что касается данного изобретения, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включенная в электропроводный слой, является, например, комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным сурьмой, и частиц оксида олова, легированного сурьмой, или комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, обедненным кислородом, и частиц оксида олова, обедненного кислородом, подавление эффекта возникновения памяти рисунка ухудшается по сравнению с тем случаем, когда комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, представляет собой комбинацию (p), (w), (f), (nb) или (ta).

Кроме того, даже когда компонентом (легирующей примесью), включаемым для легирования оксида олова, является фосфор, вольфрам, фтор, ниобий или тантал, в случае, в котором компонент, включаемый для легирования оксида олова первых частиц оксида металла, и компонент, включаемый для легирования оксида олова вторых частиц оксида металла, отличаются один от другого, например, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, и частиц оксида олова, легированного вольфрамом, подавление эффекта возникновения памяти рисунка аналогичным образом ухудшается по сравнению со случаем комбинации (p), (w), (f), (nb) или (ta), в которой легирующие компоненты идентичны один другому. Это, вероятно, обусловлено, следующей причиной: когда компоненты, включаемые для легирования оксида олова первых частиц оксида металла, и компоненты, включаемые для легирования оксида олова вторых частиц оксида металла, идентичны один другому, электрические свойства, поверхностные свойства и рабочие функции первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла становятся по физическим свойствам, близкими в полном объеме друг к другу, и, следовательно, облегчается перемещение зарядов равномерным образом в электропроводном слое.

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (p), когда отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, представлено как R1P [ат.%], и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова представлено как R2P [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (5).

0,9≤R2P/R1P≤1,1 (5)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (w), когда отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, представлено как R1W [ат.%], и отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах W-легированного оксида олова представлено как R2W [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (10).

0,9≤R2W/R1W≤1,1 (10)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (f), когда отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, представлено как R1F [ат.%], и отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах F-легированного оксида олова представлено как R2F [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (15).

0,9≤R2F/R1F≤1,1 (15)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (nb), когда отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, представлено как R1Nb [ат.%], и отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах Nb-легированного оксида олова представлено как R2Nb [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (20).

0,9≤R2Nb/R1Nb≤1,1 (20)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (ta), когда отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова, представлено как R1Ta [ат.%], и отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах Ta-легированного оксида олова представлено как R2Ta [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (25).

0,9≤R2Ta/R1Ta≤1,1 (25)

Далее в данном документе, R1P, R1W, R1F, R1Nb и R1Ta в собирательном значении также представлены как «R1», и R2P, R2W, R2F, R2Nb и R2Ta в собирательном значении также представлены как «R2».

Как представлено выражением (5), (10), (15), (20) или (25), величины относительного содержания фосфора, вольфрама, фтора, ниобия или тантала в оксиде олова первых частиц оксида металла и в оксиде олова вторых частиц оксида металла являются предпочтительно как можно более близкими одна к другой. Иными словами, отношение R2/R1 является предпочтительно как можно более близким к 1.0, и конкретно, отношение составляет предпочтительно от 0,9 или более до 1,1 или менее. Когда отношение R2/R1 составляет от 0,9 или более до 1,1 или менее, образуется проводящий путь, дополнительно пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, и, следовательно, подавление эффекта возникновения памяти рисунка становится более значительным.

Измерение R1 и R2 может быть выполнено посредством сканирующей просвечивающей электронной микроскопии с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) после отбора образца электропроводного слоя электрофотографического фоточувствительного элемента в соответствии с методом с применением фокусированного ионного пучка (FIB). Кроме того, измерение V1 и V2 может быть выполнено методом Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM) после отбора образца электропроводного слоя электрофотографического фоточувствительного элемента в соответствии с методом с применением фокусированного ионного пучка (FIB).

Вначале описывается измерение R1 и R2.

Отбор образцов для анализа сканирующей просвечивающей электронной микроскопией с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) выполняли, как описано ниже.

Отбор образцов выполняют с помощью поддерживающего основания, изготовленного из меди (Cu) в соответствии с методом отбора образцов FIB-µ. Прибором, использованным авторами данного изобретения, является FB-2000A µ-Sampling System (торговое наименование) производства компании Hitachi High-Technologies Corporation. Отбор образцов выполняли таким образом, что горизонтальные и продольные размеры образца становились такими размерами, что интервал измерения мог быть обеспечен, и толщина образца становилась 150 нм.

Анализ сканирующей просвечивающей электронной микроскопией с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) выполняли, как описано ниже.

Авторы данного изобретения выполняли анализ с помощью автоэмиссионного электронного микроскопа высокого разрешения (HRTEM) (торговое наименование: JEM2100F) производства компании JEOL Ltd. и JED-2300T (торговое наименование) (имеющего разрешение 133 эВ или менее) (энергорассеивающего рентгеновского спектроскопа) производства компании JEOL Ltd. в качестве части для энергодисперсионного рентгеноспектрального микроанализа (EDX).

Условия анализа устанавливали, как описано ниже.

Система: Станция проведения анализа (Analysis Station)

Получение изображений: Цифровой микрограф (Digital Micrograph)

Условия измерения: Ускоряющее напряжение: 200 кВ, диаметр пучка (диаметр): 1,0 нм, время измерения: 50 секунд (в точечном анализе) и 40 минут (в анализе методом площадей)

Интервал измерения: длина 3,6 мкм × ширина 3,4 мкм × толщина 150 нм.

Отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова, отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах W-легированного оксида олова, отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах F-легированного оксида олова, отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах Nb-легированного оксида олова, отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах Ta-легированного оксида олова, или отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова может быть определено из атомного отношения, поскольку идентификация элемента может быть выполнена посредством сканирующей просвечивающей электронной микроскопии с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX).

Отбор образцов выполняли подобным образом десять раз, чтобы предоставить десять образцов с последующим их измерением. Среднее значение для суммарных десяти R1 и среднее значение для суммарных десяти R2 определяли каждое как величину для R1 или R2 в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения.

Далее описано измерение отношений (V1/VT) и (V2/VT).

Объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и объем частиц P-легированного оксида олова, и их соотношения, в электропроводном слое могут быть определены посредством идентификации оксида олова, легированного фосфором, и оксида титана на основании их разницы в контрасте в методе Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM). Когда компонентом, включаемым для легирования в оксид олова, является элемент, иной, чем фосфор, такой как вольфрам, фтор, ниобий или тантал, объемы и соотношения в электропроводном слое могут быть определены аналогичным образом.

Условия для выполнения метода Slice & View в данном изобретении были установлены такие, как описано ниже.

Отбор образцов для анализа: метод с применением фокусированного ионного пучка (FIB)

Прибор для обработки и обследования: NVision 40 производства компании SII-Zeiss

Интервал между срезами: 10 нм

Условия обследования:

Ускоряющее напряжение: 1,0 кВ

Наклон образца: 54°

WD: 5 мм

Детектор: детектор BSE

Апертура: 60 мкм, высокий ток

Автоматическое регулирование яркости (ABC): ВКЛ

Разрешение изображения: 1,25 нм/пиксель

Анализ выполняют в области измерения 2 мкм шириной и 2 мкм длиной, информацию для каждого поперечного сечения интегрируют, и определяют объемы V1 и V2 для пространства измерения шириной 2 мкм, длиной 2 мкм и толщиной 2 мкм (VT=8 мкм3). Кроме того, измерение выполняют в окружающей среде с температурой 23°C и давлением 1×10-4 Па. Следует заметить, что Strata 400S (наклон образца: 52°) производства FEI Company может также быть использован в качестве прибора для обработки и обследования.

Отбор образцов выполняли подобным образом десять раз, чтобы предоставить десять образцов с последующим их измерением. Величину, полученную делением среднего значения для суммарных десяти объемов V1 для 8 мкм3 на VT (8 мкм3), определяли как отношение (V1/VT) в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения. Кроме того, величину, полученную делением среднего значения для суммарных десяти объемов V2 для 8 мкм3 на VT (8 мкм3), определяли как величину отношения (V2/VT) в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения.

Следует заметить, что площади идентифицированных оксида олова, легированного фосфором, и оксида титана получали из информации на каждом поперечном сечении посредством анализа изображения. Анализ изображения выполняли с помощью указанного ниже программного обеспечения для обработки изображения.

Программное обеспечение для обработки изображения: Image-Pro Plus производства компании Media Cybernetics

Из частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, первые частицы оксида металла имеют покровный слой, образованный оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом, фтором, ниобием или танталом, и сердцевину частицы, образованную оксидом титана. Кроме того, первые частицы оксида металла имеют такую структуру, что сердцевина частицы покрыта покровным слоем.

Доля (доля покровного слоя) оксида олова (SnO2) в первых частицах оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 10 до 60% по массе. Исходный материал для олова, необходимый для получения оксида олова (SnO2), требуется смешивать во время изготовления первых частиц оксида металла для регулирования доли покровного слоя оксида олова (SnO2). Например, когда хлорид олова (SnCl4) используют в качестве исходного материала для олова, смешивание требуется выполнять, принимая во внимание количество оксида олова (SnO2), получаемого из хлорида олова (SnCl4). Хотя оксид олова (SnO2), образующий покровный слой каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, легируют фосфором (P), вольфрамом (W), фтором (F), ниобием (Nb) или танталом (Ta), доля покровного слоя является величиной, вычисленной из массы оксида олова (SnO2) по отношению к общей массе оксида олова (SnO2) и оксида титана (TiO2) без учета массы фосфора (P), вольфрама (W), фтора (F), ниобия (Nb) или тантала (Ta), которым легируют оксид олова (SnO2).

Кроме того, предпочтительно, чтобы оксид олова (SnO2) в первых частицах оксида металла или вторых частицы оксида металла был легирован фосфором (P), вольфрамом (W), фтором (F), ниобием (Nb) или танталом (Ta) в количестве (при степени легирования) от 0,1 до 10 масс.% по отношению к оксиду олова (SnO2) (в расчете на массу оксида олова, не содержащего фосфор (P), вольфрам (W), фтор (F), ниобий (Nb) и тантал (Ta)).

Следует заметить, что способ изготовления первых частиц оксида металла (частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, или частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова) также описан в выложенной заявке на патент Японии № H06-207118 и выложенной заявке на патент Японии № 2004-349167.

Кроме того, способ изготовления вторых частиц оксида металла (частиц P-легированного оксида олова, частиц W-легированного оксида олова, частиц F-легированного оксида олова, частиц Nb-легированного оксида олова или частиц Ta-легированного оксида олова) также описан в патенте Японии № 3365821, выложенной заявке на патент Японии № H02-197014, выложенной заявке на патент Японии № H09-278445 и выложенной заявке на патент Японии № H10-53417.

Корпускулярная форма, сферическая форма, игольчатая форма, волокнистая форма, столбчатая форма, стержневая форма, веретенообразная форма, пластинчатая форма и другие аналогичные формы могут быть использованы как форма частицы оксида титана (TiO2) в качестве сердцевины частицы в каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении. Из них, сферическая форма является предпочтительной с той точки зрения, что дефекты изображения, такие как черные пятна, практически не возникают.

Кроме того, любая из кристаллических форм, таких как рутил, анатаз, брукит, и аморфных форм может быть использована в качестве кристаллической формы частицы оксида титана (TiO2) в качестве сердцевины частицы в каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении. Кроме того, любой способ изготовления, такой как способ с применением серной кислоты и способ с применением хлористоводородной кислоты, может быть применен в качестве способа изготовления.

Первая причина, почему в данном изобретении используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO2)), описана ниже. Оксид олова (SnO2), образующий покровный слой каждой из первых частиц оксида металла, имеет более высокую удельную электропроводность, чем оксид титана (TiO2), образующий каждую сердцевину частицы, и заряд, воспринятый вторыми частицами оксида металла, содержащими оксид олова (SnO2), распространяется в основном через покровный слой, содержащий оксид олова (SnO2), в каждой из первых частиц оксида металла, т.е. перенос заряда в основном выполняется между оксидом олова (SnO2), и, следовательно, перенос заряда между первыми частицами оксида металла и вторыми частицами оксида металла становится плавным, и заряд перемещается равномерным образом в электропроводном слое.

Вторая причина, почему используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO2)), заключается в том, что достигается улучшение дисперсности вторых частиц оксида металла в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя. Когда вторые частицы оксида металла используют без применения первых частиц оксида металла, склонно происходить агрегирование вторых частиц оксида металла в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, что увеличивает средний диаметр этих частиц, и, следовательно, выступающие дефекты в виде сыпи возникают на поверхности формируемого электропроводного слоя, или стабильность раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя уменьшается в некоторых случаях. Кроме того, подавление эффекта памяти рисунка не достигается достаточным образом.

Третья причина, почему используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO2)), заключается в том, что частицы оксида титана(TiO2), используемые в качестве сердцевин первых частиц оксида металла, имеют каждая низкую прозрачность в качестве частицы, и, следовательно, легко покрывают дефекты на поверхности основы. В противоположность этому, например, когда частицы сульфата бария используют в качестве сердцевин частиц, каждая из частиц имеет высокую прозрачность в качестве частицы, и, следовательно, может требоваться отдельный материал для покрывания дефектов на поверхности основы.

Диаметр каждой из частиц оксида титана (TiO2) в качестве сердцевины первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 0,05 мкм или более до 0,40 мкм или менее с точки зрения регулирования среднего диаметра первых частиц оксида металла до предпочтительного интервала, описанного далее.

Удельное сопротивление порошка первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 1,0×101 Ом·см или более до 1,0×106 Ом·см или менее, более предпочтительно от 1,0×102 Ом·см или более до 1,0×105 Ом·см или менее.

Удельное сопротивление порошка вторых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 1,0×100 Ом·см или более до 1,0×105 Ом·см или менее, более предпочтительно от 1,0×101 Ом·см или более до 1,0×104 Ом·см или менее.

Удельное сопротивление порошка первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, предпочтительно меньше, чем удельное сопротивление порошка частиц оксида титана (TiO2) используемых в качестве сердцевин первых частиц оксида металла.

Метод измерения удельного сопротивления порошка частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла, используемых в данном изобретении, описан ниже.

Удельное сопротивление порошка частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла, используемые в данном изобретении, или сердцевин составных частиц, таких как первые частицы оксида металла, используемые в данном изобретении, измеряют в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)). В данном изобретении, прибор для измерения сопротивления производства компании Mitsubishi Chemical Corporation (торговое наименование: Loresta GP (Hiresta UP, когда удельное сопротивление порошка превышало 1,0×107 Ом·см)) использовали в качестве измерительного прибора. Частицы оксида металла в качестве объектов измерения спрессовывали в образец в виде таблетки для измерения при давлении 500 кг/см2. Прикладывали напряжение 100 В. Частицы, используемые в качестве сердцевин, подвергали измерению перед формированием покровного слоя.

Электропроводный слой может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя, содержащего растворитель, связующий материал, и первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла на основу, и сушки и/или отверждения результирующей покровной пленки.

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя может быть приготовлен посредством диспергирования первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла вместе со связующим материалом в растворителе. В качестве метода диспергирования, используют, например, методы с применением вибромиксера для краски, песчаной мельницы, шаровой мельницы и высокоскоростного диспергатора со столкновением с жидкостью.

Примеры связующего материала, используемого в электропроводном слое, включают смолы, такие как фенольная смола, полиуретан, полиамид, полиимид, полиамид-имид, поливиниацеталь, эпоксидная смола, акриловая смола, меламиновая смола и полиэфирная смола. Эти смолы могут быть использованы в отдельности или в комбинации двух или более их видов. Кроме того, из таких смол, с точки зрения, например, подавления миграции (растворения) в другой слой, способности прилипания к основе, диспергируемости и стабильности дисперсии частиц по данному изобретению и устойчивости к растворителям после формирования слоя, предпочтительной является отверждаемая смола, и более предпочтительной является термоотверждающаяся смола. Кроме того, из термоотверждающихся смол термоотверждающаяся фенольная смола и термоотверждающийся полиуретан являются предпочтительными. В случае применения отверждаемой смолы в качестве связующего материала в электропроводном слое, связующий материал, содержащийся в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, является мономером и/или олигомером отверждаемой смолы.

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, включают, спирты, такие как метанол, этанол и изопропанол, кетоны, такие как ацетон, метилэтилкетон и циклогексанон, эфиры, такие как тетрагидрофуран, диоксан, монометиловый эфир этиленгликоля и монометиловый эфир пропиленгликоля, сложные эфиры, такие как метилацетат и этилацетат, и ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол.

Кроме того, огрубляющий материал для придания шероховатости поверхности электропроводного слоя может быть включен в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя для того, чтобы предотвратить образование интерференционных полос на выводимом изображении вследствие интерференции света, отраженного на поверхности электропроводного слоя. Частицы смолы, имеющие средний диаметр от 1 мкм или более до 5 мкм или менее являются предпочтительными в качестве материала для придания шероховатости поверхности. Примеры частиц смолы включают частицы отверждаемых смол, таких как отверждаемый каучук, полиуретан, эпоксидная смола, алкидная смола, фенольная смола, сложный полиэфир, кремнийорганическая смола и акрилмеламиновая смола. Из них, частицы кремнийорганической смолы, которые практически не агрегируют, являются предпочтительными. Плотность (от 0,5 до 2 г/см3) частиц смолы является малой по сравнению с плотностями (от 4 до 8 г/см3) первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, и, следовательно, поверхности электропроводного слоя может быть эффективным образом придана шероховатость во время формирования электропроводного слоя. При этом, однако, когда содержание материала для придания шероховатости поверхности в электропроводном слое увеличивается, объемное удельное сопротивление электропроводного слоя имеет тенденцию к увеличению в некоторых случаях. Соответственно, содержание материала для придания шероховатости поверхности в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 1 до 80% по массе по отношению к связующему материалу в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя для регулирования объемного удельного сопротивления электропроводного слоя до 2,0×1013 Ом·см или менее. В данном изобретении, плотности [г/см3] первых частиц оксида металла, вторых частиц оксида металла, связующего материала (при условии, что, когда связующий материал являлся жидкостью, его отвержденный продукт был подвергнут измерению), частиц кремнийорганической смолы, и т.п. определяли с помощью автоматического денсиметра сухого типа, как описано ниже. Продувку газообразным гелием выполняли десять раз в качестве предварительной обработки для частиц в качестве объектов измерения при температуре 23°C и максимальном давлении 19,5 фунтов на кв. дюйм изб. давления (134 кПа) с помощью автоматического денсиметра сухого типа производства компании Shimadzu Corporation (торговое наименование: Accupyc 1330) и сосуда, имеющего объем 10 см3. После этого, колебание в давлении в камере для образца 0,0050 фунта на кв. дюйм изб. давления/мин (34,47 Па/мин) использовали в качестве показателя величины, определяющей равновесное состояние давления, который указывает, достигло ли давление внутри сосуда равновесия. Когда колебание было равно указанной величине или менее, давление определяли как находящееся в равновесном состоянии, и затем инициировали измерение, чтобы измерять любую такую плотность [г/см3] автоматически.

Кроме того, выравнивающий агент для улучшения поверхностных свойств электропроводного слоя может быть включен в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя. Кроме того, частицы пигмента могут быть включены в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя для дополнительного улучшения покрытия электропроводного слоя.

Кроме того, средний диаметр частиц первых частиц оксида металла (частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, или частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова) в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 0,10 мкм или более до 0,45 мкм или менее, более предпочтительно от 0,15 мкм или более до 0,40 мкм или менее. Когда средний диаметр частиц составляет менее чем 0,10 мкм, склонно происходить повторное агрегирование первых частиц оксида металла после приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя, и, следовательно, стабильность раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя может уменьшаться. Когда средний диаметр частиц составляет более чем 0,45 мкм, поверхность электропроводного слоя огрубляется, что промотирует возникновение локальной инжекции электрических зарядов в фоточувствительный слой, и, следовательно, черные пятна на белом фоне выводимого изображения могут становиться заметными.

Кроме того, средний диаметр частиц вторых частиц оксида металла (частиц P-легированного оксида олова, частиц W-легированного оксида олова, частиц F-легированного оксида олова, частиц Nb-легированного оксида олова или Ta-легированного оксида олова) в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 0,01 мкм или более до 0,45 мкм или менее, более предпочтительно от 0,01 мкм или более до 0,10 мкм или менее.

Средний диаметр частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла, в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя может быть определен посредством представленного ниже метода жидкофазного осаждения или обследованием изображений поперечного сечения, полученных сканирующей электронной микроскопией (SEM).

Вначале раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя разбавляют растворителем, используемым для его приготовления, таким образом, что его прозрачность может находиться в интервале от 0,8 до 1,0. Затем создают гистограмму среднего диаметра частиц (объемного среднего диаметра частиц) и распределения по размеру частиц оксида металла с помощью ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру. В данном изобретении, измерение выполняли с помощью ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру (торговое наименование: CAPA 700) производства компании HORIBA, Ltd. в качестве ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру при скорости вращения 3000 об/мин.

С точки зрения покрывания дефектов поверхности основы, толщина электропроводного слоя составляет предпочтительно от 10 мкм или более до 40 мкм или менее, более предпочтительно от 15 мкм или более до 35 мкм или менее.

Следует заметить, что, в данном изобретении, в качестве прибора для измерения толщины каждого слоя электрофотографического фоточувствительного элемента, включающего электропроводный слой, был использован FISHERSCOPE mms производства компании Fisher Instruments K.K.

Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляет предпочтительно от 1,0×108 Ом·см или более до 2,0×1013 Ом·см или менее. Когда слой, имеющий объемное удельное сопротивление 2,0×1013 Ом·см или менее, предоставлен на основе в качестве слоя для покрывания дефектов на поверхности основы, поток зарядов практически не прерывается во время формирования изображения, и, следовательно, остаточный потенциал практически не увеличивается. В то же время, когда объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляет 1,0×108 Ом·см или более, количество зарядов, протекающих в электропроводном слое во время зарядки электрофотографического фоточувствительного элемента, не становится чрезмерно большим, и, следовательно, вуалирование вследствие увеличения истощения темной области электрофотографического фоточувствительного элемента практически не происходит.

Метод измерения объемного удельного сопротивления проводящего слоя электрофотографического фоточувствительного элемента описан при ссылках на Фиг. 2 и 3. Фиг. 2 представляет собой вид сверху для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя, и Фиг. 3 представляет собой вид в поперечном разрезе для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Объемное удельное сопротивление проводящего слоя измеряют в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)). Медную ленту 203 (производства компании Sumitomo 3M Limited, тип №1181) прикрепляют к поверхности электропроводного слоя 202 и используют в качестве электрода на стороне передней поверхности электропроводного слоя 202. Кроме того, основу 201 используют в качестве электрода на тыльной стороне электропроводного слоя 202. Источник питания 206 для приложения электрического напряжения между медной лентой 203 и основой 201 и токоизмерительный прибор 207 для измерения тока, протекающего между медной лентой 203 и основой 201, размещают соответствующим образом. Кроме того, медную проволоку 204 размещают на медной ленте 203 для приложения напряжения к медной ленте 203 и затем медную проволоку 204 закрепляют на медной ленте 203 посредством присоединения медной ленты 205 аналогичным образом к медной ленте 203 поверх медной проволоки 204 таким образом, что медная проволока 204 не выступает от медной ленты 203. Напряжение прикладывают к медной ленте 203 посредством медной проволоки 204.

Когда величину фонового тока в случае, в котором напряжение не приложено между медной лентой 203 и основой 201, обозначают как I0 [A], величину тока в случае, в котором прикладывают напряжение -1 В, образованное лишь напряжением постоянного тока (компонентом постоянного тока), обозначают как I [А], толщину электропроводного слоя 202 обозначают как d [см], и площадь электрода (медной ленты 203) на стороне передней поверхности электропроводного слоя 202 обозначают как S [см2], величину, представленную приведенным ниже выражением (26), определяют как объемное удельное сопротивление ρ [Ом·см] электропроводного слоя 202.

ρ=1/(I-I0)×S/d [Ом·см] (26)

Это измерение предпочтительно выполняют с помощью прибора, способного к измерению очень малой величины тока в качестве прибора 207 для измерения тока, поскольку очень малый ток, абсолютная величина которого составляет 1×10-6 A или менее, измеряют в данном измерении. Примеры такого прибора включают измеритель пА (торговое наименование: 4140B) производства компании Yokogawa Hewlett-Packard и измеритель высокого сопротивления (торговое наименование: 4339B) производства компании Agilent Technologies.

Следует заметить, что объемное удельное сопротивление электропроводного слоя, измеренное в состоянии, в котором лишь электропроводный слой сформирован на основе, и измерении в состоянии, в котором лишь электропроводный слой оставлен на основе посредством удаления каждого слоя (такого как фоточувствительный слой) на электропроводном слое с электрофотографического фоточувствительного элемента, показывает такую же величину.

Для того, чтобы предотвратить инжекцию зарядов из электропроводного слоя в фоточувствительный слой, промежуточный слой (барьерный слой), обладающий свойствами электрического барьера, может быть предоставлен между электропроводным слоем и фоточувствительным слоем.

Промежуточный слой может быть сформирован посредством нанесения на электропроводный слой покрытия из раствора материала покрытия для формирования промежуточного слоя, содержащего смолу (связующий материал), и сушки результирующей покровной пленки.

Примеры смолы (связующего материала), используемой в промежуточном слое, включают поливиниловый спирт, поливинилметилэфир, полиакриловые кислоты, метилцеллюлозу, этилцеллюлозу, полиглутаминовую кислоту, казеин, крахмал, и другие водорастворимые смолы, полиамид, полиимид, полиамидимид, полиамидокислоту, меламиновую смолу, эпоксидную смолу, полиуретан и полиглутамат. Из них термопластичные смолы являются предпочтительными, чтобы эффективным образом проявлять свойства электрического барьера промежуточного слоя. Из термопластичных смол предпочтительной является термопластичная полиамидная смола. Полиамид предпочтительно является сополимеризованным нейлоном.

Толщина промежуточного слоя составляет предпочтительно от 0,1 мкм или более до 2,0 мкм или менее.

Кроме того, вещество для переноса электронов (электроноакцепторное вещество, такое как акцептор) может быть включено в промежуточный слой, чтобы предотвращать прерывание потока зарядов в промежуточном слое.

Примеры вещества для переноса электронов включают электроноакцепторные вещества, такие как 2,4,7-тринитрофлуоренон, 2,4,5,7-тетранитрофлуоренон, хлоранил и тетрацианохинодиметан, и полимеры таких электроноакцепторных веществ.

Фоточувствительный слой формируют на электропроводном слое (промежуточном слое).

Примеры вещества, генерирующего заряды, используемого в фоточувствительном слое, включают: азопигменты, такие как моноазопигменты, диазопигменты и триазопигменты; фталоцианиновые пигменты, такие как фталоцианин металла и неметаллический фталоцианинный комплекс; индиговые пигменты, такие как индиго и тиоиндиго; периленовые пигменты, такие как ангидрид периленовой кислоты и имид периленовой кислоты; полициклические хиноновые пигменты, такие антрахинон и пиренхинон; скварилиевые красители; пирилиевые соли и тиапирилиевые соли; трифенилметановые красители; хинакридоновые пигменты; пигменты на основе солей азуления; цианиновые красители; ксантеновые красители; хинониминовые красители; и стириловые красители. Из них предпочтительными являются фталоцианины металлов, такие как фталоцианин оксититана, фталоцианин гидроксигаллия и фталоцианин хлоргаллия.

Когда фоточувствительный слой является ламинированным фоточувствительным слоем, слой для генерации зарядов может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов, который приготавливают диспергированием вещества, генерирующего заряды, в растворителе вместе со связующим материалом и последующей сушкой полученной покровной пленки. В качестве метода диспергирования, используют, например, методы с применением гомогенизатора, ультразвуковой волны, шаровой мельницы, песочной мельницы, аттритора и валковой мельницы.

Примеры связующего материала, используемого в слое для генерации зарядов, включают поликарбонат, сложный полиэфир, полиарилат, бутиральную смолу, полистирол, поливинилацеталь, диаллилфталатную смолу, акриловую смолу, метакриловую смолу, винилацетатную смолу, фенольную смолу, кремнийорганическую смолу, полисульфон, стирол-бутадиеновый сополимер, алкидную смолу, эпоксидную смолу, полимочевину и сополимер винилхлорида-винилацетата. Эти связующие материалы могут быть использованы в отдельности или в виде смеси или сополимера двух или более их видов.

Отношение вещества, генерирующего заряды, к связующему материалу (вещество, генерирующее заряды : связующий материал) находится в пределах интервала предпочтительно от 10:1 до 1:10 (массовое отношение), более предпочтительно от 5:1 до 1:1 (массовое отношение).

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов, включают спирт, сульфоксид, кетон, простой эфир, сложный эфир, алифатический галогенированный углеводород и ароматическое соединение.

Толщина слоя для генерации зарядов составляет предпочтительно 5 мкм или менее, более предпочтительно от 0,1 мкм или более до 2 мкм или менее.

Кроме того, любой из различных сенсибилизаторов, антиоксидантов, УФ абсорберов, пластификаторов и т.п. может быть добавлен к слою для генерации зарядов, в случае необходимости. Кроме того, вещество для переноса электронов (электроноакцепторное вещество, такое как акцептор) может быть включено в слой для генерации зарядов, чтобы предотвращать прерывание потока зарядов в слое для генерации зарядов.

Примеры вещества для переноса электронов включают электроноакцепторные вещества, такие как 2,4,7-тринитрофлуоренон, 2,4,5,7-тетранитрофлуоренон, хлоранил и тетрацианохинодиметан, и полимеры таких электроноакцепторных веществ.

Примеры вещества, переносящего заряды, используемого в фоточувствительном слое включают триариламиновое соединение, гидразоновое соединение, стириловое соединение, стильбеновое соединение, пиразолиновое соединение, оксазоловое соединение, тиазоловое соединение и триарилметановое соединение.

Когда фоточувствительный слой является ламинированным фоточувствительным слоем, слой для переноса зарядов может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов, который приготавливают растворением вещества, переносящего заряды, и связующего материала в растворителе и последующей сушкой полученной покровной пленки.

Примеры связующего материала, используемого в слое для переноса зарядов, включают акриловую смолу, стирольную смолу, сложный полиэфир, поликарбонат, полиарилат, полисульфон, полифениленоксид, эпоксидную смолу, полиуретан, алкидную смолу и ненасыщенную смолу. Эти связующие материалы могут быть использованы в отдельности или в виде смеси или сополимера двух или более их видов.

Отношение вещества, переносящего заряды, к связующему материалу (вещество, переносящее заряды : связующий материал) предпочтительно находится в пределах интервала от 2:1 до 1:2 (массовое отношение).

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов, включают: кетоны, такие как ацетон и метилэтилкетон, сложные эфиры, такие как метилацетат и этилацетат, эфиры, такие как диметоксиметан и диметоксиэтан, ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол, и углеводороды, замещенные атомом галогена, такие как хлорбензол, хлороформ и четыреххлористый углерод.

Толщина слоя для переноса зарядов составляет предпочтительно от 3 мкм или более до 40 мкм или менее, более предпочтительно от 4 мкм или более до 30 мкм или менее с точки зрения равномерности зарядки и воспроизводимости изображения.

Кроме того, антиоксидант, УФ абсорбер или пластификатор могут быть добавлены к слою для переноса зарядов, в случае необходимости.

Когда фоточувствительный слой является однослойным фоточувствительным слоем, однослойный фоточувствительный слой может быть сформирован нанесением раствора материала покрытия для формирования однослойного фоточувствительного слоя, содержащего вещество, генерирующее заряды, вещество, переносящее заряды, связующий материал и растворитель, и последующей сушкой результирующей покровной пленки. В качестве вещества, генерирующего заряды, вещества, переносящего заряды, связующего материала и растворителя могут быть использованы, например, те материалы, различные виды которых были описаны выше.

Кроме того, защитный слой может быть сформирован на фоточувствительном слое, чтобы защитить фоточувствительный слой. Защитный слой может быть образован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования защитного слоя, содержащего смолу (связующий материал), и последующей сушки и/или отверждения результирующей покровной пленки.

Толщина защитного слоя составляет предпочтительно от 0,5 мкм или более до 10 мкм или менее, более предпочтительно от 1 мкм или более до 8 мкм или менее.

При нанесении каждого из растворов материала покрытия для формирования соответствующих слоев, могут быть использованы такие методы нанесения покрытия, как нанесение покрытия погружением, нанесение покрытия распылением, нанесение покрытия центрифугированием, валковое нанесение покрытия, нанесение покрытия стержнем Мейера и ракельное нанесения покрытия.

Фиг. 1 иллюстрирует в схематическом виде пример конструкции электрофотографического устройства, включающего технологический картридж, имеющий электрофотографический фоточувствительный элемент.

На Фиг. 1 электрофотографический фоточувствительный элемент 1, имеющий форму барабана (цилиндрическую форму), приводится во вращение вокруг оси 2 в направлении, указанном стрелкой, при заданной окружной скорости.

Периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1, приводимого во вращение, равномерно заряжается положительным или отрицательным заданным потенциалом посредством узла 3 для зарядки (такого как первичный узел для зарядки или зарядный ролик) и затем принимает экспонирующий свет (свет, передающий изображение) 4, эмитируемым из узла для экспонирования (не показан), такого как узел для щелевого экспонирования или экспонирования сканированием лазерным лучом. Таким образом, электростатические скрытые изображения, соответствующие целевым изображениям, формируются на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1. Напряжение, прикладываемое к узлу 3 для зарядки, может быть лишь напряжением постоянного тока или может быть напряжением постоянного тока с наложением электрического напряжения переменного тока.

Электростатические скрытые изображения, сформированные на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, преобразуются в изображения из тонера посредством проявления тонером узла 5 для проявления. После этого изображения из тонера, сформированные на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, переносятся на передающий материал (например, бумагу) P посредством смещения для переноса от узла 6 для переноса (такого как передаточный валик). Передающий материал P подается из узла для подачи материала для переноса (не показан) к участку (участку прилегания) между электрофотографическим фоточувствительным элементом 1 и узлом 6 для переноса синхронно с вращением электрофотографического светочувствительного элемента 1.

Передающий материал P, который принял передачу тонерных изображений, отделяется от периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, вводится в фиксирующий узел 8, подвергается фиксированию изображения и затем выводится в качестве продукта со сформированным изображением (отпечатка или копии) из устройства.

Периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1 после переноса тонерных изображений подвергается удалению тонера, оставшегося после переноса, узлом 7 для очистки (таким как очистной ракельный нож). Кроме того, периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1 подвергается процессу нейтрализации с помощью предэкспозиционного света 11 от узла для предварительного экспонирования (не показан), и после этого повторно используется для формирования изображения. Следует заметить, что, когда узел для зарядки является узлом для контактной зарядки, таким как зарядный ролик, предварительное экспонирование не всегда требуется. Также следует заметить, что, когда электрофотографическое устройство является системой без очистителя, узел для очистки не всегда требуется.

Электрофотографический фоточувствительный элемент 1 и по меньшей мере один конструктивный элемент, выбранный из узла 3 для зарядки, узла 5 для проявления, узла 6 для переноса, узла 7 для очистки и т.п., могут быть размещены в кассете и затем поддерживаться объединенным образом в качестве технологического картриджа. Кроме того, технологический картридж может быть присоединен с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства. На Фиг. 1, электрофотографический фоточувствительный элемент 1 и узел 3 для зарядки, узел 5 для проявления и узел 7 для очистки поддерживаются объединенным образом в качестве картриджа, образуя тем самым технологический картридж 9, который присоединен с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства посредством применения направляющего узла 10, такого как полозки основного корпуса электрофотографического устройства. Кроме того, электрофотографическое устройство может иметь конструкцию, включающую электрофотографический фоточувствительный элемент 1, и узел 3 для зарядки, узел для экспонирования, узел 5 для проявления и узел 6 для переноса.

Пример

Далее в данном документе, данное изобретение описано более подробно посредством конкретных примеров, однако данное изобретение не ограничивается ими. Следует заметить, что термин «часть(и)» в каждом из Примеров и Сравнительных примеров означает «часть(и) по массе», термин «средний диаметр частиц» означает «средний диаметр первичных частиц», единица измерения «%» доли покровного слоя в каждой таблице означает «% по массе», и единица измерения «%» степени легирования (доли легирующего элемента) означает «% по массе». В дополнение к этому, каждая из плотностей в Примерах и таблицах является величиной, определенной представленным выше методом, и каждая из них представлена при единице измерения «г/см3».

<Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя>

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1)

112,00 частей частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 230 нм, удельное сопротивление порошка: 5000 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 4,50% по массе, доля покровного слоя: 45% по массе, плотность: 5,1 г/см3) в качестве первых частиц оксида металла, 3,00 части частиц P-легированного оксида олова (средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельное сопротивление порошка: 300 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 3,60% по массе, плотность: 6,8 г/см3) в качестве вторых частиц оксида металла, 266,67 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 120 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 465 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4,5 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 5,00 частей частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,30 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, с CP-141 по CP-233, с CP-281 по CP-373, с CP-421 по CP-513 и с CP-561 по CP-653)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, с CP-141 по CP-233, с CP-281 по CP-373, с CP-421 по CP-513 и с CP-561 по CP-653 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид (включая долю покровного слоя, степень легирования и плотность, то же самое относится к последующему) и количество первых частиц оксида металла, вид (включая степень легирования и плотность, то же самое относится к последующему) и количество вторых частиц оксида металла, и количество связующего материала изменяли таким образом, как показано в Таблицах с 1 по 3, с 8 по 10, с 15 по 17, с 44 по 46 и с 49 по 51.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-7, CP-13, CP-19, CP-24, CP-29, CP-35, CP-40, CP-45, CP-50, CP-55, CP-61, CP-66, CP-71, CP-77, CP-83 и CP-89, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-2, CP-8, CP-14, CP-20, CP-25, CP-30, CP-36, CP-41, CP-46, CP-51, CP-56, CP-62, CP-67, CP-72, CP-78, CP-84 и CP-90, имели удельное сопротивление порошка 250 Ом·см. Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-3, CP-6, CP-9, CP-12, CP-15, CP-18, CP-21, CP-26, CP-31, CP-34, CP-37, CP-42, CP-47, CP-52, CP-57, CP-60, CP-63, CP-68, CP-73, CP-76, CP-79, CP-82, CP-85, CP-88 и CP-91, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-4, CP-10, CP-16, CP-22, CP-27, CP-32, CP-38, CP-43, CP-48, CP-53, CP-58, CP-64, CP-69, CP-74, CP-80, CP-86 и CP-92, имели удельное сопротивление порошка 150 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-5, CP-11, CP-17, CP-23, CP-28, CP-33, CP-39, CP-44, CP-49, CP-54, CP-59, CP-65, CP-70, CP-75, CP-81, CP-87 и CP-93, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-141 по CP-233, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-141, CP-147, CP-153, CP-159, CP-164, CP-169, CP-175, CP-180, CP-185, CP-190, CP-195, CP-201, CP-206, CP-211, CP-217, CP-223 и CP-229, имели удельное сопротивление порошка 180 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-142, CP-148, CP-154, CP-160, CP-165, CP-170, CP-176, CP-181, CP-186, CP-191, CP-196, CP-202, CP-207, CP-212, CP-218, CP-224 и CP-230, имели удельное сопротивление порошка 140 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-143, CP-146, CP-149, CP-152, CP-155, CP-158, CP-161, CP-166, CP-171, CP-174, CP-177, CP-182, CP-187, CP-192, CP-197, CP-200, CP-203, CP-208, CP-213, CP-216, CP-219, CP-222, CP-225, CP-228 и CP-231, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-144, CP-150, CP-156, CP-162, CP-167, CP-172, CP-178, CP-183, CP-188, CP-193, CP-198, CP-204, CP-209, CP-214, CP-220, CP-226 и CP-232, имели удельное сопротивление порошка 70 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-145, CP-151, CP-157, CP-163, CP-168, CP-173, CP-179, CP-184, CP-189, CP-194, CP-199, CP-205, CP-210, CP-215, CP-221, CP-227 и CP-233, имели удельное сопротивление порошка 30 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-281 по CP-373, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-281, CP-287, CP-293, CP-299, CP-304, CP-309, CP-315, CP-320, CP-325, CP-330, CP-335, CP-341, CP-346, CP-351, CP-357, CP-363 и CP-369, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-282, CP-288, CP-294, CP-300, CP-305, CP-310, CP-316, CP-321, CP-326, CP-331, CP-336, CP-342, CP-347, CP-352, CP-358, CP-364 и CP-370, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-283, CP-286, CP-289, CP-292, CP-295, CP-298, CP-301, CP-306, CP-311, CP-314, CP-317, CP-322, CP-327, CP-332, CP-337, CP-340, CP-343, CP-348, CP-353, CP-356, CP-359, CP-362, CP-365, CP-368 и CP-371, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-284, CP-290, CP-296, CP-302, CP-307, CP-312, CP-318, CP-323, CP-328, CP-333, CP-338, CP-344, CP-349, CP-354, CP-360, CP-366 и CP-372, имели удельное сопротивление порошка 170 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-285, CP-291, CP-297, CP-303, CP-308, CP-313, CP-319, CP-324, CP-329, CP-334, CP-339, CP-345, CP-350, CP-355, CP-361, CP-367 и CP-373, имели удельное сопротивление порошка 130 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-421 по CP-513, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-421, CP-427, CP-433, CP-439, CP-444, CP-449, CP-455, CP-460, CP-465, CP-470, CP-475, CP-481, CP-486, CP-491, CP-497, CP-503 и CP-509, имели удельное сопротивление порошка 400 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-422, CP-428, CP-434, CP-440, CP-445, CP-450, CP-456, CP-461, CP-466, CP-471, CP-476, CP-482, CP-487, CP-492, CP-498, CP-504 и CP-510, имели удельное сопротивление порошка 360 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-423, CP-426, CP-429, CP-432, CP-435, CP-438, CP-441, CP-446, CP-451, CP-454, CP-457, CP-462, CP-467, CP-472, CP-477, CP-480, CP-483, CP-488, CP-493, CP-496, CP-499, CP-502, CP-505, CP-508 и CP-511, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-424, CP-430, CP-436, CP-442, CP-447, CP-452, CP-458, CP-463, CP-468, CP-473, CP-478, CP-484, CP-489, CP-494, CP-500, CP-506 и CP-512, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-425, CP-431, CP-437, CP-443, CP-448, CP-453, CP-459, CP-464, CP-469, CP-474, CP-479, CP-485, CP-490, CP-495, CP-501, CP-507 и CP-513, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-561 по CP-653, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-561, CP-567, CP-573, CP-579, CP-584, CP-589, CP-595, CP-600, CP-605, CP-610, CP-615, CP-621, CP-626, CP-631, CP-637, CP-643 и CP-649, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-562, CP-568, CP-574, CP-580, CP-585, CP-590, CP-596, CP-601, CP-606, CP-611, CP-616, CP-622, CP-627, CP-632, CP-638, CP-644 и CP-650, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-563, CP-566, CP-569, CP-572, CP-575, CP-578, CP-581, CP-586, CP-591, CP-594, CP-597, CP-602, CP-607, CP-612, CP-617, CP-620, CP-623, CP-628, CP-633, CP-636, CP-639, CP-642, CP-645, CP-648 и CP-651, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-564, CP-570, CP-576, CP-582, CP-587, CP-592, CP-598, CP-603, CP-608, CP-613, CP-618, CP-624, CP-629, CP-634, CP-640, CP-646 и CP-652, имели удельное сопротивление порошка 110 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-565, CP-571, CP-577, CP-583, CP-588, CP-593, CP-599, CP-604, CP-609, CP-614, CP-619, CP-625, CP-630, CP-635, CP-641, CP-647 и CP-653, имели удельное сопротивление порошка 65 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, с CP-234 по CP-280, с CP-374 по CP-420, с CP-514 по CP-560 и с CP-654 по CP-700)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, с CP-234 по CP-280, с CP-374 по CP-420, с CP-514 по CP-560 и с CP-654 по CP-700 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла, количество связующего материала и количество частиц кремнийорганической смолы изменяли таким образом, как показано в Таблицах 3, 4, 11, 12, 18, 19, 46, 47, 52 и 53; и процедуру для диспергирующей обработки выполняли посредством добавления 30,00 частей непокрытых частиц оксида титана (удельное сопротивление порошка: 5,0×107 Ом·см, средний диаметр частиц: 210 нм, плотность: 4,2 г/см3) во время процедуры для диспергирующей обработки. Следует заметить, что когда приготавливали растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-139, CP-279, CP-419, CP-559 и CP-699, скорость вращения диска и продолжительность диспергирующей обработки в условиях диспергирующей обработки изменяли до 2500 об/мин и 10 часов, соответственно. Кроме того, когда приготавливали растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-140, CP-280, CP-420, CP-560 и CP-700, скорость вращения диска и продолжительность диспергирующей обработки в условиях диспергирующей обработки изменяли до 2500 об/мин и 30 часов, соответственно.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-94, CP-99, CP-104, CP-109, CP-114, CP-119, CP-124, CP-129 и CP-134, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-95, CP-100, CP-105, CP-110, CP-115, CP-120, CP-125, CP-130 и CP-135, имели удельное сопротивление порошка 250 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-96, CP-101, CP-106, CP-111, CP-116, CP-121, CP-126, CP-131, CP-136, CP-139 и CP-140, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-97, CP-102, CP-107, CP-112, CP-117, CP-122, CP-127, CP-132 и CP-137, имели удельное сопротивление порошка 150 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-98, CP-103, CP-108, CP-113, CP-118, CP-123, CP-128, CP-133 и CP-138, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-234 по CP-280, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-234, CP-239, CP-244, CP-249, CP-254, CP-259, CP-264, CP-269 и CP-274, имели удельное сопротивление порошка 180 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-235, CP-240, CP-245, CP-250, CP-255, CP-260, CP-265, CP-270 и CP-275, имели удельное сопротивление порошка 140 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-236, CP-241, CP-246, CP-251, CP-256, CP-261, CP-266, CP-271, CP-276, CP-279 и CP-280, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-237, CP-242, CP-247, CP-252, CP-257, CP-262, CP-267, CP-272 и CP-277, имели удельное сопротивление порошка 70 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-238, CP-243, CP-248, CP-253, CP-258, CP-263, CP-268, CP-273 и CP-278, имели удельное сопротивление порошка 30 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-374 по CP-420, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-374, CP-379, CP-384, CP-389, CP-394, CP-399, CP-404, CP-409 и CP-414, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-375, CP-380, CP-385, CP-390, CP-395, CP-400, CP-405, CP-410 и CP-415, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-376, CP-381, CP-386, CP-391, CP-396, CP-401, CP-406, CP-411, CP-416, CP-419 и CP-420, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-377, CP-382, CP-387, CP-392, CP-397, CP-402, CP-407, CP-412 и CP-417, имели удельное сопротивление порошка 170 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-378, CP-383, CP-388, CP-393, CP-398, CP-403, CP-408, CP-413 и CP-418, имели удельное сопротивление порошка 130 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-514 по CP-560, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-514, CP-519, CP-524, CP-529, CP-534, CP-539, CP-544, CP-549 и CP-554, имели удельное сопротивление порошка 400 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-515, CP-520, CP-525, CP-530, CP-535, CP-540, CP-545, CP-550 и CP-555, имели удельное сопротивление порошка 360 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-516, CP-521, CP-526, CP-531, CP-536, CP-541, CP-546, CP-551, CP-556, CP-559 и CP-560, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-517, CP-522, CP-527, CP-532, CP-537, CP-542, CP-547, CP-552 и CP-557, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-518, CP-523, CP-528, CP-533, CP-538, CP-543, CP-548, CP-553 и CP-558, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-654 по CP-700, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-654, CP-659, CP-664, CP-669, CP-674, CP-679, CP-684, CP-689 и CP-694, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-655, CP-660, CP-665, CP-670, CP-675, CP-680, CP-685, CP-690 и CP-695, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-656, CP-661, CP-666, CP-671, CP-676, CP-681, CP-686, CP-691, CP-696, CP-699 и CP-700, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-657, CP-662, CP-667, CP-672, CP-677, CP-682, CP-687, CP-692 и CP-697, имели удельное сопротивление порошка 110 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-658, CP-663, CP-668, CP-673, CP-678, CP-683, CP-688, CP-693 и CP-698, имели удельное сопротивление порошка 65 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C22, с CP-C42 по CP-C63, с CP-C76 по CP-C97, с CP-C107 по CP-C128 и с CP-C129 по CP-C150)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C22, с CP-C42 по CP-C63, с CP-C76 по CP-C97, с CP-C107 по CP-C128 и с CP-C129 по CP-C150 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла и количество связующего материала изменяли (включая изменение в отношении того, были ли использованы первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла или нет, то же самое относится к последующему), как представлено в Таблицах 5, 13, 20, 48 и 54.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C9 и с CP-C13 по CP-C22, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C4 по CP-C22, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C42 по CP-C50 и с CP-C54 по CP-C63, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C45 по CP-C63, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C76 по CP-C84 и с CP-C88 по CP-C97, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C79 по CP-C97, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C107 по CP-C115 и с CP-C119 по CP-C128, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C110 по CP-C128, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C129 по CP-C137 и с CP-C141 по CP-C150, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C132 по CP-C150, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C35, с CP-C64 по CP-C71, с CP-C98 по CP-C105, с CP-C151 по CP-C178 и CP-C179)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C35, с CP-C64 по CP-C71, с CP-C98 по CP-C105 и с CP-C151 по CP-C179 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла и количество связующего материала изменяли таким образом, как показано в Таблицах 6, 7, 14, 21 и с 55 по 58. Следует заметить, что в таблицах, например, частицы оксида титана, которые покрыты оксидом олова, обедненным кислородом, (частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом) не соответствуют первым частицам оксида металла в соответствии с данным изобретением, и частицы оксида олова, обедненного кислородом, не соответствуют вторым частицам оксида металла в соответствии с данным изобретением, однако данные частицы были показаны в соответствующих колонках для удобства использования в качестве примеров, сравниваемых с данным изобретением. То же самое относится к последующему.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C26 по CP-C28, с CP-C31 по CP-C32, CP-C153 и CP-C154, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C35, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C25, CP-C29, CP-C30, CP-C35, CP-151 и CP-152, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C67 по CP-C69, CP-C104, CP-C157 и CP-C158, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C71, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C31, с CP-C64 по CP-C66, CP-C70, CP-C71, CP-C155 и CP-C156, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C30, CP-C70, с CP-C101 по CP-C103, CP-C161 и CP-C162, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C105, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C32, CP-C159 и CP-C160, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C151, CP-C155, CP-C159, с CP-C166 по CP-C168 и CP-C170, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C171, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C153, CP-C157, CP-C161, с CP-C163 по CP-C165, CP-C169 и CP-C171, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C152, CP-C156, CP-C160, CP-C169 и с CP-C175 по CP-C177, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C178, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C154, CP-C158, CP-C162, CP-C170, с CP-C172 по CP-C174 и CP-C178, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C23, CP-C64, CP-C98, CP-C163 и CP-C172, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C24, CP-C33, CP-C65, CP-C99, CP-C164, CP-C173 и CP-C179, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C25, CP-C34, CP-C66, CP-C100, CP-C165 и CP-C174, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частиц оксида олова, обедненного кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C26, CP-C33, CP-C67, CP-C101, CP-C166, CP-C175 и CP-C179, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида индия-олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C27, CP-C68, CP-C102, CP-C167 и CP-C176, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида олова, легированного Sb, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C28, CP-C34, CP-C69, CP-C103, CP-C168 и CP-C177, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36)

Жидкий материал покрытия для формирования промежуточного слоя Примера 1, описанного в Патентном документе 4, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36.

А именно, 20 частей частиц сульфата бария, покрытых оксидом олова, обедненным кислородом, (доля покровного слоя: 50% по массе, средний диаметр первичных частиц: 600 нм, удельный вес: 5,1 (плотность=5,1 г/см3)), 100 частей частиц оксида олова, легированного сурьмой, (торговое наименование: T-1, производства компании Mitsubishi Materials Corporation, средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельное сопротивление порошка: 5 Ом·см, удельный вес: 6,6 (плотность=6,6 г/см3)), 70 частей фенольной смолы резольного типа (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60%) в качестве связующего материала, и 100 частей 2-метокси-1-пропанола загружали в шаровую мельницу и затем подвергали диспергирующей обработке в течение 20 часов, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C37)

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C37 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36, за исключением того, что частицы оксида олова, легированного сурьмой, заменяли на частицы оксида олова, легированного танталом (средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельный вес: 6,1 (плотность=6,1 г/см3)).

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-7, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38.

А именно, 46 частей частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 220 нм, удельное сопротивление порошка: 100 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-21, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39.

А именно, 44 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 40 нм, удельное сопротивление порошка: 500 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 8% по массе, доля покровного слоя: 20%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 1, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 40 Ом·см, доля покровного слоя: 35% по массе, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 3% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 4, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 500 Ом·см, доля покровного слоя: 35% по массе, количество (степень легирования) фосфора (P), легирующего оксид олова (SnO2): 0,05% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-10, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72.

А именно, 53 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 220 нм, удельное сопротивление порошка: 150 Ом·см, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-22, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73.

А именно, 46 частей частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 40 нм, удельное сопротивление порошка: 550 Ом·см, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 8% по массе, доля покровного слоя: 20%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-22, описанный в Патентном документе 2.

Данный раствор материала покрытия определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 10, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 25 Ом·см, доля покровного слоя: 33% по массе, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 3% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 13, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 69 Ом·см, доля покровного слоя: 33% по массе, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 0,1% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-30, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106.

А именно, 60 частей частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 75 нм, удельное сопротивление порошка: 300 Ом·см, количество (степень легирования) фтора, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106.

Таблица 1
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части]
(содержание сухого остатка
смолы составляет 60% по
массе от количества,
указанного ниже)
Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-1 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 112,00 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 3,60 6,8 3,00 1,3 266,67 1,3 5,00 Нет
CP-2 45 4,50 5,1 112,00 4,05 6,7 2,95 1,3 266,75 1,3 5,00
CP-3 45 4,50 5,1 112,00 4,50 6,7 2,95 1,3 266,75 1,3 5,00
CP-4 45 4,50 5,1 112,00 4,95 6,7 2,95 1,3 266,75 1,3 5,00
CP-5 45 4,50 5,1 112,00 5,40 6,7 2,95 1,3 266,75 1,3 5,00
CP-6 45 4,50 5,1 108,50 4,50 6,7 7,15 1,3 265,58 1,3 5,00
CP-7 45 4,50 5,1 99,80 3,60 6,8 17,30 1,3 263,17 1,3 5,00
CP-8 45 4,50 5,1 99,90 4,05 6,7 17,06 1,3 263,40 1,3 5,00
CP-9 45 4,50 5,1 99,90 4,50 6,7 17,06 1,3 263,40 1,3 5,00
CP-10 45 4,50 5,1 99,90 4,95 6,7 17,06 1,3 263,40 1,3 5,00
CP-11 45 4,50 5,1 99,90 5,40 6,7 17,06 1,3 263,40 1,3 5,00
CP-12 45 4,50 5,1 93,50 4,50 6,7 24,60 1,3 261,50 1,3 5,00
CP-13 45 4,50 5,1 89,30 3,60 6,8 29,80 1,3 259,83 1,3 5,00
CP-14 45 4,50 5,1 89,40 4,05 6,7 29,40 1,3 260,33 1,3 5,00
CP-15 45 4,50 5,1 89,40 4,50 6,7 29,40 1,3 260,33 1,3 5,00
CP-16 45 4,50 5,1 89,40 4,95 6,7 29,40 1,3 260,33 1,3 5,00
CP-17 45 4,50 5,1 89,40 5,40 6,7 29,40 1,3 260,33 1,3 5,00
CP-18 45 4,50 5,1 135,50 4,50 6,7 3,60 1,3 226,50 1,3 5,00
CP-19 45 4,50 5,1 131,00 3,60 6,8 8,75 1,3 225,42 1,3 5,00
CP-20 45 4,50 5,1 131,10 4,05 6,7 8,65 1,3 225,42 1,3 5,00
CP-21 45 4,50 5,1 131,10 4,50 6,7 8,65 1,3 225,42 1,3 5,00
CP-22 45 4,50 5,1 131,10 4,95 6,7 8,65 1,3 225,42 1,3 5,00
CP-23 45 4,50 5,1 131,10 5,40 6,7 8,65 1,3 225,42 1,3 5,00
CP-24 45 4,50 5,1 120,50 3,60 6,8 20,90 1,3 222,67 1,3 5,00
CP-25 45 4,50 5,1 120,60 4,05 6,7 20,60 1,3 223,00 1,3 5,00
CP-26 45 4,50 5,1 120,60 4,50 6,7 20,60 1,3 223,00 1,3 5,00
CP-27 45 4,50 5,1 120,60 4,95 6,7 20,60 1,3 223,00 1,3 5,00
CP-28 45 4,50 5,1 120,60 5,40 6,7 20,60 1,3 223,00 1,3 5,00
CP-29 45 4,50 5,1 112,50 3,60 6,8 30,00 1,3 220,83 1,3 5,00
CP-30 45 4,50 5,1 112,60 4,05 6,7 29,60 1,3 221,33 1,3 5,00
CP-31 45 4,50 5,1 112,60 4,50 6,7 29,60 1,3 221,33 1,3 5,00
CP-32 45 4,50 5,1 112,60 4,95 6,7 29,60 1,3 221,33 1,3 5,00
CP-33 45 4,50 5,1 112,60 5,40 6,7 29,60 1,3 221,33 1,3 5,00
CP-34 45 4,50 5,1 107,60 4,50 6,7 35,35 1,3 220,08 1,3 5,00
CP-35 45 4,50 5,1 171,50 3,60 6,8 4,60 1,3 164,83 1,3 5,00
CP-36 45 4,50 5,1 171,50 4,05 6,7 4,50 1,3 165,00 1,3 5,00
CP-37 45 4,50 5,1 171,50 4,50 6,7 4,50 1,3 165,00 1,3 5,00
CP-38 45 4,50 5,1 171,50 4,95 6,7 4,50 1,3 165,00 1,3 5,00
CP-39 45 4,50 5,1 171,50 5,40 6,7 4,50 1,3 165,00 1,3 5,00
CP-40 45 4,50 5,1 165,60 3,60 6,8 11,05 1,3 163,92 1,3 5,00
Таблица 2
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-41 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 165,70 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,05 6,7 10,90 1,3 164,00 1,3 5,00 Нет
CP-42 45 4,50 5,1 165,70 4,50 6,7 10,90 1,3 164,00 1,3 5,00
CP-43 45 4,50 5,1 165,70 4,95 6,7 10,90 1,3 164,00 1,3 5,00
CP-44 45 4,50 5,1 165,70 5,40 6,7 10,90 1,3 164,00 1,3 5,00
CP-45 45 4,50 5,1 151,80 3,60 6,8 26,35 1,3 161,42 1,3 5,00
CP-46 45 4,50 5,1 151,95 4,05 6,7 25,95 1,3 161,83 1,3 5,00
CP-47 45 4,50 5,1 151,95 4,50 6,7 25,95 1,3 161,83 1,3 5,00
CP-48 45 4,50 5,1 151,95 4,95 6,7 25,95 1,3 161,83 1,3 5,00
CP-49 45 4,50 5,1 151,95 5,40 6,7 25,95 1,3 161,83 1,3 5,00
CP-50 45 4,50 5,1 141,40 3,60 6,8 37,70 1,3 159,83 1,3 5,00
CP-51 45 4,50 5,1 141,70 4,05 6,7 37,25 1,3 160,08 1,3 5,00
CP-52 45 4,50 5,1 141,70 4,50 6,7 37,25 1,3 160,08 1,3 5,00
CP-53 45 4,50 5,1 141,70 4,95 6,7 37,25 1,3 160,08 1,3 5,00
CP-54 45 4,50 5,1 141,70 5,40 6,7 37,25 1,3 160,08 1,3 5,00
CP-55 45 4,50 5,1 134,80 3,60 6,8 45,00 1,3 158,67 1,3 5,00
CP-56 45 4,50 5,1 135,15 4,05 6,7 44,40 1,3 159,08 1,3 5,00
CP-57 45 4,50 5,1 135,15 4,50 6,7 44,40 1,3 159,08 1,3 5,00
CP-58 45 4,50 5,1 135,15 4,95 6,7 44,40 1,3 159,08 1,3 5,00
CP-59 45 4,50 5,1 135,15 5,40 6,7 44,40 1,3 159,08 1,3 5,00
CP-60 45 4,50 5,1 197,70 4,50 6,7 5,20 1,3 120,17 1,3 5,00
CP-61 45 4,50 5,1 190,70 3,60 6,8 12,75 1,3 119,25 1,3 5,00
CP-62 45 4,50 5,1 190,85 4,05 6,7 12,55 1,3 119,33 1,3 5,00
CP-63 45 4,50 5,1 190,85 4,50 6,7 12,55 1,3 119,33 1,3 5,00
CP-64 45 4,50 5,1 190,85 4,95 6,7 12,55 1,3 119,33 1,3 5,00
CP-65 45 4,50 5,1 190,85 5,40 6,7 12,55 1,3 119,33 1,3 5,00
CP-66 45 4,50 5,1 174,40 3,60 6,8 30,30 1,3 117,17 1,3 5,00
СР-67 45 4,50 5,1 174,70 4,05 6,7 29,90 1,3 117,33 1,3 5,00
СР-68 45 4,50 5,1 174,70 4,50 6,7 29,90 1,3 117,33 1,3 5,00
СР-69 45 4,50 5,1 174,70 4,95 6,7 29,90 1,3 117,33 1,3 5,00
СР-70 45 4,50 5,1 174,70 5,40 6,7 29,90 1,3 117,33 1,3 5,00
СР-71 45 4,50 5,1 162,30 3,60 6,8 43,30 1,3 115,67 1,3 5,00
СР-72 45 4,50 5,1 162,70 4,05 6,7 42,75 1,3 115,92 1,3 5,00
СР-73 45 4,50 5,1 162,70 4,50 6,7 42,75 1,3 115,92 1,3 5,00
СР-74 45 4,50 5,1 162,70 4,95 6,7 42,75 1,3 115,92 1,3 5,00
СР-75 45 4,50 5,1 162,70 5,40 6,7 42,75 1,3 115,92 1,3 5,00
СР-76 45 4,50 5,1 155,05 4,50 6,7 50,95 1,3 115,00 1,3 5,00
СР-77 45 4,50 5,1 208,30 3,60 6,8 5,60 1,3 101,83 1,3 5,00
СР-78 45 4,50 5,1 208,25 4,05 6,7 5,56 1,3 101,98 1,3 5,00
СР-79 45 4,50 5,1 208,25 4,50 6,7 5,56 1,3 101,98 1,3 5,00
СР-80 45 4,50 5,1 208,25 4,95 6,7 5,56 1,3 101,98 1,3 5,00
Таблица 3
Раствор материала
покрытия для
формирования
электропроводного
слоя
(1) Первые частицы
оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической молы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного
слоя [%]
Степень легирования
[%]
Плотность Количество [части] Вид Степень легирования
[%]
Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-81 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 208,25 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
5,40 6,7 5,56 1,3 101,98 1,3 5,00 Нет
CP-82 45 4,50 5,1 201,10 4,50 6,7 13,20 1,3 101,17 1,3 5,00
CP-83 45 4,50 5,1 183,55 3,60 6,8 31,90 1,3 99,25 1,3 5,00
CP-84 45 4,50 5,1 183,90 4,05 6,7 31,40 1,3 99,50 1,3 5,00
CP-85 45 4,50 5,1 183,90 4,50 6,7 31,40 1,3 99,50 1,3 5,00
CP-86 45 4,50 5,1 183,90 4,95 6,7 31,40 1,3 99,50 1,3 5,00
CP-87 45 4,50 5,1 183,90 5,40 6,7 31,40 1,3 99,50 1,3 5,00
CP-88 45 4,50 5,1 171,10 4,50 6,7 45,00 1,3 98,17 1,3 5,00
CP-89 45 4,50 5,1 162,50 3,60 6,8 54,20 1,3 97,17 1,3 5,00
CP-90 45 4,50 5,1 163,00 4,05 6,7 53,55 1,3 97,42 1,3 5,00
CP-91 45 4,50 5,1 163,00 4,50 6,7 53,55 1,3 97,42 1,3 5,00
CP-92 45 4,50 5,1 163,00 4,95 6,7 53,55 1,3 97,42 1,3 5,00
CP-93 45 4,50 5,1 163,00 5,40 6,7 53,55 1,3 97,42 1,3 5,00
CP-94 45 4,50 5,1 135,40 3,60 6,8 9,05 1,3 159,25 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана
(средний диаметр частиц: 210 нм)
4,2 30,00
CP-95 45 4,50 5,1 135,40 4,05 6,7 8,90 1,3 159,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-96 45 4,50 5,1 135,40 4,50 6,7 8,90 1,3 159,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-97 45 4,50 5,1 135,40 4,95 6,7 8,90 1,3 159,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-98 45 4,50 5,1 135,40 5,40 6,7 8,90 1,3 159,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-99 45 4,50 5,1 124,50 3,60 6,8 21,60 1,3 156,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-100 45 4,50 5,1 124,50 4,05 6,7 21,30 1,3 157,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-101 45 4,50 5,1 124,50 4,50 6,7 21,30 1,3 157,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-102 45 4,50 5,1 124,50 4,95 6,7 21,30 1,3 157,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-103 45 4,50 5,1 124,50 5,40 6,7 21,30 1,3 157,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-104 45 4,50 5,1 116,20 3,60 6,8 31,00 1,3 154,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-105 45 4,50 5,1 116,40 4,05 6,7 30,60 1,3 155,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-106 45 4,50 5,1 116,40 4,50 6,7 30,60 1,3 155,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-107 45 4,50 5,1 116,40 4,95 6,7 30,60 1,3 155,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-108 45 4,50 5,1 116,40 5,40 6,7 30,60 1,3 155,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-109 45 4,50 5,1 171,10 3,60 6,8 11,40 1,3 95,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-110 45 4,50 5,1 171,20 4,05 6,7 11,25 1,3 95,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-111 45 4,50 5,1 171,20 4,50 6,7 11,25 1,3 95,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-112 45 4,50 5,1 171,20 4,95 6,7 11,25 1,3 95,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-113 45 4,50 5,1 171,20 5,40 6,7 11,25 1,3 95,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-114 45 4,50 5,1 156,80 3,60 6,8 27,20 1,3 93,33 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-115 45 4,50 5,1 157,00 4,05 6,7 26,85 1,3 93,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-116 45 4,50 5,1 157,00 4,50 6,7 26,85 1,3 93,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-117 45 4,50 5,1 157,00 4,95 6,7 26,85 1,3 93,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-118 45 4,50 5,1 157,00 5,40 6,7 26,85 1,3 93,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-119 45 4,50 5,1 146,10 3,60 6,8 39,00 1,3 91,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-120 45 4,50 5,1 146,40 4,05 6,7 38,50 1,3 91,83 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 4
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий
материал (фенольная
смола)
(4) Частицы
кремнийорганической смолы
(5) Частицы
помимо частиц с
(1) по (4)
Вид Доля покровного
слоя [%]
Степень легирования
[%]
Плотность Количество [части] Вид Степень легирования
[%]
Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-121 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 146,40 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,7 38,50 1,3 91,83 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм) 4,2 30,00
CP-122 45 4,50 5,1 146,40 4,95 6,7 38,50 1,3 91,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-123 45 4,50 5,1 146,40 5,40 6,7 38,50 1,3 91,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-124 45 4,50 5,1 197,05 3,60 6,8 13,15 1,3 49,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-125 45 4,50 5,1 197,20 4,05 6,7 13,00 1,3 49,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-126 45 4,50 5,1 197,20 4,50 6,7 13,00 1,3 49,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-127 45 4,50 5,1 197,20 4,95 6,7 13,00 1,3 49,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-128 45 4,50 5,1 197,20 5,40 6,7 13,00 1,3 49,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-129 45 4,50 5,1 180,20 3,60 6,8 31,30 1,3 47,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-130 45 4,50 5,1 180,50 4,05 6,7 30,85 1,3 47,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-131 45 4,50 5,1 180,50 4,50 6,7 30,85 1,3 47,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-132 45 4,50 5,1 180,50 4,95 6,7 30,85 1,3 47,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-133 45 4,50 5,1 180,50 5,40 6,7 30,85 1,3 47,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-134 45 4,50 5,1 167,65 3,60 6,8 44,75 1,3 46,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-135 45 4,50 5,1 168,05 4,05 6,7 44,16 1,3 46,32 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-136 45 4,50 5,1 168,05 4,50 6,7 44,16 1,3 46,32 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-137 45 4,50 5,1 168,05 4,95 6,7 44,16 1,3 46,32 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-138 45 4,50 5,1 168,05 5,40 6,7 44,16 1,3 46,32 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-139 45 4,50 5,1 157,00 4,50 6,7 26,85 1,3 93,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-140 45 4,50 5,1 161,00 4,50 6,7 22,85 1,3 93,58 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 5
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C1 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 114,60 Нет 1,3 267,33 1,3 5,00 Нет
CP-C2 45 4,50 5,1 175,60 1,3 165,67 1,3 5,00
CP-C3 45 4,50 5,1 213,50 1,3 102,50 1,3 5,00
CP-C4 45 4,50 5,1 113,25 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,7 1,49 1,3 267,10 1,3 5,00
CP-C5 45 4,50 5,1 173,50 4,50 6,7 2,27 1,3 165,38 1,3 5,00
CP-C6 45 4,50 5,1 210,90 4,50 6,7 2,80 1,3 102,17 1,3 5,00
CP-C7 45 4,50 5,1 85,60 4,50 6,7 33,75 1,3 259,42 1,3 5,00
CP-C8 45 4,50 5,1 129,20 4,50 6,7 50,95 1,3 158,08 1,3 5,00
CP-C9 45 4,50 5,1 155,65 4,50 6,7 61,35 1,3 96,67 1,3 5,00
CP-C10 Нет 4,50 6,7 133,40 1,3 236,00 1,3 5,00
CP-C11 4,50 6,7 192,80 1,3 137,00 1,3 5,00
CP-C12 4,50 6,7 226,40 1,3 81,00 1,3 5,00
CP-C13 Частицы оксида титана, покрытые
P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 83,20 4,50 6,7 2,20 1,3 316,00 1,3 5,00
CP-C14 45 4,50 5,1 80,60 4,50 6,7 5,30 1,3 315,17 1,3 5,00
CP-C15 45 4,50 5,1 74,50 4,50 6,7 12,75 1,3 312,92 1,3 5,00
CP-C16 45 4,50 5,1 69,75 4,50 6,7 18,35 1,3 311,50 1,3 5,00
CP-C17 45 4,50 5,1 66,70 4,50 6,7 21,92 1,3 310,63 1,3 5,00
CP-C18 45 4,50 5,1 217,70 4,50 6,7 5,75 1,3 85,92 1,3 5,00
CP-C19 45 4,50 5,1 210,05 4,50 6,7 13,80 1,3 85,25 1,3 5,00
CP-C20 45 4,50 5,1 191,95 4,50 6,7 32,80 1,3 83,75 1,3 5,00
CP-C21 45 4,50 5,1 178,50 4,50 6,7 46,95 1,3 82,58 1,3 5,00
CP-C22 45 4,50 5,1 169,98 4,50 6,7 55,85 1,3 81,95 1,3 5,00
Таблица 6
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C23 Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 - 5,1 152,00 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 6,7 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00 Нет
CP-C24 Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 - 5,1 152,00 4,50 6,7 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00
CP-C25 Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 152,00 4,50 6,7 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00
СР-С26 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 152,20 Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм) - 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
СР-С27 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 151,10 Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,1 27,35 1,3 160,92 1,3 5,00
СР-С28 45 4,50 5,1 152,20 Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
СР-С29 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,2 153,30 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 6,7 25,70 1,3 160,00 1,3 5,00
Таблица 7
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C30 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,0 150,60 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 6,7 26,25 1,3 163,58 1,3 5,00 Нет
CP-C31 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 150,20 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,5 28,80 1,3 160,00 1,3 5,00
CP-C32 45 4,50 5,1 152,20 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
CP-C33 Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 - 5,1 152,20 Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм) - 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
СР-С34 Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 152,20 Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
СР-С35 Частицы сульфата бария, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 151,90 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 6,7 26,00 1,3 161,83 1,3 5,00
Таблица 8
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-141 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 113,20 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 3,60 7,4 3,22 1,3 264,30 1,3 5,00 Нет
CP-142 45 4,50 5,2 113,20 4,05 7,5 3,26 1,3 264,23 1,3 5,00
CP-143 45 4,50 5,2 113,20 4,50 7,5 3,26 1,3 264,23 1,3 5,00
CP-144 45 4,50 5,2 113,20 4,95 7,6 3,31 1,3 264,15 1,3 5,00
CP-145 45 4,50 5,2 113,20 5,40 7,6 3,31 1,3 264,15 1,3 5,00
CP-146 45 4,50 5,2 109,40 4,50 7,5 7,90 1,3 262,83 1,3 5,00
CP-147 45 4,50 5,2 100,50 3,60 7,4 18,60 1,3 259,83 1,3 5,00
CP-148 45 4,50 5,2 100,50 4,05 7,5 18,85 1,3 259,42 1,3 5,00
CP-149 45 4,50 5,2 100,50 4,50 7,5 18,85 1,3 259,42 1,3 5,00
CP-150 45 4,50 5,2 100,40 4,95 7,6 19,10 1,3 259,17 1,3 5,00
CP-151 45 4,50 5,2 100,40 5,40 7,6 19,10 1,3 259,17 1,3 5,00
CP-152 45 4,50 5,2 93,70 4,50 7,5 27,05 1,3 257,08 1,3 5,00
CP-153 45 4,50 5,2 89,55 3,60 7,4 31,86 1,3 255,98 1,3 5,00
CP-154 45 4,50 5,2 89,48 4,05 7,5 32,26 1,3 255,43 1,3 5,00
CP-155 45 4,50 5,2 89,48 4,50 7,5 32,26 1,3 255,43 1,3 5,00
CP-156 45 4,50 5,2 89,30 4,95 7,6 32,65 1,3 255,08 1,3 5,00
CP-157 45 4,50 5,2 89,30 5,40 7,6 32,65 1,3 255,08 1,3 5,00
CP-158 45 4,50 5,2 136,65 4,50 7,5 3,97 1,3 223,97 1,3 5,00
CP-159 45 4,50 5,2 132,00 3,60 7,4 9,40 1,3 222,67 1,3 5,00
CP-160 45 4,50 5,2 132,00 4,05 7,5 9,55 1,3 222,42 1,3 5,00
CP-161 45 4,50 5,2 132,00 4,50 7,5 9,55 1,3 222,42 1,3 5,00
CP-162 45 4,50 5,2 131,90 4,95 7,6 9,65 1,3 222,42 1,3 5,00
CP-163 45 4,50 5,2 131,90 5,40 7,6 9,65 1,3 222,42 1,3 5,00
CP-164 45 4,50 5,2 121,00 3,60 7,4 22,40 1,3 219,33 1,3 5,00
СР-165 45 4,50 5,2 120,85 4,05 7,5 22,67 1,3 219,13 1,3 5,00
СР-166 45 4,50 5,2 120,85 4,50 7,5 22,67 1,3 219,13 1,3 5,00
СР-167 45 4,50 5,2 120,70 4,95 7,6 22,95 1,3 218,92 1,3 5,00
СР-168 45 4,50 5,2 120,70 5,40 7,6 22,95 1,3 218,92 1,3 5,00
СР-169 45 4,50 5,2 112,75 3,60 7,4 32,10 1,3 216,92 1,3 5,00
СР-170 45 4,50 5,2 112,55 4,05 7,5 32,50 1,3 216,58 1,3 5,00
СР-171 45 4,50 5,2 112,55 4,50 7,5 32,50 1,3 216,58 1,3 5,00
СР-172 45 4,50 5,2 112,40 4,95 7,6 32,85 1,3 216,25 1,3 5,00
СР-173 45 4,50 5,2 112,40 5,40 7,6 32,85 1,3 216,25 1,3 5,00
СР-174 45 4,50 5,2 107,30 4,50 7,5 38,70 1,3 215,00 1,3 5,00
СР-175 45 4,50 5,2 172,50 3,60 7,4 4,90 1,3 162,67 1,3 5,00
СР-176 45 4,50 5,2 172,40 4,05 7,5 5,00 1,3 162,67 1,3 5,00
СР-177 45 4,50 5,2 172,40 4,50 7,5 5,00 1,3 162,67 1,3 5,00
СР-178 45 4,50 5,2 172,40 4,95 7,6 5,05 1,3 162,58 1,3 5,00
СР-179 45 4,50 5,2 172,40 5,40 7,6 5,05 1,3 162,58 1,3 5,00
СР-180 45 4,50 5,2 166,30 3,60 7,4 11,85 1,3 161,42 1,3 5,00
Таблица 9
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-181 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 166,20 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,05 7,5 12,00 1,3 161,33 1,3 5,00 Нет
CP-182 45 4,50 5,2 166,20 4,50 7,5 12,00 1,3 161,33 1,3 5,00
CP-183 45 4,50 5,2 166,10 4,95 7,6 12,15 1,3 161,25 1,3 5,00
CP-184 45 4,50 5,2 166,10 5,40 7,6 12,15 1,3 161,25 1,3 5,00
CP-185 45 4,50 5,2 151,80 3,60 7,4 28,15 1,3 158,42 1,3 5,00
CP-186 45 4,50 5,2 151,60 4,05 7,5 28,45 1,3 158,25 1,3 5,00
CP-187 45 4,50 5,2 151,60 4,50 7,5 28,45 1,3 158,25 1,3 5,00
CP-188 45 4,50 5,2 151,45 4,95 7,6 28,80 1,3 157,92 1,3 5,00
CP-189 45 4,50 5,2 151,45 5,40 7,6 28,80 1,3 157,92 1,3 5,00
CP-190 45 4,50 5,2 141,10 3,60 7,4 40,20 1,3 156,17 1,3 5,00
CP-191 45 4,50 5,2 140,85 4,05 7,5 40,65 1,3 155,83 1,3 5,00
CP-192 45 4,50 5,2 140,85 4,50 7,5 40,65 1,3 155,83 1,3 5,00
CP-193 45 4,50 5,2 140,55 4,95 7,6 41,10 1,3 155,58 1,3 5,00
CP-194 45 4,50 5,2 140,55 5,40 7,6 41,10 1,3 155,58 1,3 5,00
CP-195 45 4,50 5,2 134,30 3,60 7,4 47,80 1,3 154,83 1,3 5,00
CP-196 45 4,50 5,2 134,05 4,05 7,5 48,35 1,3 154,33 1,3 5,00
CP-197 45 4,50 5,2 134,05 4,50 7,5 48,35 1,3 154,33 1,3 5,00
CP-198 45 4,50 5,2 133,70 4,95 7,6 48,90 1,3 154,00 1,3 5,00
CP-199 45 4,50 5,2 133,70 5,40 7,6 48,90 1,3 154,00 1,3 5,00
CP-200 45 4,50 5,2 198,40 4,50 7,5 5,75 1,3 118,08 1,3 5,00
CP-201 45 4,50 5,2 191,15 3,60 7,4 13,60 1,3 117,08 1,3 5,00
CP-202 45 4,50 5,2 191,00 4,05 7,5 13,80 1,3 117,00 1,3 5,00
CP-203 45 4,50 5,2 191,00 4,50 7,5 13,80 1,3 117,00 1,3 5,00
CP-204 45 4,50 5,2 190,90 4,95 7,6 13,95 1,3 116,92 1,3 5,00
СР-205 45 4,50 5,2 190,90 5,40 7,6 13,95 1,3 116,92 1,3 5,00
СР-206 45 4,50 5,2 174,10 3,60 7,4 32,20 1,3 114,50 1,3 5,00
СР-207 45 4,50 5,2 173,76 4,05 7,5 32,60 1,3 114,40 1,3 5,00
СР-208 45 4,50 5,2 173,76 4,50 7,5 32,60 1,3 114,40 1,3 5,00
СР-209 45 4,50 5,2 173,50 4,95 7,6 33,00 1,3 114,17 1,3 5,00
СР-210 45 4,50 5,2 173,50 5,40 7,6 33,00 1,3 114,17 1,3 5,00
СР-211 45 4,50 5,2 161,45 3,60 7,4 45,95 1,3 112,67 1,3 5,00
СР-212 45 4,50 5,2 161,05 4,05 7,5 46,50 1,3 112,42 1,3 5,00
СР-213 45 4,50 5,2 161,05 4,50 7,5 46,50 1,3 112,42 1,3 5,00
СР-214 45 4,50 5,2 160,70 4,95 7,6 47,00 1,3 112,17 1,3 5,00
СР-215 45 4,50 5,2 160,70 5,40 7,6 47,00 1,3 112,17 1,3 5,00
СР-216 45 4,50 5,2 153,10 4,50 7,5 55,20 1,3 111,17 1,3 5,00
СР-217 45 4,50 5,2 208,90 3,60 7,4 6,00 1,3 100,17 1,3 5,00
СР-218 45 4,50 5,2 208,85 4,05 7,5 6,07 1,3 100,13 1,3 5,00
СР-219 45 4,50 5,2 208,85 4,50 7,5 6,07 1,3 100,13 1,3 5,00
СР-220 45 4,50 5,2 208,85 4,95 7,6 6,10 1,3 100,08 1,3 5,00
Таблица 10
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы
оксида металла
(2) Вторые частицы
оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической
смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-221 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 208,85 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 5,40 7,6 6,10 1,3 100,08 1,3 5,00 Нет
CP-222 45 4,50 5,2 201,00 4,50 7,5 14,50 1,3 99,17 1,3 5,00
CP-223 45 4,50 5,2 183,00 3,60 7,4 33,85 1,3 96,92 1,3 5,00
CP-224 45 4,50 5,2 182,65 4,05 7,5 34,30 1,3 96,75 1,3 5,00
CP-225 45 4,50 5,2 182,65 4,50 7,5 34,30 1,3 96,75 1,3 5,00
CP-226 45 4,50 5,2 182,35 4,95 7,6 34,70 1,3 96,58 1,3 5,00
CP-227 45 4,50 5,2 182,35 5,40 7,6 34,70 1,3 96,58 1,3 5,00
CP-228 45 4,50 5,2 169,20 4,50 7,5 48,80 1,3 95,00 1,3 5,00
CP-229 45 4,50 5,2 161,10 3,60 7,4 57,35 1,3 94,25 1,3 5,00
CP-230 45 4,50 5,2 160,67 4,05 7,5 57,95 1,3 93,97 1,3 5,00
CP-231 45 4,50 5,2 160,67 4,50 7,5 57,95 1,3 93,97 1,3 5,00
CP-232 45 4,50 5,2 160,25 4,95 7,6 58,55 1,3 93,67 1,3 5,00
CP-233 45 4,50 5,2 160,25 5,40 7,6 58,55 1,3 93,67 1,3 5,00
Таблица 11
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы
оксида металла
(2) Вторые частицы
оксида металла
(3) Связующий материал
(фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы
Помимо
частиц с (1)
по (4)
Вид Доля покровного
слоя [%]
Степень легирования
[%]
Плотность Количество
[части]
Вид Степень легирования
[%]
Плотность Количество
[части]
Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-234 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 136,40 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 3,60 7,4 9,72 1,3 156,47 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм) 4,2 30,00
CP-235 45 4,50 5,2 136,40 4,05 7,5 9,85 1,3 156,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-236 45 4,50 5,2 136,40 4,50 7,5 9,85 1,3 156,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-237 45 4,50 5,2 136,30 4,95 7,6 9,98 1,3 156,20 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-238 45 4,50 5,2 136,30 5,40 7,6 9,98 1,3 156,20 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-239 45 4,50 5,2 125,00 3,60 7,4 23,15 1,3 153,08 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-240 45 4,50 5,2 124,90 4,05 7,5 23,44 1,3 152,77 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-241 45 4,50 5,2 124,90 4,50 7,5 23,44 1,3 152,77 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-242 45 4,50 5,2 124,70 4,95 7,6 23,70 1,3 152,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-243 45 4,50 5,2 124,70 5,40 7,6 23,70 1,3 152,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-244 45 4,50 5,2 116,50 3,60 7,4 33,15 1,3 150,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-245 45 4,50 5,2 116,30 4,05 7,5 33,55 1,3 150,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-246 45 4,50 5,2 116,30 4,50 7,5 33,55 1,3 150,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-247 45 4,50 5,2 116,10 4,95 7,6 33,95 1,3 149,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-248 45 4,50 5,2 116,10 5,40 7,6 33,95 1,3 149,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-249 45 4,50 5,2 171,80 3,60 7,4 12,25 1,3 93,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-250 45 4,50 5,2 171,70 4,05 7,5 12,40 1,3 93,17 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-251 45 4,50 5,2 171,70 4,50 7,5 12,40 1,3 93,17 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-252 45 4,50 5,2 171,65 4,95 7,6 12,55 1,3 93,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-253 45 4,50 5,2 171,65 5,40 7,6 12,55 1,3 93,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-254 45 4,50 5,2 156,85 3,60 7,4 29,05 1,3 90,17 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-255 45 4,50 5,2 156,65 4,05 7,5 29,40 1,3 89,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-256 45 4,50 5,2 156,65 4,50 7,5 29,40 1,3 89,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-257 45 4,50 5,2 156,45 4,95 7,6 29,75 1,3 89,67 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-258 45 4,50 5,2 156,45 5,40 7,6 29,75 1,3 89,67 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-259 45 4,50 5,2 145,80 3,60 7,4 41,50 1,3 87,83 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-260 45 4,50 5,2 145,50 4,05 7,5 42,00 1,3 87,50 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-261 45 4,50 5,2 145,50 4,50 7,5 42,00 1,3 87,50 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-262 45 4,50 5,2 145,20 4,95 7,6 42,45 1,3 87,25 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-263 45 4,50 5,2 145,20 5,40 7,6 42,45 1,3 87,25 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-264 45 4,50 5,2 197,50 3,60 7,4 14,10 1,3 47,33 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-265 45 4,50 5,2 197,35 4,05 7,5 14,25 1,3 47,33 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-266 45 4,50 5,2 197,35 4,50 7,5 14,25 1,3 47,33 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-267 45 4,50 5,2 197,20 4,95 7,6 14,45 1,3 47,25 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-268 45 4,50 5,2 197,20 5,40 7,6 14,45 1,3 47,25 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-269 45 4,50 5,2 179,80 3,60 7,4 33,30 1,3 44,83 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-270 45 4,50 5,2 179,55 4,05 7,5 33,70 1,3 44,58 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 12
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-271 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, 45 4,50 5,2 179,55 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр 4,50 7,5 33,70 1,3 44,58 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм) 4,2 30,00
(средний диаметр частиц: 230 нм) частиц: 20 нм)
CP-272 45 4,50 5,2 179,30 4,95 7,6 34,10 1,3 44,33 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-273 45 4,50 5,2 179,30 5,40 7,6 34,10 1,3 44,33 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-274 45 4,50 5,2 166,75 3,60 7,4 47,50 1,3 42,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-275 45 4,50 5,2 166,40 4,05 7,5 48,00 1,3 42,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-276 45 4,50 5,2 166,40 4,50 7,5 48,00 1,3 42,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-277 45 4,50 5,2 166,05 4,95 7,6 48,55 1,3 42,33 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-278 45 4,50 5,2 166,05 5,40 7,6 48,55 1,3 42,33 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-279 45 4,50 5,2 156,65 4,50 7,5 29,40 1,3 89,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-280 45 4,50 5,2 160,55 4,50 7,5 25,50 1,3 89,92 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 13
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C42 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 45 4,50 5,2 115,85 Нет 1,3 265,25 1,3 5,00 Нет
230 нм)
CP-C43 45 4,50 5,2 176,85 1,3 163,58 1,3 5,00
CP-C44 45 4,50 5,2 214,46 1,3 100,90 1,3 5,00
CP-C45 45 4,50 5,2 114,50 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,5 1,65 1,3 264,75 1,3 5,00
CP-C46 45 4,50 5,2 174,62 4,50 7,5 2,51 1,3 163,12 1,3 5,00
CP-C47 45 4,50 5,2 211,63 4,50 7,5 3,05 1,3 100,53 1,3 5,00
CP-C48 45 4,50 5,2 85,50 4,50 7,5 37,00 1,3 254,17 1,3 5,00
CP-C49 45 4,50 5,2 127,80 4,50 7,5 55,30 1,3 153,17 1,3 5,00
CP-C50 45 4,50 5,2 153,01 4,50 7,5 66,21 1,3 92,97 1,3 5,00
CP-C51 Нет 4,50 7,5 141,25 1,3 222,92 1,3 5,00
CP-C52 4,50 7,5 199,36 1,3 126,07 1,3 5,00
CP-C53 4,50 7,5 231,05 1,3 73,25 1,3 5,00
CP-C54 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 84,25 4,50 7,5 2,43 1,3 313,87 1,3 5,00
CP-C55 45 4,50 5,2 81,50 4,50 7,5 5,88 1,3 312,70 1,3 5,00
CP-C56 45 4,50 5,2 75,05 4,50 7,5 14,07 1,3 309,80 1,3 5,00
CP-C57 45 4,50 5,2 70,20 4,50 7,5 20,25 1,3 307,58 1,3 5,00
CP-C58 45 4,50 5,2 67,10 4,50 7,5 24,19 1,3 306,18 1,3 5,00
CP-C59 45 4,50 5,2 218,08 4,50 7,5 6,30 1,3 84,37 1,3 5,00
CP-C60 45 4,50 5,2 209,80 4,50 7,5 15,12 1,3 83,47 1,3 5,00
CP-C61 45 4,50 5,2 190,47 4,50 7,5 35,72 1,3 81,35 1,3 5,00
CP-C62 45 4,50 5,2 176,27 4,50 7,5 50,85 1,3 79,80 1,3 5,00
CP-C63 45 4,50 5,2 167,35 4,50 7,5 60,35 1,3 78,83 1,3 5,00
Таблица 14
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C64 Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 - 5,1 150,26 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,5 28,73 1,3 160,02 1,3 5,00 Нет
CP-C65 Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 - 5,1 150,26 4,50 7,5 28,73 1,3 160,02 1,3 5,00
CP-C66 Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 151,61 4,50 7,5 28,43 1,3 158,27 1,3 5,00
СР-С67 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 153,50 Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм) - 6,6 25,32 1,3 160,30 1,3 5,00
СР-С68 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 152,45 Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,1 27,05 1,3 159,17 1,3 5,00
СР-С69 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным 45 4,50 5,2 153,50 Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр 4,50 6,6 25,32 1,3 160,30 1,3 5,00
оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) частиц: 20 нм)
СР-С70 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,0 148,90 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,5 29,03 1,3 161,78 1,3 5,00
СР-С71 Частицы сульфата бария, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 151,61 4,50 7,5 28,43 1,3 158,27 1,3 5,00
Таблица 15
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорга-нической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плот-ность Количество [части] Плотность Коли-чество [части] (содер-жание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-281 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,0 110,70 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 3,60 6,7 2,97 1,3 268,88 1,3 5,00 Нет
CP-282 45 4,50 5,0 110,70 4,05 6,7 2,97 1,3 268,88 1,3 5,00
CP-283 45 4,50 5,0 110,70 4,50 6,6 2,93 1,3 268,95 1,3 5,00
CP-284 45 4,50 5,0 110,70 4,95 6,6 2,93 1,3 268,95 1,3 5,00
CP-285 45 4,50 5,0 110,70 5,40 6,6 2,93 1,3 268,95 1,3 5,00
CP-286 45 4,50 5,0 107,15 4,50 6,6 7,08 1,3 267,95 1,3 5,00
CP-287 45 4,50 5,0 98,70 3,60 6,7 17,20 1,3 265,17 1,3 5,00
CP-288 45 4,50 5,0 98,70 4,05 6,7 17,20 1,3 265,17 1,3 5,00
CP-289 45 4,50 5,0 98,70 4,50 6,6 16,95 1,3 265,58 1,3 5,00
CP-290 45 4,50 5,0 98,70 4,95 6,6 16,95 1,3 265,58 1,3 5,00
CP-291 45 4,50 5,0 98,70 5,40 6,6 16,95 1,3 265,58 1,3 5,00
CP-292 45 4,50 5,0 92,40 4,50 6,6 24,40 1,3 263,67 1,3 5,00
CP-293 45 4,50 5,0 88,20 3,60 6,7 29,55 1,3 262,08 1,3 5,00
CP-294 45 4,50 5,0 88,20 4,05 6,7 29,55 1,3 262,08 1,3 5,00
CP-295 45 4,50 5,0 88,30 4,50 6,6 29,15 1,3 262,58 1,3 5,00
CP-296 45 4,50 5,0 88,30 4,95 6,6 29,15 1,3 262,58 1,3 5,00
CP-297 45 4,50 5,0 88,30 5,40 6,6 29,15 1,3 262,58 1,3 5,00
CP-298 45 4,50 5,0 134,20 4,50 6,6 3,55 1,3 228,75 1,3 5,00
CP-299 45 4,50 5,0 129,70 3,60 6,7 8,70 1,3 227,67 1,3 5,00
CP-300 45 4,50 5,0 129,70 4,05 6,7 8,70 1,3 227,67 1,3 5,00
CP-301 45 4,50 5,0 129,73 4,50 6,6 8,57 1,3 227,83 1,3 5,00
CP-302 45 4,50 5,0 129,73 4,95 6,6 8,57 1,3 227,83 1,3 5,00
CP-303 45 4,50 5,0 129,73 5,40 6,6 8,57 1,3 227,83 1,3 5,00
CP-304 45 4,50 5,0 119,20 3,60 6,7 20,80 1,3 225,00 1,3 5,00
CP-305 45 4,50 5,0 119,20 4,05 6,7 20,80 1,3 225,00 1,3 5,00
СР-306 45 4,50 5,0 119,30 4,50 6,6 20,50 1,3 225,33 1,3 5,00
СР-307 45 4,50 5,0 119,30 4,95 6,6 20,50 1,3 225,33 1,3 5,00
СР-308 45 4,50 5,0 119,30 5,40 6,6 20,50 1,3 225,33 1,3 5,00
СР-309 45 4,50 5,0 111,40 3,60 6,7 29,85 1,3 222,92 1,3 5,00
СР-310 45 4,50 5,0 111,40 4,05 6,7 29,85 1,3 222,92 1,3 5,00
СР-311 45 4,50 5,0 111,45 4,50 6,6 29,45 1,3 223,50 1,3 5,00
СР-312 45 4,50 5,0 111,45 4,95 6,6 29,45 1,3 223,50 1,3 5,00
СР-313 45 4,50 5,0 111,45 5,40 6,6 29,45 1,3 223,50 1,3 5,00
СР-314 45 4,50 5,0 106,50 4,50 6,6 35,15 1,3 222,25 1,3 5,00
СР-315 45 4,50 5,0 170,20 3,60 6,7 4,57 1,3 167,05 1,3 5,00
СР-316 45 4,50 5,0 170,20 4,05 6,7 4,57 1,3 167,05 1,3 5,00
СР-317 45 4,50 5,0 170,20 4,50 6,6 4,50 1,3 167,17 1,3 5,00
СР-318 45 4,50 5,0 170,20 4,95 6,6 4,50 1,3 167,17 1,3 5,00
СР-319 45 4,50 5,0 170,20 5,40 6,6 4,50 1,3 167,17 1,3 5,00
СР-320 45 4,50 5,0 164,30 3,60 6,7 11,05 1,3 166,08 1,3 5,00
Таблица 16
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-321 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,0 164,30 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,05 6,7 11,05 1,3 166,08 1,3 5,00 Нет
CP-322 45 4,50 5,0 164,45 4,50 6,6 10,86 1,3 166,15 1,3 5,00
CP-323 45 4,50 5,0 164,45 4,95 6,6 10,86 1,3 166,15 1,3 5,00
CP-324 45 4,50 5,0 164,45 5,40 6,6 10,86 1,3 166,15 1,3 5,00
CP-325 45 4,50 5,0 150,60 3,60 6,7 26,25 1,3 163,58 1,3 5,00
CP-326 45 4,50 5,0 150,60 4,05 6,7 26,25 1,3 163,58 1,3 5,00
CP-327 45 4,50 5,0 150,80 4,50 6,6 25,90 1,3 163,83 1,3 5,00
CP-328 45 4,50 5,0 150,80 4,95 6,6 25,90 1,3 163,83 1,3 5,00
CP-329 45 4,50 5,0 150,80 5,40 6,6 25,90 1,3 163,83 1,3 5,00
CP-330 45 4,50 5,0 140,30 3,60 6,7 37,60 1,3 161,83 1,3 5,00
CP-331 45 4,50 5,0 140,30 4,05 6,7 37,60 1,3 161,83 1,3 5,00
CP-332 45 4,50 5,0 140,55 4,50 6,6 37,15 1,3 162,17 1,3 5,00
CP-333 45 4,50 5,0 140,55 4,95 6,6 37,15 1,3 162,17 1,3 5,00
CP-334 45 4,50 5,0 140,55 5,40 6,6 37,15 1,3 162,17 1,3 5,00
CP-335 45 4,50 5,0 133,80 3,60 6,7 44,82 1,3 160,63 1,3 5,00
CP-336 45 4,50 5,0 133,80 4,05 6,7 44,82 1,3 160,63 1,3 5,00
CP-337 45 4,50 5,0 134,10 4,50 6,6 44,25 1,3 161,08 1,3 5,00
CP-338 45 4,50 5,0 134,10 4,95 6,6 44,25 1,3 161,08 1,3 5,00
CP-339 45 4,50 5,0 134,10 5,40 6,6 44,25 1,3 161,08 1,3 5,00
CP-340 45 4,50 5,0 196,60 4,50 6,6 5,19 1,3 122,02 1,3 5,00
CP-341 45 4,50 5,0 189,70 3,60 6,7 12,74 1,3 120,93 1,3 5,00
CP-342 45 4,50 5,0 189,70 4,05 6,7 12,74 1,3 120,93 1,3 5,00
CP-343 45 4,50 5,0 189,75 4,50 6,6 12,55 1,3 121,17 1,3 5,00
CP-344 45 4,50 5,0 189,75 4,95 6,6 12,55 1,3 121,17 1,3 5,00
CP-345 45 4,50 5,0 189,75 5,40 6,6 12,55 1,3 121,17 1,3 5,00
CP-346 45 4,50 5,0 173,40 3,60 6,7 30,20 1,3 119,00 1,3 5,00
CP-347 45 4,50 5,0 173,40 4,05 6,7 30,20 1,3 119,00 1,3 5,00
CP-348 45 4,50 5,0 173,70 4,50 6,6 29,80 1,3 119,17 1,3 5,00
CP-349 45 4,50 5,0 173,70 4,95 6,6 29,80 1,3 119,17 1,3 5,00
СР-350 45 4,50 5,0 173,70 5,40 6,6 29,80 1,3 119,17 1,3 5,00
СР-351 45 4,50 5,0 161,30 3,60 6,7 43,25 1,3 117,42 1,3 5,00
СР-352 45 4,50 5,0 161,30 4,05 6,7 43,25 1,3 117,42 1,3 5,00
СР-353 45 4,50 5,0 161,70 4,50 6,6 42,70 1,3 117,67 1,3 5,00
СР-354 45 4,50 5,0 161,70 4,95 6,6 42,70 1,3 117,67 1,3 5,00
СР-355 45 4,50 5,0 161,70 5,40 6,6 42,70 1,3 117,67 1,3 5,00
СР-356 45 4,50 5,0 154,10 4,50 6,6 50,85 1,3 116,75 1,3 5,00
СР-357 45 4,50 5,0 207,30 3,60 6,7 5,56 1,3 103,57 1,3 5,00
СР-358 45 4,50 5,0 207,30 4,05 6,7 5,56 1,3 103,57 1,3 5,00
СР-359 45 4,50 5,0 207,35 4,50 6,6 5,48 1,3 103,62 1,3 5,00
СР-360 45 4,50 5,0 207,35 4,95 6,6 5,48 1,3 103,62 1,3 5,00
Таблица 17
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-361 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,0 207,35 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 5,40 6,6 5,48 1,3 103,62 1,3 5,00 Нет
CP-362 45 4,50 5,0 200,07 4,50 6,6 13,21 1,3 102,87 1,3 5,00
CP-363 45 4,50 5,0 182,62 3,60 6,7 31,82 1,3 100,93 1,3 5,00
CP-364 45 4,50 5,0 182,62 4,05 6,7 31,82 1,3 100,93 1,3 5,00
CP-365 45 4,50 5,0 182,95 4,50 6,6 31,40 1,3 101,08 1,3 5,00
CP-366 45 4,50 5,0 182,95 4,95 6,6 31,40 1,3 101,08 1,3 5,00
CP-367 45 4,50 5,0 182,95 5,40 6,6 31,40 1,3 101,08 1,3 5,00
CP-368 45 4,50 5,0 170,15 4,50 6,6 44,95 1,3 99,83 1,3 5,00
CP-369 45 4,50 5,0 161,65 3,60 6,7 54,18 1,3 98,62 1,3 5,00
CP-370 45 4,50 5,0 161,65 4,05 6,7 54,18 1,3 98,62 1,3 5,00
CP-371 45 4,50 5,0 162,10 4,50 6,6 53,50 1,3 99,00 1,3 5,00
CP-372 45 4,50 5,0 162,10 4,95 6,6 53,50 1,3 99,00 1,3 5,00
CP-373 45 4,50 5,0 162,10 5,40 6,6 53,50 1,3 99,00 1,3 5,00
Таблица 18
Раствор материала покрытия для формирования электропро-водного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-374 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 45 4,50 5,0 134,00 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 3,60 6,7 9,00 1,3 161,67 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм) 4,2 30,00
230 нм)
CP-375 45 4,50 5,0 134,00 4,05 6,7 9,00 1,3 161,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-376 45 4,50 5,0 134,10 4,50 6,6 8,85 1,3 161,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-377 45 4,50 5,0 134,10 4,95 6,6 8,85 1,3 161,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-378 45 4,50 5,0 134,10 5,40 6,6 8,85 1,3 161,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-379 45 4,50 5,0 123,15 3,60 6,7 21,45 1,3 159,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-380 45 4,50 5,0 123,15 4,05 6,7 21,45 1,3 159,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-381 45 4,50 5,0 123,25 4,50 6,6 21,15 1,3 159,33 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-382 45 4,50 5,0 123,25 4,95 6,6 21,15 1,3 159,33 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-383 45 4,50 5,0 123,25 5,40 6,6 21,15 1,3 159,33 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-384 45 4,50 5,0 115,00 3,60 6,7 30,85 1,3 156,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-385 45 4,50 5,0 115,00 4,05 6,7 30,85 1,3 156,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-386 45 4,50 5,0 115,20 4,50 6,6 30,45 1,3 157,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-387 45 4,50 5,0 115,20 4,95 6,6 30,45 1,3 157,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-388 45 4,50 5,0 115,20 5,40 6,6 30,45 1,3 157,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-389 45 4,50 5,0 169,80 3,60 6,7 11,40 1,3 98,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-390 45 4,50 5,0 169,80 4,05 6,7 11,40 1,3 98,00 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-391 45 4,50 5,0 169,85 4,50 6,6 11,25 1,3 98,17 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-392 45 4,50 5,0 169,85 4,95 6,6 11,25 1,3 98,17 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-393 45 4,50 5,0 169,85 5,40 6,6 11,25 1,3 98,17 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-394 45 4,50 5,0 155,60 3,60 6,7 27,10 1,3 95,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-395 45 4,50 5,0 155,60 4,05 6,7 27,10 1,3 95,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-396 45 4,50 5,0 155,75 4,50 6,6 26,75 1,3 95,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-397 45 4,50 5,0 155,75 4,95 6,6 26,75 1,3 95,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-398 45 4,50 5,0 155,75 5,40 6,6 26,75 1,3 95,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-399 45 4,50 5,0 144,95 3,60 6,7 38,85 1,3 93,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-400 45 4,50 5,0 144,95 4,05 6,7 38,85 1,3 93,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-401 45 4,50 5,0 145,20 4,50 6,6 38,35 1,3 94,08 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-402 45 4,50 5,0 145,20 4,95 6,6 38,35 1,3 94,08 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-403 45 4,50 5,0 145,20 5,40 6,6 38,35 1,3 94,08 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-404 45 4,50 5,0 195,90 3,60 6,7 13,15 1,3 51,58 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 19
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-405 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,0 195,90 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,05 6,7 13,15 1,3 51,58 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм) 4,2 30,00
CP-406 45 4,50 5,0 196,10 4,50 6,6 12,95 1,3 51,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-407 45 4,50 5,0 196,10 4,95 6,6 12,95 1,3 51,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-408 45 4,50 5,0 196,10 5,40 6,6 12,95 1,3 51,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-409 45 4,50 5,0 179,15 3,60 6,7 31,20 1,3 49,42 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-410 45 4,50 5,0 179,15 4,05 6,7 31,20 1,3 49,42 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-411 45 4,50 5,0 179,45 4,50 6,6 30,80 1,3 49,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-412 45 4,50 5,0 179,45 4,95 6,6 30,80 1,3 49,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-413 45 4,50 5,0 179,45 5,40 6,6 30,80 1,3 49,58 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-414 45 4,50 5,0 166,60 3,60 6,7 44,70 1,3 47,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-415 45 4,50 5,0 166,60 4,05 6,7 44,70 1,3 47,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-416 45 4,50 5,0 167,05 4,50 6,6 44,10 1,3 48,08 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-417 45 4,50 5,0 167,05 4,95 6,6 44,10 1,3 48,08 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-418 45 4,50 5,0 167,05 5,40 6,6 44,10 1,3 48,08 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-419 45 4,50 5,0 155,75 4,50 6,6 26,75 1,3 95,83 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-420 45 4,50 5,0 159,00 4,50 6,6 23,20 1,3 96,33 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 20
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C76 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,0 113,20 Нет 1,3 269,67 1,3 5,00 Нет
CP-C77 45 4,50 5,0 174,30 1,3 167,83 1,3 5,00
CP-C78 45 4,50 5,0 212,50 1,3 104,17 1,3 5,00
CP-C79 45 4,50 5,0 112,00 Частицы F-легированного оксида олова (средний 4,50 6,6 1,48 1,3 269,20 1,3 5,00
диаметр частиц:
20 нм)
CP-C80 45 4,50 5,0 172,20 4,50 6,6 2,29 1,3 167,52 1,3 5,00
CP-C81 45 4,50 5,0 209,90 4,50 6,6 2,78 1,3 103,87 1,3 5,00
CP-C82 45 4,50 5,0 84,60 4,50 6,6 33,50 1,3 261,50 1,3 5,00
CP-C83 45 4,50 5,0 128,20 4,50 6,6 50,76 1,3 160,07 1,3 5,00
CP-C84 45 4,50 5,0 154,80 4,50 6,6 61,30 1,3 98,17 1,3 5,00
CP-C85 Нет 4,50 6,6 132,30 1,3 237,83 1,3 5,00
CP-C86 4,50 6,6 191,85 1,3 138,58 1,3 5,00
CP-C87 4,50 6,6 225,67 1,3 82,22 1,3 5,00
CP-C88 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,0 82,10 4,50 6,6 2,17 1,3 317,88 1,3 5,00
CP-C89 45 4,50 5,0 79,50 4,50 6,6 5,25 1,3 317,08 1,3 5,00
CP-C90 45 4,50 5,0 73,50 4,50 6,6 12,61 1,3 314,82 1,3 5,00
CP-C91 45 4,50 5,0 68,80 4,50 6,6 18,18 1,3 313,37 1,3 5,00
CP-C92 45 4,50 5,0 65,90 4,50 6,6 21,75 1,3 312,25 1,3 5,00
CP-C93 45 4,50 5,0 216,76 4,50 6,6 5,75 1,3 87,48 1,3 5,00
CP-C94 45 4,50 5,0 209,10 4,50 6,6 13,81 1,3 86,82 1,3 5,00
CP-C95 45 4,50 5,0 191,10 4,50 6,6 32,80 1,3 85,17 1,3 5,00
CP-C96 45 4,50 5,0 177,65 4,50 6,6 46,95 1,3 84,00 1,3 5,00
CP-C97 45 4,50 5,0 169,20 4,50 6,6 55,85 1,3 83,25 1,3 5,00
Таблица 21
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C98 Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 - 5,1 152,20 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00 Нет
CP-C99 Частицы 45 - 5,1 152,20 4,50 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)
CP-C100 Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 153,50 4,50 6,6 25,35 1,3 160,25 1,3 5,00
СР-С101 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,0 150,75 Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм) - 6,6 25,90 1,3 163,92 1,3 5,00
CP-C102 45 4,50 5,0 149,72 Частицы оксида индия олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,1 27,63 1,3 162,50 1,3 5,00
CP-C103 45 4,50 5,0 150,76 Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,6 25,87 1,3 163,95 1,3 5,00
CP-C104 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 153,50 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,6 25,32 1,3 160,30 1,3 5,00
CP-C105 Частицы сульфата бария, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,0 150,75 4,50 6,6 25,90 1,3 163,92 1,3 5,00
Таблица 44
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-421 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 111,95 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
3,60 7,0 3,07 1,3 266,63 1,3 5,00 Нет
CP-422 45 4,50 5,1 111,95 4,05 7,0 3,07 1,3 266,63 1,3 5,00
CP-423 45 4,50 5,1 111,95 4,50 7,0 3,07 1,3 266,63 1,3 5,00
CP-424 45 4,50 5,1 111,95 4,95 7,0 3,07 1,3 266,63 1,3 5,00
CP-425 45 4,50 5,1 111,95 5,40 7,0 3,07 1,3 266,63 1,3 5,00
CP-426 45 4,50 5,1 108,30 4,50 7,0 7,43 1,3 265,45 1,3 5,00
CP-427 45 4,50 5,1 99,60 3,60 7,0 17,77 1,3 262,72 1,3 5,00
CP-428 45 4,50 5,1 99,60 4,05 7,0 17,77 1,3 262,72 1,3 5,00
CP-429 45 4,50 5,1 99,60 4,50 7,0 17,77 1,3 262,72 1,3 5,00
CP-430 45 4,50 5,1 99,60 4,95 7,0 17,77 1,3 262,72 1,3 5,00
CP-431 45 4,50 5,1 99,60 5,40 7,0 17,77 1,3 262,72 1,3 5,00
CP-432 45 4,50 5,1 93,10 4,50 7,0 25,56 1,3 260,57 1,3 5,00
CP-433 45 4,50 5,1 88,92 3,60 7,0 30,51 1,3 259,28 1,3 5,00
CP-434 45 4,50 5,1 88,92 4,05 7,0 30,51 1,3 259,28 1,3 5,00
CP-435 45 4,50 5,1 88,92 4,50 7,0 30,51 1,3 259,28 1,3 5,00
CP-436 45 4,50 5,1 88,92 4,95 7,0 30,51 1,3 259,28 1,3 5,00
CP-437 45 4,50 5,1 88,92 5,40 7,0 30,51 1,3 259,28 1,3 5,00
CP-438 45 4,50 5,1 135,45 4,50 7,0 3,72 1,3 259,28 1,3 5,00
CP-439 45 4,50 5,1 130,90 3,60 7,0 8,98 1,3 225,20 1,3 5,00
CP-440 45 4,50 5,1 130,90 4,05 7,0 8,98 1,3 225,20 1,3 5,00
CP-441 45 4,50 5,1 130,90 4,50 7,0 8,98 1,3 225,20 1,3 5,00
CP-442 45 4,50 5,1 130,90 4,95 7,0 8,98 1,3 225,20 1,3 5,00
CP-443 45 4,50 5,1 130,90 5,40 7,0 8,98 1,3 225,20 1,3 5,00
CP-444 45 4,50 5,1 120,15 3,60 7,0 21,44 1,3 222,35 1,3 5,00
CP-445 45 4,50 5,1 120,15 4,05 7,0 21,44 1,3 222,35 1,3 5,00
CP-446 45 4,50 5,1 120,15 4,50 7,0 21,44 1,3 222,35 1,3 5,00
СР-447 45 4,50 5,1 120,15 4,95 7,0 21,44 1,3 222,35 1,3 5,00
СР-448 45 4,50 5,1 120,15 5,40 7,0 21,44 1,3 222,35 1,3 5,00
СР-449 45 4,50 5,1 112,08 3,60 7,0 30,77 1,3 220,25 1,3 5,00
СР-450 45 4,50 5,1 112,08 4,05 7,0 30,77 1,3 220,25 1,3 5,00
СР-451 45 4,50 5,1 112,08 4,50 7,0 30,77 1,3 220,25 1,3 5,00
СР-452 45 4,50 5,1 112,08 4,95 7,0 30,77 1,3 220,25 1,3 5,00
СР-453 45 4,50 5,1 112,08 5,40 7,0 30,77 1,3 220,25 1,3 5,00
СР-454 45 4,50 5,1 106,95 4,50 7,0 36,70 1,3 218,92 1,3 5,00
СР-455 45 4,50 5,1 171,35 3,60 7,0 4,70 1,3 164,92 1,3 5,00
СР-456 45 4,50 5,1 171,35 4,05 7,0 4,70 1,3 164,92 1,3 5,00
СР-457 45 4,50 5,1 171,35 4,50 7,0 4,70 1,3 164,92 1,3 5,00
СР-458 45 4,50 5,1 171,35 4,95 7,0 4,70 1,3 164,92 1,3 5,00
СР-459 45 4,50 5,1 171,35 5,40 7,0 4,70 1,3 164,92 1,3 5,00
СР-460 45 4,50 5,1 165,37 3,60 7,0 11,35 1,3 163,80 1,3 5,00
Таблица 45
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-461 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 165,37 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,05 7,0 11,35 1,3 163,80 1,3 5,00 Нет
CP-462 45 4,50 5,1 165,37 4,50 7,0 11,35 1,3 163,80 1,3 5,00
CP-463 45 4,50 5,1 165,37 4,95 7,0 11,35 1,3 163,80 1,3 5,00
CP-464 45 4,50 5,1 165,37 5,40 7,0 11,35 1,3 163,80 1,3 5,00
CP-465 45 4,50 5,1 151,30 3,60 7,0 27,00 1,3 161,17 1,3 5,00
CP-466 45 4,50 5,1 151,30 4,05 7,0 27,00 1,3 161,17 1,3 5,00
CP-467 45 4,50 5,1 151,30 4,50 7,0 27,00 1,3 161,17 1,3 5,00
CP-468 45 4,50 5,1 151,30 4,95 7,0 27,00 1,3 161,17 1,3 5,00
CP-469 45 4,50 5,1 151,30 5,40 7,0 27,00 1,3 161,17 1,3 5,00
CP-470 45 4,50 5,1 140,84 3,60 7,0 38,66 1,3 159,17 1,3 5,00
CP-471 45 4,50 5,1 140,84 4,05 7,0 38,66 1,3 159,17 1,3 5,00
CP-472 45 4,50 5,1 140,84 4,50 7,0 38,66 1,3 159,17 1,3 5,00
CP-473 45 4,50 5,1 140,84 4,95 7,0 38,66 1,3 159,17 1,3 5,00
CP-474 45 4,50 5,1 140,84 5,40 7,0 38,66 1,3 159,17 1,3 5,00
CP-475 45 4,50 5,1 134,20 3,60 7,0 46,05 1,3 157,92 1,3 5,00
CP-476 45 4,50 5,1 134,20 4,05 7,0 46,05 1,3 157,92 1,3 5,00
CP-477 45 4,50 5,1 134,20 4,50 7,0 46,05 1,3 157,92 1,3 5,00
CP-478 45 4,50 5,1 134,20 4,95 7,0 46,05 1,3 157,92 1,3 5,00
CP-479 45 4,50 5,1 134,20 5,40 7,0 46,05 1,3 157,92 1,3 5,00
CP-480 45 4,50 5,1 197,53 4,50 7,0 5,43 1,3 120,07 1,3 5,00
CP-481 45 4,50 5,1 190,45 3,60 7,0 13,08 1,3 119,12 1,3 5,00
CP-482 45 4,50 5,1 190,45 4,05 7,0 13,08 1,3 119,12 1,3 5,00
CP-483 45 4,50 5,1 190,45 4,50 7,0 13,08 1,3 119,12 1,3 5,00
CP-484 45 4,50 5,1 190,45 4,95 7,0 13,08 1,3 119,12 1,3 5,00
CP-485 45 4,50 5,1 190,45 5,40 7,0 13,08 1,3 119,12 1,3 5,00
CP-486 45 4,50 5,1 173,86 3,60 7,0 31,02 1,3 116,87 1,3 5,00
СР-487 45 4,50 5,1 173,86 4,05 7,0 31,02 1,3 116,87 1,3 5,00
СР-488 45 4,50 5,1 173,86 4,50 7,0 31,02 1,3 116,87 1,3 5,00
СР-489 45 4,50 5,1 173,86 4,95 7,0 31,02 1,3 116,87 1,3 5,00
СР-490 45 4,50 5,1 173,86 5,40 7,0 31,02 1,3 116,87 1,3 5,00
СР-491 45 4,50 5,1 161,54 3,60 7,0 44,35 1,3 115,18 1,3 5,00
СР-492 45 4,50 5,1 161,54 4,05 7,0 44,35 1,3 115,18 1,3 5,00
СР-493 45 4,50 5,1 161,54 4,50 7,0 44,35 1,3 115,18 1,3 5,00
СР-494 45 4,50 5,1 161,54 4,95 7,0 44,35 1,3 115,18 1,3 5,00
СР-495 45 4,50 5,1 161,54 5,40 7,0 44,35 1,3 115,18 1,3 5,00
СР-496 45 4,50 5,1 153,76 4,50 7,0 52,76 1,3 114,13 1,3 5,00
СР-497 45 4,50 5,1 208,14 3,60 7,0 5,72 1,3 101,90 1,3 5,00
СР-498 45 4,50 5,1 208,14 4,05 7,0 5,72 1,3 101,90 1,3 5,00
СР-499 45 4,50 5,1 208,14 4,50 7,0 5,72 1,3 101,90 1,3 5,00
СР-500 45 4,50 5,1 208,14 4,95 7,0 5,72 1,3 101,90 1,3 5,00
Таблица 46
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-501 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 208,14 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
5,40 7,0 5,72 1,3 101,90 1,3 5,00 Нет
CP-502 45 4,50 5,1 200,62 4,50 7,0 13,76 1,3 101,03 1,3 5,00
CP-503 45 4,50 5,1 182,95 3,60 7,0 32,64 1,3 99,02 1,3 5,00
CP-504 45 4,50 5,1 182,95 4,05 7,0 32,64 1,3 99,02 1,3 5,00
CP-505 45 4,50 5,1 182,95 4,50 7,0 32,64 1,3 99,02 1,3 5,00
CP-506 45 4,50 5,1 182,95 4,95 7,0 32,64 1,3 99,02 1,3 5,00
CP-507 45 4,50 5,1 182,95 5,40 7,0 32,64 1,3 99,02 1,3 5,00
CP-508 45 4,50 5,1 169,87 4,50 7,0 46,62 1,3 97,52 1,3 5,00
CP-509 45 4,50 5,1 161,62 3,60 7,0 55,45 1,3 96,55 1,3 5,00
CP-510 45 4,50 5,1 161,62 4,05 7,0 55,45 1,3 96,55 1,3 5,00
CP-511 45 4,50 5,1 161,62 4,50 7,0 55,45 1,3 96,55 1,3 5,00
CP-512 45 4,50 5,1 161,62 4,95 7,0 55,45 1,3 96,55 1,3 5,00
CP-513 45 4,50 5,1 161,62 5,40 7,0 55,45 1,3 96,55 1,3 5,00
CP-514 45 4,50 5,1 135,25 3,60 7,0 9,28 1,3 159,12 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм) 4,2 30,00
CP-515 45 4,50 5,1 135,25 4,05 7,0 9,28 1,3 159,12 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-516 45 4,50 5,1 135,25 4,50 7,0 9,28 1,3 159,12 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-517 45 4,50 5,1 135,25 4,95 7,0 9,28 1,3 159,12 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-518 45 4,50 5,1 135,25 5,40 7,0 9,28 1,3 159,12 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-519 45 4,50 5,1 124,13 3,60 7,0 22,15 1,3 156,20 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-520 45 4,50 5,1 124,13 4,05 7,0 22,15 1,3 156,20 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-521 45 4,50 5,1 124,13 4,50 7,0 22,15 1,3 156,20 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-522 45 4,50 5,1 124,13 4,95 7,0 22,15 1,3 156,20 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-523 45 4,50 5,1 124,13 5,40 7,0 22,15 1,3 156,20 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-524 45 4,50 5,1 115,80 3,60 7,0 31,79 1,3 154,02 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-525 45 4,50 5,1 115,80 4,05 7,0 31,79 1,3 154,02 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-526 45 4,50 5,1 115,80 4,50 7,0 31,79 1,3 154,02 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-527 45 4,50 5,1 115,80 4,95 7,0 31,79 1,3 154,02 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-528 45 4,50 5,1 115,80 5,40 7,0 31,79 1,3 154,02 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-529 45 4,50 5,1 170,85 3,60 7,0 11,72 1,3 95,72 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-530 45 4,50 5,1 170,85 4,05 7,0 11,72 1,3 95,72 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-531 45 4,50 5,1 170,85 4,50 7,0 11,72 1,3 95,72 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-532 45 4,50 5,1 170,85 4,95 7,0 11,72 1,3 95,72 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-533 45 4,50 5,1 170,85 5,40 7,0 11,72 1,3 95,72 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-534 45 4,50 5,1 156,32 3,60 7,0 27,90 1,3 92,97 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-535 45 4,50 5,1 156,32 4,05 7,0 27,90 1,3 92,97 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-536 45 4,50 5,1 156,32 4,50 7,0 27,90 1,3 92,97 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-537 45 4,50 5,1 156,32 4,95 7,0 27,90 1,3 92,97 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-538 45 4,50 5,1 156,32 5,40 7,0 27,90 1,3 92,97 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-539 45 4,50 5,1 145,50 3,60 7,0 39,95 1,3 90,92 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-540 45 4,50 5,1 145,50 4,05 7,0 39,95 1,3 90,92 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 47
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-541 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 145,50 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,0 39,95 1,3 90,92 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:
210 нм)
4,2 30,00
CP-542 45 4,50 5,1 145,50 4,95 7,0 39,95 1,3 90,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-543 45 4,50 5,1 145,50 5,40 7,0 39,95 1,3 90,92 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-544 45 4,50 5,1 196,78 3,60 7,0 13,50 1,3 49,53 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-545 45 4,50 5,1 196,78 4,05 7,0 13,50 1,3 49,53 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-546 45 4,50 5,1 196,78 4,50 7,0 13,50 1,3 49,53 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-547 45 4,50 5,1 196,78 4,95 7,0 13,50 1,3 49,53 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-548 45 4,50 5,1 196,78 5,40 7,0 13,50 1,3 49,53 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-549 45 4,50 5,1 179,62 3,60 7,0 32,05 1,3 47,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-550 45 4,50 5,1 179,62 4,05 7,0 32,05 1,3 47,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-551 45 4,50 5,1 179,62 4,50 7,0 32,05 1,3 47,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-552 45 4,50 5,1 179,62 4,95 7,0 32,05 1,3 47,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-553 45 4,50 5,1 179,62 5,40 7,0 32,05 1,3 47,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-554 45 4,50 5,1 166,90 3,60 7,0 45,82 1,3 45,47 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-555 45 4,50 5,1 166,90 4,05 7,0 45,82 1,3 45,47 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-556 45 4,50 5,1 166,90 4,50 7,0 45,82 1,3 45,47 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-557 45 4,50 5,1 166,90 4,95 7,0 45,82 1,3 45,47 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-558 45 4,50 5,1 166,90 5,40 7,0 45,82 1,3 45,47 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-559 45 4,50 5,1 156,32 4,50 7,0 27,90 1,3 92,97 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-560 45 4,50 5,1 159,70 4,50 7,0 24,15 1,3 93,58 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 48
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C107 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 114,55 Нет 1,3 267,42 1,3 5,00 Нет
CP-C108 45 4,50 5,1 175,58 1,3 165,70 1,3 5,00
CP-C109 45 4,50 5,1 213,48 1,3 102,53 1,3 5,00
CP-C110 45 4,50 5,1 113,25 Частицы Nb-легированного 4,50 7,0 1,55 1,3 267,00 1,3 5,00
оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
CP-C111 45 4,50 5,1 173,45 4,50 7,0 2,37 1,3 165,30 1,3 5,00
CP-C112 45 4,50 5,1 210,77 4,50 7,0 2,90 1,3 102,22 1,3 5,00
CP-C113 45 4,50 5,1 85,10 4,50 7,0 35,04 1,3 258,10 1,3 5,00
CP-C114 45 4,50 5,1 128,15 4,50 7,0 52,76 1,3 156,82 1,3 5,00
CP-C115 45 4,50 5,1 154,12 4,50 7,0 63,46 1,3 95,70 1,3 5,00
CP-C116 Нет 4,50 7,0 136,40 1,3 231,00 1,3 5,00
CP-C117 4,50 7,0 195,35 1,3 132,75 1,3 5,00
CP-C118 4,50 7,0 228,20 1,3 78,00 1,3 5,00
CP-C119 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 83,15 4,50 7,0 2,28 1,3 315,95 1,3 5,00
CP-C120 45 4,50 5,1 80,50 4,50 7,0 5,53 1,3 314,95 1,3 5,00
CP-C121 45 4,50 5,1 74,24 4,50 7,0 13,25 1,3 312,52 1,3 5,00
CP-C122 45 4,50 5,1 69,55 4,50 7,0 19,09 1,3 310,60 1,3 5,00
CP-C123 45 4,50 5,1 66,50 4,50 7,0 22,82 1,3 309,47 1,3 5,00
CP-C124 45 4,50 5,1 217,47 4,50 7,0 5,98 1,3 85,92 1,3 5,00
CP-C125 45 4,50 5,1 209,55 4,50 7,0 14,37 1,3 85,13 1,3 5,00
CP-C126 45 4,50 5,1 190,95 4,50 7,0 34,06 1,3 83,32 1,3 5,00
CP-C127 45 4,50 5,1 177,18 4,50 7,0 48,63 1,3 81,98 1,3 5,00
CP-C128 45 4,50 5,1 168,49 4,50 7,0 57,82 1,3 81,15 1,3 5,00
Таблица 49
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-561 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 113,20 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 3,60 7,3 3,18 1,3 264,37 1,3 5,00 Нет
CP-562 45 4,50 5,2 113,20 4,05 7,3 3,18 1,3 264,37 1,3 5,00
CP-563 45 4,50 5,2 113,20 4,50 7,4 3,22 1,3 264,30 1,3 5,00
CP-564 45 4,50 5,2 113,20 4,95 7,4 3,22 1,3 264,30 1,3 5,00
CP-565 45 4,50 5,2 113,20 5,40 7,5 3,26 1,3 264,23 1,3 5,00
CP-566 45 4,50 5,2 109,45 4,50 7,4 7,79 1,3 262,93 1,3 5,00
CP-567 45 4,50 5,2 100,60 3,60 7,3 18,36 1,3 260,07 1,3 5,00
CP-568 45 4,50 5,2 100,60 4,05 7,3 18,36 1,3 260,07 1,3 5,00
CP-569 45 4,50 5,2 100,50 4,50 7,4 18,59 1,3 259,85 1,3 5,00
CP-570 45 4,50 5,2 100,50 4,95 7,4 18,59 1,3 259,85 1,3 5,00
CP-571 45 4,50 5,2 100,43 5,40 7,5 18,83 1,3 259,57 1,3 5,00
CP-572 45 4,50 5,2 93,80 4,50 7,4 26,70 1,3 257,50 1,3 5,00
CP-573 45 4,50 5,2 89,70 3,60 7,3 31,48 1,3 256,37 1,3 5,00
CP-574 45 4,50 5,2 89,70 4,05 7,3 31,48 1,3 256,37 1,3 5,00
CP-575 45 4,50 5,2 89,57 4,50 7,4 31,87 1,3 255,93 1,3 5,00
CP-576 45 4,50 5,2 89,57 4,95 7,4 31,87 1,3 255,93 1,3 5,00
CP-577 45 4,50 5,2 89,42 5,40 7,5 32,24 1,3 255,57 1,3 5,00
CP-578 45 4,50 5,2 136,70 4,50 7,4 3,90 1,3 224,00 1,3 5,00
CP-579 45 4,50 5,2 132,05 3,60 7,3 9,27 1,3 222,80 1,3 5,00
CP-580 45 4,50 5,2 132,05 4,05 7,3 9,27 1,3 222,80 1,3 5,00
CP-581 45 4,50 5,2 132,00 4,50 7,4 9,40 1,3 222,67 1,3 5,00
CP-582 45 4,50 5,2 132,00 4,95 7,4 9,40 1,3 222,67 1,3 5,00
CP-583 45 4,50 5,2 131,95 5,40 7,5 9,52 1,3 222,55 1,3 5,00
CP-584 45 4,50 5,2 121,10 3,60 7,3 22,10 1,3 219,67 1,3 5,00
CP-585 45 4,50 5,2 121,10 4,05 7,3 22,10 1,3 219,67 1,3 5,00
CP-586 45 4,50 5,2 120,95 4,50 7,4 22,38 1,3 219,45 1,3 5,00
СР-587 45 4,50 5,2 120,95 4,95 7,4 22,38 1,3 219,45 1,3 5,00
СР-588 45 4,50 5,2 120,82 5,40 7,5 22,66 1,3 219,20 1,3 5,00
СР-589 45 4,50 5,2 112,88 3,60 7,3 31,70 1,3 217,37 1,3 5,00
СР-590 45 4,50 5,2 112,88 4,05 7,3 31,70 1,3 217,37 1,3 5,00
СР-591 45 4,50 5,2 112,70 4,50 7,4 32,08 1,3 217,03 1,3 5,00
СР-592 45 4,50 5,2 112,70 4,95 7,4 32,08 1,3 217,03 1,3 5,00
СР-593 45 4,50 5,2 112,52 5,40 7,5 32,45 1,3 216,72 1,3 5,00
СР-594 45 4,50 5,2 107,45 4,50 7,4 38,22 1,3 215,55 1,3 5,00
СР-595 45 4,50 5,2 172,50 3,60 7,3 4,85 1,3 162,75 1,3 5,00
СР-596 45 4,50 5,2 172,50 4,05 7,3 4,85 1,3 162,75 1,3 5,00
СР-597 45 4,50 5,2 172,48 4,50 7,4 4,90 1,3 162,70 1,3 5,00
СР-598 45 4,50 5,2 172,48 4,95 7,4 4,90 1,3 162,70 1,3 5,00
СР-599 45 4,50 5,2 172,42 5,40 7,5 4,98 1,3 162,67 1,3 5,00
СР-600 45 4,50 5,2 166,40 3,60 7,3 11,68 1,3 161,53 1,3 5,00
Таблица 50
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-601 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 166,40 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,05 7,3 11,68 1,3 161,53 1,3 5,00 Нет
CP-602 45 4,50 5,2 166,30 4,50 7,4 11,83 1,3 161,45 1,3 5,00
CP-603 45 4,50 5,2 166,30 4,95 7,4 11,83 1,3 161,45 1,3 5,00
CP-604 45 4,50 5,2 166,22 5,40 7,5 11,99 1,3 161,32 1,3 5,00
CP-605 45 4,50 5,2 152,02 3,60 7,3 27,75 1,3 158,72 1,3 5,00
CP-606 45 4,50 5,2 152,02 4,05 7,3 27,75 1,3 158,72 1,3 5,00
CP-607 45 4,50 5,2 151,83 4,50 7,4 28,09 1,3 158,47 1,3 5,00
CP-608 45 4,50 5,2 151,83 4,95 7,4 28,09 1,3 158,47 1,3 5,00
CP-609 45 4,50 5,2 151,61 5,40 7,5 28,43 1,3 158,27 1,3 5,00
CP-610 45 4,50 5,2 141,37 3,60 7,3 39,69 1,3 156,57 1,3 5,00
CP-611 45 4,50 5,2 141,37 4,05 7,3 39,69 1,3 156,57 1,3 5,00
CP-612 45 4,50 5,2 141,10 4,50 7,4 40,15 1,3 156,25 1,3 5,00
CP-613 45 4,50 5,2 141,10 4,95 7,4 40,15 1,3 156,25 1,3 5,00
CP-614 45 4,50 5,2 140,82 5,40 7,5 40,62 1,3 155,93 1,3 5,00
CP-615 45 4,50 5,2 134,60 3,60 7,3 47,24 1,3 155,27 1,3 5,00
CP-616 45 4,50 5,2 134,60 4,05 7,3 47,24 1,3 155,27 1,3 5,00
CP-617 45 4,50 5,2 134,30 4,50 7,4 47,78 1,3 154,87 1,3 5,00
CP-618 45 4,50 5,2 134,30 4,95 7,4 47,78 1,3 154,87 1,3 5,00
CP-619 45 4,50 5,2 133,98 5,40 7,5 48,31 1,3 154,52 1,3 5,00
CP-620 45 4,50 5,2 198,45 4,50 7,4 5,65 1,3 118,17 1,3 5,00
CP-621 45 4,50 5,2 191,27 3,60 7,3 13,43 1,3 117,17 1,3 5,00
CP-622 45 4,50 5,2 191,27 4,05 7,3 13,43 1,3 117,17 1,3 5,00
CP-623 45 4,50 5,2 191,15 4,50 7,4 13,60 1,3 117,08 1,3 5,00
CP-624 45 4,50 5,2 191,15 4,95 7,4 13,60 1,3 117,08 1,3 5,00
CP-625 45 4,50 5,2 191,00 5,40 7,5 13,78 1,3 117,03 1,3 5,00
CP-626 45 4,50 5,2 174,32 3,60 7,3 31,82 1,3 114,77 1,3 5,00
CP-627 45 4,50 5,2 174,32 4,05 7,3 31,82 1,3 114,77 1,3 5,00
CP-628 45 4,50 5,2 174,05 4,50 7,4 32,20 1,3 114,58 1,3 5,00
CP-629 45 4,50 5,2 174,05 4,95 7,4 32,20 1,3 114,58 1,3 5,00
CP-630 45 4,50 5,2 173,78 5,40 7,5 32,58 1,3 114,40 1,3 5,00
СР-631 45 4,50 5,2 161,77 3,60 7,3 45,42 1,3 113,02 1,3 5,00
СР-632 45 4,50 5,2 161,77 4,05 7,3 45,42 1,3 113,02 1,3 5,00
СР-633 45 4,50 5,2 161,42 4,50 7,4 45,95 1,3 112,72 1,3 5,00
СР-634 45 4,50 5,2 161,42 4,95 7,4 45,95 1,3 112,72 1,3 5,00
СР-635 45 4,50 5,2 161,07 5,40 7,5 46,46 1,3 112,45 1,3 5,00
СР-636 45 4,50 5,2 153,46 4,50 7,4 54,60 1,3 111,57 1,3 5,00
СР-637 45 4,50 5,2 209,00 3,60 7,3 5,87 1,3 100,22 1,3 5,00
СР-638 45 4,50 5,2 209,00 4,05 7,3 5,87 1,3 100,22 1,3 5,00
СР-639 45 4,50 5,2 208,92 4,50 7,4 5,96 1,3 100,20 1,3 5,00
СР-640 45 4,50 5,2 208,92 4,95 7,4 5,96 1,3 100,20 1,3 5,00
Таблица 51
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-641 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 208,87 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 5,40 7,5 6,03 1,3 100,17 1,3 5,00 Нет
CP-642 45 4,50 5,2 201,16 4,50 7,4 14,30 1,3 99,23 1,3 5,00
CP-643 45 4,50 5,2 183,27 3,60 7,3 33,45 1,3 97,13 1,3 5,00
CP-644 45 4,50 5,2 183,27 4,05 7,3 33,45 1,3 97,13 1,3 5,00
CP-645 45 4,50 5,2 182,97 4,50 7,4 33,85 1,3 96,97 1,3 5,00
CP-646 45 4,50 5,2 182,97 4,95 7,4 33,85 1,3 96,97 1,3 5,00
CP-647 45 4,50 5,2 182,67 5,40 7,5 34,25 1,3 96,80 1,3 5,00
CP-648 45 4,50 5,2 169,56 4,50 7,4 48,27 1,3 95,28 1,3 5,00
CP-649 45 4,50 5,2 161,58 3,60 7,3 56,71 1,3 94,52 1,3 5,00
CP-650 45 4,50 5,2 161,58 4,05 7,3 56,71 1,3 94,52 1,3 5,00
CP-651 45 4,50 5,2 161,13 4,50 7,4 57,32 1,3 94,25 1,3 5,00
CP-652 45 4,50 5,2 161,13 4,95 7,4 57,32 1,3 94,25 1,3 5,00
CP-653 45 4,50 5,2 160,68 5,40 7,5 57,94 1,3 93,97 1,3 5,00
Таблица 52
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-654 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,2 136,45 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
3,60 7,3 9,58 1,3 156,62 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:
210 нм)
4,2 30,00
CP-655 45 4,50 5,2 136,45 4,05 7,3 9,58 1,3 156,62 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-656 45 4,50 5,2 136,40 4,50 7,4 9,70 1,3 156,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-657 45 4,50 5,2 136,40 4,95 7,4 9,70 1,3 156,50 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-658 45 4,50 5,2 136,34 5,40 7,5 9,83 1,3 156,38 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-659 45 4,50 5,2 125,10 3,60 7,3 22,83 1,3 153,45 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-660 45 4,50 5,2 125,10 4,05 7,3 22,83 1,3 153,45 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-661 45 4,50 5,2 124,95 4,50 7,4 23,12 1,3 153,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-662 45 4,50 5,2 124,95 4,95 7,4 23,12 1,3 153,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-663 45 4,50 5,2 124,82 5,40 7,5 23,40 1,3 152,97 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-664 45 4,50 5,2 116,60 3,60 7,3 32,73 1,3 151,12 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-665 45 4,50 5,2 116,60 4,05 7,3 32,73 1,3 151,12 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-666 45 4,50 5,2 116,42 4,50 7,4 33,13 1,3 150,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-667 45 4,50 5,2 116,42 4,95 7,4 33,13 1,3 150,75 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-668 45 4,50 5,2 116,25 5,40 7,5 33,53 1,3 150,37 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-669 45 4,50 5,2" 171,92 3,60 7,3 12,06 1,3 93,37 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-670 45 4,50 5,2 171,92 4,05 7,3 12,06 1,3 93,37 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-671 45 4,50 5,2 171,82 4,50 7,4 12,23 1,3 93,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-672 45 4,50 5,2 171,82 4,95 7,4 12,23 1,3 93,25 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-673 45 4,50 5,2 171,72 5,40 7,5 12,38 1,3 93,17 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-674 45 4,50 5,2 157,08 3,60 7,3 28,67 1,3 90,42 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-675 45 4,50 5,2 157,08 4,05 7,3 28,67 1,3 90,42 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-676 45 4,50 5,2 156,85 4,50 7,4 29,02 1,3 90,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-677 45 4,50 5,2 156,85 4,95 7,4 29,02 1,3 90,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-678 45 4,50 5,2 156,64 5,40 7,5 29,37 1,3 89,98 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-679 45 4,50 5,2 146,04 3,60 7,3 41,00 1,3 88,27 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-680 45 4,50 5,2 146,04 4,05 7,3 41,00 1,3 88,27 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-681 45 4,50 5,2 145,76 4,50 7,4 41,48 1,3 87,93 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-682 45 4,50 5,2 145,76 4,95 7,4 41,48 1,3 87,93 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-683 45 4,50 5,2 145,48 5,40 7,5 41,96 1,3 87,60 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-684 45 4,50 5,2 197,62 3,60 7,3 13,86 1,3 47,53 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-685 45 4,50 5,2 197,62 4,05 7,3 13,86 1,3 47,53 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-686 45 4,50 5,2 197,48 4,50 7,4 14,05 1,3 47,45 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-687 45 4,50 5,2 197,48 4,95 7,4 14,05 1,3 47,45 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-688 45 4,50 5,2 197,36 5,40 7,5 14,22 1,3 47,37 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-689 45 4,50 5,2 180,09 3,60 7,3 32,87 1,3 45,07 1,3 40,00 4,2 30,00
СР-690 45 4,50 5,2 180,09 4,05 7,3 32,87 1,3 45,07 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 53
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-691 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,2 179,82 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,4 33,26 1,3 44,87 1,3 40,00 Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:
210 нм)
4,2 30,00
CP-692 45 4,50 5,2 179,82 4,95 7,4 33,26 1,3 44,87 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-693 45 4,50 5,2 179,55 5,40 7,5 33,66 1,3 44,65 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-694 45 4,50 5,2 167,15 3,60 7,3 46,92 1,3 43,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-695 45 4,50 5,2 167,15 4,05 7,3 46,92 1,3 43,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-696 45 4,50 5,2 166,77 4,50 7,4 47,46 1,3 42,95 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-697 45 4,50 5,2 166,77 4,95 7,4 47,46 1,3 42,95 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-698 45 4,50 5,2 166,40 5,40 7,5 48,00 1,3 42,67 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-699 45 4,50 5,2 156,85 4,50 7,4 29,02 1,3 90,22 1,3 40,00 4,2 30,00
CP-700 45 4,50 5,2 160,36 4,50 7,4 25,10 1,3 90,90 1,3 40,00 4,2 30,00
Таблица 54
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C129 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,2 115,85 Нет 1,3 265,25 1,3 5,00 Нет
CP-C130 45 4,50 5,2 176,85 1,3 163,58 1,3 5,00
CP-C131 45 4,50 5,2 214,46 1,3 100,90 1,3 5,00
CP-C132 45 4,50 5,2 114,50 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,4 1,63 1,3 264,78 1,3 5,00
CP-C133 45 4,50 5,2 174,63 4,50 7,4 2,48 1,3 163,15 1,3 5,00
CP-C134 45 4,50 5,2 211,67 4,50 7,4 3,00 1,3 100,55 1,3 5,00
CP-C135 45 4,50 5,2 85,65 4,50 7,4 36,57 1,3 254,63 1,3 5,00
CP-C136 45 4,50 5,2 128,12 4,50 7,4 54,70 1,3 153,63 1,3 5,00
CP-C137 45 4,50 5,2 153,49 4,50 7,4 65,53 1,3 93,30 1,3 5,00
CP-C138 Нет 4,50 7,4 140,30 1,3 224,50 1,3 5,00
CP-C139 4,50 7,4 198,60 1,3 127,33 1,3 5,00
CP-C140 4,50 7,4 230,50 1,3 74,17 1,3 5,00
CP-C141 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,2 84,25 4,50 7,4 2,40 1,3 313,92 1,3 5,00
CP-C142 45 4,50 5,2 81,56 4,50 7,4 5,80 1,3 312,73 1,3 5,00
CP-C143 45 4,50 5,2 75,10 4,50 7,4 13,89 1,3 310,02 1,3 5,00
CP-C144 45 4,50 5,2 70,28 4,50 7,4 20,00 1,3 307,87 1,3 5,00
CP-C145 45 4,50 5,2 67,19 4,50 7,4 23,90 1,3 306,57 1,3 5,00
CP-C146 45 4,50 5,2 218,17 4,50 7,4 6,20 1,3 84,38 1,3 5,00
CP-C147 45 4,50 5,2 209,94 4,50 7,4 14,95 1,3 83,52 1,3 5,00
CP-C148 45 4,50 5,2 190,80 4,50 7,4 35,30 1,3 81,50 1,3 5,00
CP-C149 45 4,50 5,2 176,69 4,50 7,4 50,30 1,3 80,02 1,3 5,00
CP-C150 45 4,50 5,2 167,83 4,50 7,4 59,72 1,3 79,08 1,3 5,00
Таблица 55
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C151 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 151,95 Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,7 25,95 1,3 161,83 1,3 5,00 Нет
CP-C152 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным 45 4,50 5,2 153,28 4,50 6,7 25,68 1,3 160,07 1,3 5,00
оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
CP-C153 Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 151,30 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,0 27,00 1,3 161,17 1,3 5,00
CP-C154 45 4,50 5,1 150,48 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,4 28,38 1,3 160,23 1,3 5,00
СР-С155 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 150,28 Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,5 28,73 1,3 159,98 1,3 5,00
СР-С156 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, 45 4,50 5,2 151,63 4,50 7,5 28,43 1,3 158,23 1,3 5,00
(средний диаметр частиц: 230 нм)
СР-С157 Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 152,65 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,0 26,72 1,3 159,38 1,3 5,00
СР-С158 45 4,50 5,2 151,83 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,4 28,08 1,3 158,48 1,3 5,00
Таблица 56
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C159 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 152,15 Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,6 25,60 1,3 162,08 1,3 5,00 Нет
CP-C160 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным 45 4,50 5,2 153,50 4,50 6,6 25,32 1,3 160,30 1,3 5,00
оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
CP-C161 Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,0 149,93 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,0 27,29 1,3 162,97 1,3 5,00
CP-C162 45 4,50 5,0 149,10 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,4 28,68 1,3 162,03 1,3 5,00
СР-С163 Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, 45 - 5,1 152,00 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,0 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00
обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
СР-С164 Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 - 5,1 152,00 4,50 7,0 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00
СР-С165 Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 152,00 4,50 7,0 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00
Таблица 57
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C166 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 152,20 Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц:
20 нм)
- 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00 Нет
CP-C167 45 4,50 5,1 151,10 Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,1 27,35 1,3 160,92 1,3 5,00
CP-C168 45 4,50 5,1 152,20 Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
CP-C169 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,2 153,30 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,0 25,70 1,3 160,00 1,3 5,00
СР-С170 Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 150,60 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,4 26,25 1,3 163,58 1,3 5,00
СР-С171 Частицы сульфата бария, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)
45 4,50 5,1 151,90 Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)
4,50 7,0 26,00 1,3 161,83 1,3 5,00
Таблица 58
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя (1) Первые частицы оксида металла (2) Вторые частицы оксида металла (3) Связующий материал (фенольная смола) (4) Частицы кремнийорганической смолы (5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид Доля покровного слоя [%] Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Вид Степень легирования [%] Плотность Количество [части] Плотность Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже) Плотность Количество [части] Вид Плотность Количество [части]
CP-C172 Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 - 5,1 152,00 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,4 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00 Нет
CP-C173 Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 - 5,1 152,00 4,50 7,4 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00
CP-C174 Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,1 152,00 4,50 7,4 26,00 1,3 161,67 1,3 5,00
СР-С175 Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 152,20 Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм) - 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
СР-С176 45 4,50 5,2 151,10 Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,1 27,35 1,3 160,92 1,3 5,00
СР-С177 45 4,50 5,2 152,20 Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00
СР-С178 Частицы сульфата бария, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 4,50 5,2 151,90 Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм) 4,50 7,0 26,00 1,3 161,83 1,3 5,00
СР-С179 Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм) 45 - 5,1 152,20 Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм) - 6,6 25,60 1,3 162,00 1,3 5,00

(Пример 1 (пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента 1))

Алюминиевый цилиндр (JIS-A3003, алюминиевый сплав), имеющий длину 251,5 мм, диаметр 24 мм и толщину 1,0 мм, который был изготовлен способом производства, включающим процесс экструзии и процесс вытягивания, использовали в качестве основы (цилиндрической основы).

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1 наносили на основу в окружающей среде при 22°C/относительной влажности (RH) 55% методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили и термически отверждали в течение 30 минут при 140°C, чтобы сформировать электропроводный слой, имеющий толщину 20 мкм.

Измеренное объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляло 2,2×1013 Ом·см.

Затем 4,5 части N-метоксиметилированного нейлона (торговое название: Toresin EF-30T; производства компании Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) и 1,5 части сополимеризованной нейлоновой смолы (торговое название: Amilan CM8000; производства компании Toray Industries, Inc.) растворяли в смешанном растворителе из 65 частей метанола и 30 частей н-бутанола, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования промежуточного слоя. Раствор материала покрытия для формирования промежуточного слоя наносили на электропроводный слой методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили в течение 6 минут при 70°C, чтобы сформировать промежуточный слой, имеющий толщину 0,85 мкм.

После этого, 10 частей кристаллического фталоцианина гидроксигаллия (вещества, генерирующего заряды) в кристаллической форме, имеющего интенсивные пики при брэгговских углах (2θ0,2°) при дифракции CuKα-характеристического рентгеновского излучения, равных 7,5°, 9,9°, 16,3°, 18,6°, 25,1° и 28,3°, 5 частей поливинилбутираля (торговое наименование: S-LEC BX-1, производства компании SEKISUI CHEMICAL, CO., LTD.) и 250 частей циклогексанона загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 1 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при продолжительности диспергирующей обработки 3 часа. После диспергирующей обработки, 250 частей этилацетата добавляли к обработанному продукту, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов. Раствор материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов наносили на промежуточный слой методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку в течение 10 минут сушили при 100°C, чтобы сформировать слой для генерации зарядов, имеющий толщину 0,12 мкм.

Затем 56 частей аминового соединения (вещества, переносящего заряды), представленного приведенной ниже формулой (CT-1),

24 части аминового соединения (вещества, переносящего заряды), представленного приведенной ниже формулой (CT-2),

90 частей поликарбоната (торговое наименование: Z200, производства компании Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation), 10 частей поликарбоната, модифицированного силоксаном, имеющего повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-1), и повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-2), ((B-1):(B-2)=98:2 (молярное отношение)):

и 0,9 части поликарбоната, модифицированного силоксаном, имеющего повторяющееся структурное звено, представленне приведенной ниже формулой (B-3), и повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-4), и имеющего концевое структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-5), ((B-3):(B-4)=95:5 (молярное отношение)):

растворяли в смешанном растворителе из 300 частей о-ксилола, 250 частей диметоксиметана и 27 частей метилбензоата, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов. Раствор материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов наносили на слой для генерации зарядов методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили в течение 30 минут при 120°C, чтобы сформировать слой для переноса зарядов, имеющий толщину 18,5 мкм. Таким образом, получали электрофотографический фоточувствительный элемент 1, включающий слой для переноса заряда в качестве поверхностного слоя.

Что касается электрофотографического фоточувствительного элемента 1, отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова определяли каждое из атомного отношения представленным выше методом.

Затем, объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и объем частиц P-легированного оксида олова измеряли посредством идентификации частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и частиц P-легированного оксида олова на основании их разницы в контрасте в методе Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM) посредством применения представленного выше метода. То же самое относится к последующим примерам.

(Примеры с 2 по 700 и Сравнительные примеры с 1 по 179 (примеры изготовления электрофотографических фоточувствительных элементов с 2 по 700 и с C1 по C179))

Электрофотографические фоточувствительные элементы с 2 по 700 и с C1 по C179 изготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае Примера 1 (примера изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента 1), за исключением того, что раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя изменяли как представлено в Таблицах с 22 по 43 и Таблицах с 59 по 73.

(Оценка)

Оценку образования трещин выполняли посредством обследования поверхности электропроводного слоя на стадии формирования электропроводного слоя на основе с помощью оптического микроскопа и посредством обследования изображения, выведенного из электрофотографического устройства (лазерного принтера), оснащенного изготовленным электрофотографическим фоточувствительным элементом.

Обследование изображения выполняли, как описано ниже.

Изготовленный электрофотографический фоточувствительный элемент устанавливали в лазерный принтер производства компании Hewlett-Packard Company (торговое наименование: LaserJet P2055dn) в качестве устройства для выполнения оценки. Полученное устройство размещали в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)) и затем выводили сплошное черное изображение, сплошное белое изображение и полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением с последующим обследованием выведенных изображений. Полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением является полутоновым изображением рисунка, проиллюстрированного на Фиг. 5.

Степени наличия трещин классифицировали с разделением на категории на основании обследования изображений и последующего электропроводного слоя обследования под микроскопом, как описано ниже.

Случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа не могло подтвердить наличие каких-либо трещин, определяли как категорию 3. Кроме того, случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа было в состоянии подтвердить наличие трещин, однако дефекты изображения вследствие наличия трещин не наблюдались на любом из сплошного черного изображения, сплошного белого изображения и полутонового изображения с одноточечным рисунком с шахматным расположением, определяли как категорию 2. Кроме того, случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа было в состоянии подтвердить наличие трещин, и дефекты изображения, возможно вследствие наличия трещин, наблюдались на любом из сплошного черного изображения, сплошного белого изображения и полутонового изображения с одноточечным рисунком с шахматным расположением, определяли как категорию 1. Полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением является полутоновым изображением рисунка, проиллюстрированного на Фиг. 5.

Оценку для остаточного потенциала и оценку для памяти рисунка также выполняли с помощью лазерного принтера производства компании Hewlett-Packard Company (торговое наименование: LaserJet P2055dn) в качестве устройства для выполнения оценки.

Оценку для памяти рисунка выполняли описанным ниже образом.

Изготовленный электрофотографический фоточувствительный элемент устанавливали в лазерный принтер производства компании Hewlett-Packard Company. Полученное устройство размещали в окружающей среде с низкой температурой и низкой влажностью (15°C, 7% относительной влажности (RH)) и затем выполняли эксплуатационное испытание на долговечность, включающее непрерывное выведение 15000 изображений с рисунков в виде 3-точечных вертикальных линий со 100-точечным промежутком повторяющимся образом. Степень возникновения явления памяти рисунка классифицировали на шесть категорий, как показано в Таблице 74, таким образом, что вертикальные полосы, являющимися следствием гистерезиса вертикальных линий, обследовали на каждом из четырех видов полутоновых изображений и сплошном черном изображении, представленных в Таблице 74, выведенных после испытания. Номер категории становится больше, когда степень, до которой предотвращается память рисунка, улучшается. Следует заметить, что четыре вида полутоновых изображений являются полутоновым изображением с одноточечным рисунком с шахматным расположением, полутоновым изображением с поперечными одноточечными линиями с одноточечным промежутком, полутоновым изображением с поперечными двухточечными линиями с трехточечным промежутком, и полутоновым изображением с поперечными одноточечными линиями с двухточечным промежутком.

Оценку для остаточного потенциала выполняли описанным ниже образом.

Перед эксплуатационным испытанием на долговечность и после него, измеряли остаточные потенциалы после непрерывного вывода трех сплошных белых изображений и пяти сплошных черных изображений. Увеличение остаточного потенциала на 10 В или менее определяли как категорию 4. Кроме того, увеличение на более чем 10 В и 20 В или менее определяли как категорию 3. Кроме того, увеличение на более чем 20 В и 30 В или менее определяли как категорию 2. Кроме того, увеличение на более чем 30 В определяли как категорию 1.

Таблицы с 22 по 43 и Таблицы с 59 по 73 показывают результаты.

Таблица 22
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+(V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление проводящего слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 1 CP-1 1 2 15 0,8 2,2×1013 4 3 3
Пример 2 CP-2 2 2 15 0,9 2,2×1013 5 3 3
Пример 3 CP-3 3 2 15 1,0 2,2×1013 5 3 3
Пример 4 CP-4 4 2 15 1,1 2,2×1013 5 3 3
Пример 5 CP-5 5 2 15 1,2 2,2×1013 4 3 3
Пример 6 CP-6 6 5 15 1,0 2,1×1013 6 3 3
Пример 7 CP-7 7 13 15 0,8 2,0×1013 5 3 3
Пример 8 CP-8 8 13 15 0,9 2,0×1013 6 3 3
Пример 9 CP-9 9 13 15 1,0 2,0×1013 6 3 3
Пример 10 CP-10 10 13 15 1,1 2,0×1013 6 3 3
Пример 11 CP-11 11 13 15 1,2 2,0×1013 5 3 3
Пример 12 CP-12 12 20 15 1,0 1,9×1013 6 3 3
Пример 13 CP-13 13 25 15 0,8 1,8×1013 3 3 3
Пример 14 CP-14 14 25 15 0,9 1,8×1013 4 3 3
Пример 15 CP-15 15 25 15 1,0 1,8×1013 4 3 3
Пример 16 CP-16 16 25 15 1,1 1,8×1013 4 3 3
Пример 17 CP-17 17 25 15 1,2 1,8×1013 3 3 3
Пример 18 CP-18 18 2 20 1,0 6,6×1012 5 4 3
Пример 19 CP-19 19 5 20 0,8 6,3×1012 5 4 3
Пример 10 CP-20 20 5 20 0,9 6,3×1012 6 4 3
Пример 21 CP-21 21 5 20 1,0 6,3×1012 6 4 3
Пример 22 CP-22 22 5 20 1,1 6,3×1012 6 4 3
Пример 23 CP-23 23 5 20 1,2 6,3×1012 5 4 3
Пример 24 CP-24 24 13 20 0,8 5,8×1012 5 4 3
Пример 25 CP-25 25 13 20 0,9 5,8×1012 6 4 3
Пример 26 CP-26 26 13 20 1,0 5,8×1012 6 4 3
Пример 27 CP-27 27 13 20 1,1 5,8×1012 6 4 3
Пример 28 CP-28 28 13 20 1,2 5,8×1012 5 4 3
Пример 29 CP-29 29 20 20 0,8 5,4×1012 5 4 3
Пример 30 CP-30 30 20 20 0,9 5,4×1012 6 4 3
Пример 31 CP-31 31 20 20 1,0 5,5×1012 6 4 3
Пример 32 CP-32 32 20 20 1,1 5,5×1012 6 4 3
Пример 33 CP-33 33 20 20 1,2 5,5×1012 5 4 3
Пример 34 CP-34 34 25 20 1,0 5,2×1012 4 4 3
Пример 35 CP-35 35 2 30 0,8 3,6×1011 4 4 3
Пример 36 CP-36 36 2 30 0,9 3,6×1011 5 4 3
Пример 37 CP-37 37 2 30 1,0 3,6×1011 5 4 3
Пример 38 CP-38 38 2 30 1,1 3,6×1011 5 4 3
Пример 39 CP-39 39 2 30 1,2 3,6×1011 4 4 3
Пример 40 CP-40 40 5 30 0,8 3,4×1011 5 4 3
Таблица 23
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 41 CP-41 41 5 30 0,9 3,4×1011 6 4 3
Пример 42 CP-42 42 5 30 1,0 3,4×1011 6 4 3
Пример 43 CP-43 43 5 30 1,1 3,4×1011 6 4 3
Пример 44 CP-44 44 5 30 1,2 3,4×1011 5 4 3
Пример 45 CP-45 45 13 30 0,8 2,9×1011 5 4 3
Пример 46 CP-46 46 13 30 0,9 3,0×1011 6 4 3
Пример 47 CP-47 47 13 30 1,0 3,0×1011 6 4 3
Пример 48 CP-48 48 13 30 1,1 3,0×1011 6 4 3
Пример 49 CP-49 49 13 30 1,2 3,0×1011 5 4 3
Пример 50 CP-50 50 20 30 0,8 2,6×1011 5 4 3
Пример 51 CP-51 51 20 30 0,9 2,6×1011 6 4 3
Пример 52 CP-52 52 20 30 1,0 2,6×1011 6 4 3
Пример 53 CP-53 53 20 30 1,1 2,6×1011 6 4 3
Пример 54 CP-54 54 20 30 1,2 2,6×1011 5 4 3
Пример 55 CP-55 55 25 30 0,8 2,4×1011 3 4 3
Пример 56 CP-56 56 25 30 0,9 2,5×1011 4 4 3
Пример 57 CP-57 57 25 30 1,0 2,5×1011 4 4 3
Пример 58 CP-58 58 25 30 1,1 2,5×1011 4 4 3
Пример 59 CP-59 59 25 30 1,2 2,5×011 3 4 3
Пример 60 CP-60 60 2 40 1,0 7,7×109 5 4 3
Пример 61 CP-61 61 5 40 0,8 6,9×109 5 4 3
Пример 62 CP-62 62 5 40 0,9 7,0×109 6 4 3
Пример 63 CP-63 63 5 40 1,0 7,0×109 6 4 3
Пример 64 CP-64 64 5 40 1,1 7,0×109 6 4 3
Пример 65 CP-65 65 5 40 1,2 7,0×109 5 4 3
Пример 66 CP-66 66 13 40 0,8 5,4×109 5 4 3
Пример 67 CP-67 67 13 40 0,9 5,5×109 6 4 3
Пример 68 CP-68 68 13 40 1,0 5,5×109 6 4 3
Пример 69 CP-69 69 13 40 1,1 5,5×109 6 4 3
Пример 70 CP-70 70 13 40 1,2 5,5×109 5 4 3
Пример 71 CP-71 71 20 40 0,8 4,5×109 5 4 3
Пример 72 CP-72 72 20 40 0,9 4,6×109 6 4 3
Пример 73 CP-73 73 20 40 1,0 4,6×109 6 4 3
Пример 74 CP-74 74 20 40 1,1 4,6×109 6 4 3
Пример 75 CP-75 75 20 40 1,2 4,6×109 5 4 3
Пример 76 CP-76 76 25 40 1,0 4,1×109 4 4 3
Пример 77 CP-77 77 2 45 0,8 6,4×108 4 4 2
Пример 78 CP-78 78 2 45 0,9 6,6×108 5 4 2
Пример 79 CP-79 79 2 45 1,0 6,6×108 5 4 2
Пример 80 CP-80 80 2 45 1,1 6,6×108 5 4 2
Таблица 24
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 81 CP-81 81 2 45 1,2 6,6×108 4 4 2
Пример 82 CP-82 82 5 45 1,0 5,8×108 6 4 2
Пример 83 CP-83 83 13 45 0,8 4,2×108 5 4 2
Пример 84 CP-84 84 13 45 0,9 4,4×108 6 4 2
Пример 85 CP-85 85 13 45 1,0 4,4×108 6 4 2
Пример 86 CP-86 86 13 45 1,1 4,4×108 6 4 2
Пример 87 CP-87 87 13 45 1,2 4,4×108 5 4 2
Пример 88 CP-88 88 20 45 1,0 3,5×108 6 4 2
Пример 89 CP-89 89 25 45 0,8 3,0×108 3 4 2
Пример 90 CP-90 90 25 45 0,9 3,1×108 4 4 2
Пример 91 CP-91 91 25 45 1,0 3,1×108 4 4 2
Пример 92 CP-92 92 25 45 1,1 3,1×108 4 4 2
Пример 93 CP-93 93 25 45 1,2 3,1×108 3 4 2
Пример 94 CP-94 94 5 20 0,8 4,8×1012 5 4 3
Пример 95 CP-95 95 5 20 0,9 4,8×1012 6 4 3
Пример 96 CP-96 96 5 20 1,0 4,8×1012 6 4 3
Пример 97 CP-97 97 5 20 1,1 4,8×1012 6 4 3
Пример 98 CP-98 98 5 20 1,2 4,8×1012 5 4 3
Пример 99 CP-99 99 13 20 0,8 4,3×1012 5 4 3
Пример 100 CP-100 100 13 20 0,9 4,4×1012 6 4 3
Пример 101 CP-101 101 13 20 1,0 4,4×1012 6 4 3
Пример 102 CP-102 102 13 20 1,1 4,4×1012 6 4 3
Пример 103 CP-103 103 13 20 1,2 4,4×1012 5 4 3
Пример 104 CP-104 104 20 20 0,8 4,0×1012 5 4 3
Пример 105 CP-105 105 20 20 0,9 4,1×1012 6 4 3
Пример 106 CP-106 106 20 20 1,0 4,1×1012 6 4 3
Пример 107 CP-107 107 20 20 1,1 4,1×1012 6 4 3
Пример 108 CP-108 108 20 20 1,2 4,1×1012 5 4 3
Пример 109 CP-109 109 5 30 0,8 1,7×1011 5 4 3
Пример 110 CP-110 110 5 30 0,9 1,8×1011 6 4 3
Пример 111 CP-111 111 5 30 1,0 1,8×1011 6 4 3
Пример 112 CP-112 112 5 30 1,1 1,8×1011 6 4 3
Пример 113 CP-113 113 5 30 1,2 1,8×1011 5 4 3
Пример 114 CP-114 114 13 30 0,8 1,4×1011 5 4 3
Пример 115 CP-115 115 13 30 0,9 1,5×1011 6 4 3
Пример 116 CP-116 116 13 30 1,0 1,5×1011 6 4 3
Пример 117 CP-117 117 13 30 1,1 1,5×1011 6 4 3
Пример 118 CP-118 118 13 30 1,2 1,5×1011 5 4 3
Пример 119 CP-119 119 20 30 0,8 1,3×1011 5 4 3
Пример 120 CP-120 120 20 30 0,9 1,3×1011 6 4 3
Таблица 25
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+
(V2/VT)}×100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя
[Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 121 CP-121 121 20 30 1,0 1,3×1011 6 4 3
Пример 122 CP-122 122 20 30 1,1 1,3×1011 6 4 3
Пример 123 CP-123 123 20 30 1,2 1,3×1011 5 4 3
Пример 124 CP-124 124 5 40 0,8 1,6×109 5 4 3
Пример 125 CP-125 125 5 40 0,9 1,6×109 6 4 3
Пример 126 CP-126 126 5 40 1,0 1,6×109 6 4 3
Пример 127 CP-127 127 5 40 1,1 1,6×109 6 4 3
Пример 128 CP-128 128 5 40 1,2 1,6×109 5 4 3
Пример 129 CP-129 129 13 40 0,8 1,2×109 5 4 3
Пример 130 CP-130 130 13 40 0,9 1,2×109 6 4 3
Пример 131 CP-131 131 13 40 1,0 1,2×109 6 4 3
Пример 132 CP-132 132 13 40 1,1 1,2×109 6 4 3
Пример 133 CP-133 133 13 40 1,2 1,2×109 5 4 3
Пример 134 CP-134 134 20 40 0,8 9,5×108 5 4 3
Пример 135 CP-135 135 20 40 0,9 9,9×108 6 4 3
Пример 136 CP-136 136 20 40 1,0 9,9×108 6 4 3
Пример 137 CP-137 137 20 40 1,1 9,9×108 6 4 3
Пример 138 CP-138 138 20 40 1,2 9,9×108 5 4 3
Пример 139 CP-139 139 13 30 1,0 2,5×1011 6 4 3
Пример 140 CP-140 140 13 30 1,0 5,5×1011 6 4 3
Таблица 26
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}×100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 1 CP-C1 C1 - - - 2,2×1013 1 3 3
Сравнительный пример 2 CP-C2 C2 - - - 3,8×1011 1 4 3
Сравнительный пример 3 CP-C3 C3 - - - 7,1×108 1 4 2
Сравнительный пример 4 CP-C4 C4 1 15 1,0 2,2×1013 2 3 3
Сравнительный пример 5 CP-C5 C5 1 30 1,0 3,7×1011 2 4 3
Сравнительный пример 6 CP-C6 C6 1 45 1,0 6,8×108 2 4 2
Сравнительный пример 7 CP-C7 C7 30 15 1,0 1,8×1013 2 3 3
Сравнительный пример 8 CP-C8 C8 30 30 1,0 2,3×1011 2 4 3
Сравнительный пример 9 CP-C9 C9 30 45 1,0 2,7×108 2 4 2
Сравнительный пример 10 CP-C10 C10 - - - 9,0×1012 1 3 3
Сравнительный пример 11 CP-C11 C11 - - - 4,3×1010 1 4 3
Сравнительный пример 12 CP-C12 C12 - - - 1,1×107 1 4 2
Сравнительный пример 13 CP-C13 C13 2 10 1,0 6,3×1013 5 1 3
Сравнительный пример 14 CP-C14 C14 5 10 1,0 6,2×1013 6 1 3
Сравнительный пример 15 CP-C15 C15 13 10 1,0 5,9×1013 6 1 3
Сравнительный пример 16 CP-C16 C16 20 10 1,0 5,8×1013 6 1 3
Сравнительный пример 17 CP-C17 C17 25 10 1,0 5,7×1013 4 1 3
Сравнительный пример 18 CP-C18 C18 2 50 1,0 3,4×107 5 4 1
Сравнительный пример 19 CP-C19 C19 5 50 1,0 3,0×107 6 4 1
Сравнительный пример 20 CP-C20 C20 13 50 1,0 2,1×107 6 4 1
Сравнительный пример 21 CP-C21 C21 20 50 1,0 1,6×107 6 4 1
Сравнительный пример 22 CP-C22 C22 25 50 1,0 1,4×107 4 4 1
Таблица 27
Раствор материала покрытия для формирования электропро-водного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 23 CP-C23 C23 - - - 2,9×1011 1 4 3
Сравнительный пример 24 CP-C24 C24 - - - 2,9×1011 1 4 3
Сравнительный пример 25 CP-C25 C25 - - - 2,9×1011 1 4 3
Сравнительный пример 26 CP-C26 C26 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 27 CP-C27 C27 - - - 2,8×1011 1 4 3
Сравнительный пример 28 CP-C28 C28 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 29 CP-C29 C29 - - - 2,6×1011 1 4 3
Таблица 28
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 30 CP-C30 C30 - - - 3,3×1011 1 4 3
Сравнительный пример 31 CP-C31 C31 - - - 2,6×1011 1 4 3
Сравнительный пример 32 CP-C32 C32 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 33 CP-C33 C33 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 34 CP-C34 C34 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 35 CP-C35 C35 - - - 3,0×1011 1 4 3
Таблица 29
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 141 CP-141 141 2 15 0,8 2,0×1013 4 3 3
Пример 142 CP-142 142 2 15 0,9 2,0×1013 5 3 3
Пример 143 CP-143 143 2 15 1,0 2,0×1013 5 3 3
Пример 144 CP-144 144 2 15 1,1 2,0×1013 5 3 3
Пример 145 CP-145 145 2 15 1,2 2,0×1013 4 3 3
Пример 146 CP-146 146 5 15 1,0 2,0×1013 6 3 3
Пример 147 CP-147 147 13 15 0,8 1,8×1013 5 3 3
Пример 148 CP-148 148 13 15 0,9 1,8×1013 6 3 3
Пример 149 CP-149 149 13 15 1,0 1,8×1013 6 3 3
Пример 150 CP-150 150 13 15 1,1 1,8×1013 6 3 3
Пример 151 CP-151 151 13 15 1,2 1,8×1013 5 3 3
Пример 152 CP-152 152 20 15 1,0 1,7×1013 6 3 3
Пример 153 CP-153 153 25 15 0,8 1,6×1013 3 3 3
Пример 154 CP-154 154 25 15 0,9 1,6×1013 4 3 3
Пример 155 CP-155 155 25 15 1,0 1,6×1013 4 3 3
Пример 156 CP-156 156 25 15 1,1 1,6×1013 4 3 3
Пример 157 CP-157 157 25 15 1,2 1,6×1013 3 3 3
Пример 158 CP-158 158 2 20 1,0 6,0×1012 5 4 3
Пример 159 CP-159 159 5 20 0,8 5,8×1012 5 4 3
Пример 160 CP-160 160 5 20 0,9 5,7×1012 6 4 3
Пример 161 CP-161 161 5 20 1,0 5,7×1012 6 4 3
Пример 162 CP-162 162 5 20 1,1 5,7×1012 6 4 3
Пример 163 CP-163 163 5 20 1,2 5,7×1012 5 4 3
Пример 164 CP-164 164 13 20 0,8 5,1×1012 5 4 3
Пример 165 CP-165 165 13 20 0,9 5,1×1012 6 4 3
Пример 166 CP-166 166 13 20 1,0 5,1×1012 6 4 3
Пример 167 CP-167 167 13 20 1,1 5,0×1012 6 4 3
Пример 168 CP-168 168 13 20 1,2 5,0×1012 5 4 3
Пример 169 CP-169 169 20 20 0,8 4,7×1012 5 4 3
Пример 170 CP-170 170 20 20 0,9 4,6×1012 6 4 3
Пример 171 CP-171 171 20 20 1,0 4,6×1012 6 4 3
Пример 172 CP-172 172 20 20 1,1 4,5×1012 6 4 3
Пример 173 CP-173 173 20 20 1,2 4,5×1012 5 4 3
Пример 174 CP-174 174 25 20 1,0 4,3×1012 4 4 3
Пример 175 CP-175 175 2 30 0,8 3,1×1011 4 4 3
Пример 176 CP-176 176 2 30 0,9 3,1×1011 5 4 3
Пример 177 CP-177 177 2 30 1,0 3,1×1011 5 4 3
Пример 178 CP-178 178 2 30 1,1 3,1×1011 5 4 3
Пример 179 CP-179 179 2 30 1,2 3,1×1011 4 4 3
Пример 180 CP-180 180 5 30 0,8 2,9×1011 5 4 3
Таблица 30
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 181 CP-181 181 5 30 0,9 2,9×1011 6 4 3
Пример 182 CP-182 182 5 30 1,0 2,9×1011 6 4 3
Пример 183 CP-183 183 5 30 1,1 2,9×1011 6 4 3
Пример 184 CP-184 184 5 30 1,2 2,9×1011 5 4 3
Пример 185 CP-185 185 13 30 0,8 2,4×1011 5 4 3
Пример 186 CP-186 186 13 30 0,9 2,3×1011 6 4 3
Пример 187 CP-187 187 13 30 1,0 2,3×1011 6 4 3
Пример 188 CP-188 188 13 30 1,1 2,3×1011 6 4 3
Пример 189 CP-189 189 13 30 1,2 2,3×1011 5 4 3
Пример 190 CP-190 190 20 30 0,8 2,0×1011 5 4 3
Пример 191 CP-191 191 20 30 0,9 2,0×1011 6 4 3
Пример 192 CP-192 192 20 30 1,0 2,0×1011 6 4 3
Пример 193 CP-193 193 20 30 1,1 1,9×1011 6 4 3
Пример 194 CP-194 194 20 30 1,2 1,9×1011 5 4 3
Пример 195 CP-195 195 25 30 0,8 1,8×1011 3 4 3
Пример 196 CP-196 196 25 30 0,9 1,8×1011 4 4 3
Пример 197 CP-197 197 25 30 1,0 1,8×1011 4 4 3
Пример 198 CP-198 198 25 30 1,1 1,7×1011 4 4 3
Пример 199 CP-199 199 25 30 1,2 1,7×1011 3 4 3
Пример 200 CP-200 200 2 40 1,0 6,0×109 5 4 3
Пример 201 CP-201 201 5 40 0,8 5,3×109 5 4 3
Пример 202 CP-202 202 5 40 0,9 5,3×109 6 4 3
Пример 203 CP-203 203 5 40 1,0 5,3×109 6 4 3
Пример 204 CP-204 204 5 40 1,1 5,2×109 6 4 3
Пример 205 CP-205 205 5 40 1,2 5,2×109 5 4 3
Пример 206 CP-206 206 13 40 0,8 3,9×109 5 4 3
Пример 207 CP-207 207 13 40 0,9 3,8×109 6 4 3
Пример 208 CP-208 208 13 40 1,0 3,8×109 6 4 3
Пример 209 CP-209 209 13 40 1,1 3,7×109 6 4 3
Пример 210 CP-210 210 13 40 1,2 3,7×109 5 4 3
Пример 211 CP-211 211 20 40 0,8 3,1×109 5 4 3
Пример 212 CP-212 212 20 40 0,9 3,0×109 6 4 3
Пример 213 CP-213 213 20 40 1,0 3,0×109 6 4 3
Пример 214 CP-214 214 20 40 1,1 2,9×109 6 4 3
Пример 215 CP-215 215 20 40 1,2 2,9×109 5 4 3
Пример 216 CP-216 216 25 40 1,0 2,5×109 4 4 3
Пример 217 CP-217 217 2 45 0,8 4,9×108 4 4 2
Пример 218 CP-218 218 2 45 0,9 4,9×108 5 4 2
Пример 219 CP-219 219 2 45 1,0 4,9×108 5 4 2
Пример 220 CP-220 220 2 45 1,1 4,9×108 5 4 2
Таблица 31
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 221 CP-221 221 2 45 1,2 4,9×108 4 4 2
Пример 222 CP-222 222 5 45 1,0 4,2×108 6 4 2
Пример 223 CP-223 223 13 45 0,8 2,9×108 5 4 2
Пример 224 CP-224 224 13 45 0,9 2,8×108 6 4 2
Пример 225 CP-225 225 13 45 1,0 2,8×108 6 4 2
Пример 226 CP-226 226 13 45 1,1 2,7×108 6 4 2
Пример 227 CP-227 227 13 45 1,2 2,7×108 5 4 2
Пример 228 CP-228 228 20 45 1,0 2,0×108 6 4 2
Пример 229 CP-229 229 25 45 0,8 1,8×108 3 4 2
Пример 230 CP-230 230 25 45 0,9 1,7×108 4 4 2
Пример 231 CP-231 231 25 45 1,0 1,7×108 4 4 2
Пример 232 CP-232 232 25 45 1,1 1,6×108 4 4 2
Пример 233 CP-233 233 25 45 1,2 1,6×108 3 4 2
Таблица 32
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 234 CP-234 234 5 20 0,8 4,3×1012 5 4 3
Пример 235 CP-235 235 5 20 0,9 4,3×1012 6 4 3
Пример 236 CP-236 236 5 20 1,0 4,3×1012 6 4 3
Пример 237 CP-237 237 5 20 1,1 4,3×1012 6 4 3
Пример 238 CP-238 238 5 20 1,2 4,3×1012 5 4 3
Пример 239 CP-239 239 13 20 0,8 3,8×1012 5 4 3
Пример 240 CP-240 240 13 20 0,9 3,7×1012 6 4 3
Пример 241 CP-241 241 13 20 1,0 3,7×1012 6 4 3
Пример 242 CP-242 242 13 20 1,1 3,7×1012 6 4 3
Пример 243 CP-243 243 13 20 1,2 3,7×1012 5 4 3
Пример 244 CP-244 244 20 20 0,8 3,4×1012 5 4 3
Пример 245 CP-245 245 20 20 0,9 3,4×1012 6 4 3
Пример 246 CP-246 246 20 20 1,0 3,4×1012 6 4 3
Пример 247 CP-247 247 20 20 1,1 3,3×1012 6 4 3
Пример 248 CP-248 248 20 20 1,2 3,3×1012 5 4 3
Пример 249 CP-249 249 5 30 0,8 1,4×1011 5 4 3
Пример 250 CP-250 250 5 30 0,9 1,4×1011 6 4 3
Пример 251 CP-251 251 5 30 1,0 1,4×1011 6 4 3
Пример 252 CP-252 252 5 30 1,1 1,4×1011 6 4 3
Пример 253 CP-253 253 5 30 1,2 1,4×1011 5 4 3
Пример 254 CP-254 254 13 30 0,8 1,1×1011 5 4 3
Пример 255 CP-255 255 13 30 0,9 1,1×1011 6 4 3
Пример 256 CP-256 256 13 30 1,0 1,1×1011 6 4 3
Пример 257 CP-257 257 13 30 1,1 1,1×1011 6 4 3
Пример 258 CP-258 258 13 30 1,2 1,1×1011 5 4 3
Пример 259 CP-259 259 20 30 0,8 9,5×1010 5 4 3
Пример 260 CP-260 260 20 30 0,9 9,2×1010 6 4 3
Пример 261 CP-261 261 20 30 1,0 9,2×1010 6 4 3
Пример 262 CP-262 262 20 30 1,1 9,0×1010 6 4 3
Пример 263 CP-263 263 20 30 1,2 9,0×1010 5 4 3
Пример 264 CP-264 264 5 40 0,8 1,2×109 5 4 3
Пример 265 CP-265 265 5 40 0,9 1,2×109 6 4 3
Пример 266 CP-266 266 5 40 1,0 1,2×109 6 4 3
Пример 267 CP-267 267 5 40 1,1 1,1×109 6 4 3
Пример 268 CP-268 268 5 40 1,2 1,1×109 5 4 3
Пример 269 CP-269 269 13 40 0,8 7,9×108 5 4 3
Пример 270 CP-270 270 13 40 0,9 7,6×108 6 4 3
Таблица 33
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}
×100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 271 CP-271 271 13 40 1,0 7,6×108 6 4 3
Пример 272 CP-272 272 13 40 1,1 7,3×108 6 4 3
Пример 273 CP-273 273 13 40 1,2 7,3×108 5 4 3
Пример 274 CP-274 274 20 40 0,8 5,9×108 5 4 3
Пример 275 CP-275 275 20 40 0,9 5,6×108 6 4 3
Пример 276 CP-276 276 20 40 1,0 5,6×108 6 4 3
Пример 277 CP-277 277 20 40 1,1 5,3×108 6 4 3
Пример 278 CP-278 278 20 40 1,2 5,3×108 5 4 3
Пример 279 CP-279 279 13 30 1,0 2,1×1011 6 4 3
Пример 280 CP-280 280 13 30 1,0 5,1×1011 6 4 3
Таблица 34
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 42 CP-C42 C42 - - - 2,1×1013 1 3 3
Сравнительный пример 43 CP-C43 C43 - - - 3,3×1011 1 4 3
Сравнительный пример 44 CP-C44 C44 - - - 5,5×108 1 4 2
Сравнительный пример 45 CP-C45 C45 1 15 1,0 2,1×1013 2 3 3
Сравнительный пример 46 CP-C46 C46 1 30 1,0 3,2×1011 2 4 3
Сравнительный пример 47 CP-C47 C47 1 45 1,0 5,2×108 2 4 2
Сравнительный пример 48 CP-C48 C48 30 15 1,0 1,6×1013 2 3 3
Сравнительный пример 49 CP-C49 C49 30 30 1,0 1,6×1011 2 4 3
Сравнительный пример 50 CP-C50 C50 30 45 1,0 1,4×108 2 4 2
Сравнительный пример 51 CP-C51 C51 - - - 5,8×1012 1 3 3
Сравнительный пример 52 CP-C52 C52 - - - 1,5×1010 1 4 3
Сравнительный пример 53 CP-C53 C53 - - - 1,5×106 1 4 2
Сравнительный пример 54 CP-C54 C54 2 10 1,0 6,0×1013 5 1 3
Сравнительный пример 55 CP-C55 C55 5 10 1,0 5,9×1013 6 1 3
Сравнительный пример 56 CP-C56 C56 13 10 1,0 5,6×1013 6 1 3
Сравнительный пример 57 CP-C57 C57 20 10 1,0 5,4×1013 6 1 3
Сравнительный пример 58 CP-C58 C58 25 10 1,0 5,2×1013 4 1 3
Сравнительный пример 59 CP-C59 C59 2 50 1,0 2,4×107 5 4 1
Сравнительный пример 60 CP-C60 C60 5 50 1,0 2,0×107 6 4 1
Сравнительный пример 61 CP-C61 C61 13 50 1,0 1,2×107 6 4 1
Сравнительный пример 62 CP-C62 C62 20 50 1,0 8,3×106 6 4 1
Сравнительный пример 63 CP-C63 C63 25 50 1,0 6,5×106 4 4 1
Таблица 35
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 64 CP-C64 C64 - - - 2,6×1011 1 4 3
Сравнительный пример 65 CP-C65 C65 - - - 2,6×1011 1 4 3
Сравнительный пример 66 CP-C66 C66 - - - 2,3×1011 1 4 3
Сравнительный пример 67 CP-C67 C67 - - - 2,7×1011 1 4 3
Сравнительный пример 68 CP-C68 C68 - - - 2,5×1011 1 4 3
Сравнительный пример 69 CP-C69 C69 - - - 2,7×1011 1 4 3
Сравнительный пример 70 CP-C70 C70 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 71 CP-C71 C71 - - - 2,3×1011 1 4 3
Таблица 36
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 281 CP-281 281 2 15 0,8 2,3×1013 4 3 3
Пример 282 CP-282 282 2 15 0,9 2,3×1013 5 3 3
Пример 283 CP-283 283 2 15 1,0 2,3×1013 5 3 3
Пример 284 CP-284 284 2 15 1,1 2,3×1013 5 3 3
Пример 285 CP-285 285 2 15 1,2 2,3×1013 4 3 3
Пример 286 CP-286 286 5 15 1,0 2,2×1013 6 3 3
Пример 287 CP-287 287 13 15 0,8 2,1×1013 5 3 3
Пример 288 CP-288 288 13 15 0,9 2,1×1013 6 3 3
Пример 289 CP-289 289 13 15 1,0 2,1×1013 6 3 3
Пример 290 CP-290 290 13 15 1,1 2,1×1013 6 3 3
Пример 291 CP-291 291 13 15 1,2 2,1×1013 5 3 3
Пример 292 CP-292 292 20 15 1,0 2,0×1013 6 3 3
Пример 293 CP-293 293 25 15 0,8 1,9×1013 3 3 3
Пример 294 CP-294 294 25 15 0,9 1,9×1013 4 3 3
Пример 295 CP-295 295 25 15 1,0 2,0×1013 4 3 3
Пример 296 CP-296 296 25 15 1,1 2,0×1013 4 3 3
Пример 297 CP-297 297 25 15 1,2 2,0×1013 3 3 3
Пример 298 CP-298 298 2 20 1,0 7,1×1012 5 4 3
Пример 299 CP-299 299 5 20 0,8 6,9×1012 5 4 3
Пример 300 CP-300 300 5 20 0,9 6,9×1012 6 4 3
Пример 301 CP-301 301 5 20 1,0 6,9×1012 6 4 3
Пример 302 CP-302 302 5 20 1,1 6,9×1012 6 4 3
Пример 303 CP-303 303 5 20 1,2 6,9×1012 5 4 3
Пример 304 CP-304 304 13 20 0,8 6,3×1012 5 4 3
Пример 305 CP-305 305 13 20 0,9 6,3×1012 6 4 3
Пример 306 CP-306 306 13 20 1,0 6,3×1012 6 4 3
Пример 307 CP-307 307 13 20 1,1 6,3×1012 6 4 3
Пример 308 CP-308 308 13 20 1,2 6,3×1012 5 4 3
Пример 309 CP-309 309 20 20 0,8 5,8×1012 5 4 3
Пример 310 CP-310 310 20 20 0,9 5,8×1012 6 4 3
Пример 311 CP-311 311 20 20 1,0 5,9×1012 6 4 3
Пример 312 CP-312 312 20 20 1,1 5,9×1012 6 4 3
Пример 313 CP-313 313 20 20 1,2 5,9×1012 5 4 3
Пример 314 CP-314 314 25 20 1,0 5,7×1012 4 4 3
Пример 315 CP-315 315 2 30 0,8 4,1×1011 4 4 3
Пример 316 CP-316 316 2 30 0,9 4,1×1011 5 4 3
Пример 317 CP-317 317 2 30 1,0 4,2×1011 5 4 3
Пример 318 CP-318 318 2 30 1,1 4,2×1011 5 4 3
Пример 319 CP-319 319 2 30 1,2 4,2×1011 4 4 3
Пример 320 CP-320 320 5 30 0,8 3,9×1011 5 4 3
Таблица 37
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}
×100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 321 CP-321 321 5 30 0,9 3,9×1011 6 4 3
Пример 322 CP-322 322 5 30 1,0 3,9×1011 6 4 3
Пример 323 CP-323 323 5 30 1,1 3,9×1011 6 4 3
Пример 324 CP-324 324 5 30 1,2 3,9×1011 5 4 3
Пример 325 CP-325 325 13 30 0,8 3,3×1011 5 4 3
Пример 326 CP-326 326 13 30 0,9 3,3×1011 6 4 3
Пример 327 CP-327 327 13 30 1,0 3,4×1011 6 4 3
Пример 328 CP-328 328 13 30 1,1 3,4×1011 6 4 3
Пример 329 CP-329 329 13 30 1,2 3,4×1011 5 4 3
Пример 330 CP-330 330 20 30 0,8 3,0×1011 5 4 3
Пример 331 CP-331 331 20 30 0,9 3,0×1011 6 4 3
Пример 332 CP-332 332 20 30 1,0 3,0×1011 6 4 3
Пример 333 CP-333 333 20 30 1,1 3,0×1011 6 4 3
Пример 334 CP-334 334 20 30 1,2 3,0×1011 5 4 3
Пример 335 CP-335 335 25 30 0,8 2,7×1011 3 4 3
Пример 336 CP-336 336 25 30 0,9 2,7×1011 4 4 3
Пример 337 CP-337 337 25 30 1,0 2,8×1011 4 4 3
Пример 338 CP-338 338 25 30 1,1 2,8×1011 4 4 3
Пример 339 CP-339 339 25 30 1,2 2,8×1011 3 4 3
Пример 340 CP-340 340 2 40 1,0 9,5×109 5 4 3
Пример 341 CP-341 341 5 40 0,8 8,4×109 5 4 3
Пример 342 CP-342 342 5 40 0,9 8,4×109 6 4 3
Пример 343 CP-343 343 5 40 1,0 8,6×109 6 4 3
Пример 344 CP-344 344 5 40 1,1 8,6×109 6 4 3
Пример 345 CP-345 345 5 40 1,2 8,6×109 5 4 3
Пример 346 CP-346 346 13 40 0,8 6,7×109 5 4 3
Пример 347 CP-347 347 13 40 0,9 6,7×109 6 4 3
Пример 348 CP-348 348 13 40 1,0 6,8×109 6 4 3
Пример 349 CP-349 349 13 40 1,1 6,8×109 6 4 3
Пример 350 CP-350 350 13 40 1,2 6,8×109 5 4 3
Пример 351 CP-351 351 20 40 0,8 5,6×109 5 4 3
Пример 352 CP-352 352 20 40 0,9 5,6×109 6 4 3
Пример 353 CP-353 353 20 40 1,0 5,7×109 6 4 3
Пример 354 CP-354 354 20 40 1,1 5,7×109 6 4 3
Пример 355 CP-355 355 20 40 1,2 5,7×109 5 4 3
Пример 356 CP-356 356 25 40 1,0 5,1×109 4 4 3
Пример 357 CP-357 357 2 45 0,8 8,4×108 4 4 2
Пример 358 CP-358 358 2 45 0,9 8,4×108 5 4 2
Пример 359 CP-359 359 2 45 1,0 8,5×108 5 4 2
Пример 360 CP-360 360 2 45 1,1 8,5×108 5 4 2
Таблица 38
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}
×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 361 CP-361 361 2 45 1,2 8,5×108 4 4 2
Пример 362 CP-362 362 5 45 1,0 7,6×108 6 4 2
Пример 363 CP-363 363 13 45 0,8 5,6×108 5 4 2
Пример 364 CP-364 364 13 45 0,9 5,6×108 6 4 2
Пример 365 CP-365 365 13 45 1,0 5,7×108 6 4 2
Пример 366 CP-366 366 13 45 1,1 5,7×108 6 4 2
Пример 367 CP-367 367 13 45 1,2 5,7×108 5 4 2
Пример 368 CP-368 368 20 45 1,0 4,7×108 6 4 2
Пример 369 CP-369 369 25 45 0,8 3,8×108 3 4 2
Пример 370 CP-370 370 25 45 0,9 3,8×108 4 4 2
Пример 371 CP-371 371 25 45 1,0 4,1×108 4 4 2
Пример 372 CP-372 372 25 45 1,1 4,1×108 4 4 2
Пример 373 CP-373 373 25 45 1,2 4,1×108 3 4 2
Таблица 39
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}
×100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 374 CP-374 374 5 20 0,8 5,2×1012 5 4 3
Пример 375 CP-375 375 5 20 0,9 5,2×1012 6 4 3
Пример 376 CP-376 376 5 20 1,0 5,2×1012 6 4 3
Пример 377 CP-377 377 5 20 1,1 5,2×1012 6 4 3
Пример 378 CP-378 378 5 20 1,2 5,2×1012 5 4 3
Пример 379 CP-379 379 13 20 0,8 4,7×1012 5 4 3
Пример 380 CP-380 380 13 20 0,9 4,7×1012 6 4 3
Пример 381 CP-381 381 13 20 1,0 4,8×1012 6 4 3
Пример 382 CP-382 382 13 20 1,1 4,8×1012 6 4 3
Пример 383 CP-383 383 13 20 1,2 4,8×1012 5 4 3
Пример 384 CP-384 384 20 20 0,8 4,4×1012 5 4 3
Пример 385 CP-385 385 20 20 0,9 4,4×1012 6 4 3
Пример 386 CP-386 386 20 20 1,0 4,4×1012 6 4 3
Пример 387 CP-387 387 20 20 1,1 4,4×1012 6 4 3
Пример 388 CP-388 388 20 20 1,2 4,4×1012 5 4 3
Пример 389 CP-389 389 5 30 0,8 2,0×1011 5 4 3
Пример 390 CP-390 390 5 30 0,9 2,0×1011 6 4 3
Пример 391 CP-391 391 5 30 1,0 2,1×1011 6 4 3
Пример 392 CP-392 392 5 30 1,1 2,1×1011 6 4 3
Пример 393 CP-393 393 5 30 1,2 2,1×1011 5 4 3
Пример 394 CP-394 394 13 30 0,8 1,7×1011 5 4 3
Пример 395 CP-395 395 13 30 0,9 1,7×1011 6 4 3
Пример 396 CP-396 396 13 30 1,0 1,7×1011 6 4 3
Пример 397 CP-397 397 13 30 1,1 1,7×1011 6 4 3
Пример 398 CP-398 398 13 30 1,2 1,7×1011 5 4 3
Пример 399 CP-399 399 20 30 0,8 1,5×1011 5 4 3
Пример 400 CP-400 400 20 30 0,9 1,5×1011 6 4 3
Пример 401 CP-401 401 20 30 1,0 1,5×1011 6 4 3
Пример 402 CP-402 402 20 30 1,1 1,5×1011 6 4 3
Пример 403 CP-403 403 20 30 1,2 1,5×1011 5 4 3
Пример 404 CP-404 404 5 40 0,8 2,1×109 5 4 3
Таблица 40
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 405 CP-405 405 5 40 0,9 2,1×109 6 4 3
Пример 406 CP-406 406 5 40 1,0 2,1×109 6 4 3
Пример 407 CP-407 407 5 40 1,1 2,1×109 6 4 3
Пример 408 CP-408 408 5 40 1,2 2,1×109 5 4 3
Пример 409 CP-409 409 13 40 0,8 1,6×109 5 4 3
Пример 410 CP-410 410 13 40 0,9 1,6×109 6 4 3
Пример 411 CP-411 411 13 40 1,0 1,6×109 6 4 3
Пример 412 CP-412 412 13 40 1,1 1,6×109 6 4 3
Пример 413 CP-413 413 13 40 1,2 1,6×109 5 4 3
Пример 414 CP-414 414 20 40 0,8 1,2×109 5 4 3
Пример 415 CP-415 415 20 40 0,9 1,2×109 6 4 3
Пример 416 CP-416 416 20 40 1,0 1,3×109 6 4 3
Пример 417 CP-417 417 20 40 1,1 1,3×109 6 4 3
Пример 418 CP-418 418 20 40 1,2 1,3×109 5 4 3
Пример 419 CP-419 419 13 30 1,0 2,7×1011 6 4 3
Пример 420 CP-420 420 13 30 1,0 5,8×1011 6 4 3
Таблица 41
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×
100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 76 CP-C76 C76 - - - 2,3×1013 1 3 3
Сравнительный пример 77 CP-C77 C77 - - - 4,4×1011 1 4 3
Сравнительный пример 78 CP-C78 C78 - - - 9,2×108 1 4 2
Сравнительный пример 79 CP-C79 C79 1 15 1,0 2,3×1013 2 3 3
Сравнительный пример 80 CP-C80 C80 1 30 1,0 4,3×1011 2 4 3
Сравнительный пример 81 CP-C81 C81 1 45 1,0 8,8×108 2 4 2
Сравнительный пример 82 CP-C82 C82 30 15 1,0 1,9×1013 2 3 3
Сравнительный пример 83 CP-C83 C83 30 30 1,0 2,6×1011 2 4 3
Сравнительный пример 84 CP-C84 C84 30 45 1,0 3,5×108 2 4 2
Сравнительный пример 85 CP-C85 C85 - - - 9,6×1012 1 3 3
Сравнительный пример 86 CP-C86 C86 - - - 5,0×1010 1 4 3
Сравнительный пример 87 CP-C87 C87 - - - 1,5×107 1 4 2
Сравнительный пример 88 CP-C88 C88 2 10 1,0 6,5×1013 5 1 3
Сравнительный пример 89 CP-C89 C89 5 10 1,0 6,4×1013 6 1 3
Сравнительный пример 90 CP-C90 C90 13 10 1,0 6,1×1013 6 1 3
Сравнительный пример 91 CP-C91 C91 20 10 1,0 6,0×1013 6 1 3
Сравнительный пример 92 CP-C92 C92 25 10 1,0 5,8×1013 4 1 3
Сравнительный пример 93 CP-C93 C93 2 50 1,0 4,8×107 5 4 1
Сравнительный пример 94 CP-C94 C94 5 50 1,0 4,1×107 6 4 1
Сравнительный пример 95 CP-C95 C95 13 50 1,0 2,9×107 6 4 1
Сравнительный пример 96 CP-C96 C96 20 50 1,0 2,2×107 6 4 1
Сравнительный пример 97 CP-C97 C97 25 50 1,0 1,9×107 4 4 1
Таблица 42
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×
100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропровод-ного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 98 CP-C98 C98 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 99 CP-C99 C99 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 100 CP-C100 C100 - - - 2,7×1011 1 4 3
Сравнительный пример 101 CP-C101 C101 - - - 3,4×1011 1 4 3
Сравнительный пример 102 CP-C102 C102 - - - 3,1×1011 1 4 3
Сравнительный пример 103 CP-C103 C103 - - - 3,4×1011 1 4 3
Сравнительный пример 104 CP-C104 C104 - - - 2,7×1011 1 4 3
Сравнительный пример 105 CP-C105 C105 - - - 3,4×1011 1 4 3
Таблица 43
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропро-водного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 36 CP-C36 C36 - - - 8,0×106 1 4 3
Сравнительный пример 37 CP-C37 C37 - - - 1,0×107 1 4 3
Сравнительный пример 38 CP-C38 C38 - - - 4,4×1010 1 4 3
Сравнительный пример 39 CP-C39 C39 - - - 2,0×1013 1 4 3
Сравнительный пример 40 CP-C40 C40 - - - 2,1×109 1 4 3
Сравнительный пример 41 CP-C41 C41 - - - 3,1×109 1 4 3
Сравнительный пример 72 CP-C72 C72 - - - 3,5×1010 1 4 3
Сравнительный пример 73 CP-C73 C73 - - - 2,0×1013 1 4 3
Сравнительный пример 74 CP-C74 C74 - - - 4,0×109 1 4 3
Сравнительный пример 75 CP-C75 C75 - - - 5,8×109 1 4 3
Сравнительный пример 106 CP-C106 C106 - - - 3,5×1010 1 4 3
Таблица 59
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 421 CP-421 421 2 15 0,8 2,2×1013 4 3 3
Пример 422 CP-422 422 2 15 0,9 2,2×1013 5 3 3
Пример 423 CP-423 423 2 15 1,0 2,2×1013 5 3 3
Пример 424 CP-424 424 2 15 1,1 2,2×1013 5 3 3
Пример 425 CP-425 425 2 15 1,2 2,2×1013 4 3 3
Пример 426 CP-426 426 5 15 1,0 2,1×1013 6 3 3
Пример 427 CP-427 427 13 15 0,8 2,0×1013 5 3 3
Пример 428 CP-428 428 13 15 0,9 2,0×1013 6 3 3
Пример 429 CP-429 429 13 15 1,0 2,0×1013 6 3 3
Пример 430 CP-430 430 13 15 1,1 2,0×1013 6 3 3
Пример 431 CP-431 431 13 15 1,2 2,0×1013 5 3 3
Пример 432 CP-432 432 20 15 1,0 1,9×1013 6 3 3
Пример 433 CP-433 433 25 15 0,8 1,8×1013 3 3 3
Пример 434 CP-434 434 25 15 0,9 1,8×1013 4 3 3
Пример 435 CP-435 435 25 15 1,0 1,8×1013 4 3 3
Пример 436 CP-436 436 25 15 1,1 1,8×1013 4 3 3
Пример 437 CP-437 437 25 15 1,2 1,8×1013 3 3 3
Пример 438 CP-438 438 2 20 1,0 6,6×1012 5 4 3
Пример 439 CP-439 439 5 20 0,8 6,3×1012 5 4 3
Пример 440 CP-440 440 5 20 0,9 6,3×1012 6 4 3
Пример 441 CP-441 441 5 20 1,0 6,3×1012 6 4 3
Пример 442 CP-442 442 5 20 1,1 6,3×1012 6 4 3
Пример 443 CP-443 443 5 20 1,2 6,3×1012 5 4 3
Пример 444 CP-444 444 13 20 0,8 5,7×1012 5 4 3
Пример 445 CP-445 445 13 20 0,9 5,7×1012 6 4 3
Пример 446 CP-446 446 13 20 1,0 5,7×1012 6 4 3
Пример 447 CP-447 447 13 20 1,1 5,7×1012 6 4 3
Пример 448 CP-448 448 13 20 1,2 5,7×1012 5 4 3
Пример 449 CP-449 449 20 20 0,8 5,3×1012 5 4 3
Пример 450 CP-450 450 20 20 0,9 5,3×1012 6 4 3
Пример 451 CP-451 451 20 20 1,0 5,3×1012 6 4 3
Пример 452 CP-452 452 20 20 1,1 5,3×1012 6 4 3
Пример 453 CP-453 453 20 20 1,2 5,3×1012 5 4 3
Пример 454 CP-454 454 25 20 1,0 5,0×1012 4 4 3
Пример 455 CP-455 455 2 30 0,8 3,6×1011 4 4 3
Пример 456 CP-456 456 2 30 0,9 3,6×1011 5 4 3
Пример 457 CP-457 457 2 30 1,0 3,6×1011 5 4 3
Пример 458 CP-458 458 2 30 1,1 3,6×1011 5 4 3
Пример 459 CP-459 459 2 30 1,2 3,6×1011 4 4 3
Пример 460 CP-460 460 5 30 0,8 3,4×1011 5 4 3
Таблица 60
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×
100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 461 CP-461 461 5 30 0,9 3,4×1011 6 4 3
Пример 462 CP-462 462 5 30 1,0 3,4×1011 6 4 3
Пример 463 CP-463 463 5 30 1,1 3,4×1011 6 4 3
Пример 464 CP-464 464 5 30 1,2 3,4×1011 5 4 3
Пример 465 CP-465 465 13 30 0,8 2,8×1011 5 4 3
Пример 466 CP-466 466 13 30 0,9 2,8×1011 6 4 3
Пример 467 CP-467 467 13 30 1,0 2,8×1011 6 4 3
Пример 468 CP-468 468 13 30 1,1 2,8×1011 6 4 3
Пример 469 CP-469 469 13 30 1,2 2,8×1011 5 4 3
Пример 470 CP-470 470 20 30 0,8 2,5×1011 5 4 3
Пример 471 CP-471 471 20 30 0,9 2,5×1011 6 4 3
Пример 472 CP-472 472 20 30 1,0 2,5×1011 6 4 3
Пример 473 CP-473 473 20 30 1,1 2,5×1011 6 4 3
Пример 474 CP-474 474 20 30 1,2 2,5×1011 5 4 3
Пример 475 CP-475 475 25 30 0,8 2,3×1011 3 4 3
Пример 476 CP-476 476 25 30 0,9 2,3×1011 4 4 3
Пример 477 CP-477 477 25 30 1,0 2,3×1011 4 4 3
Пример 478 CP-478 478 25 30 1,1 2,3×1011 4 4 3
Пример 479 CP-479 479 25 30 1,2 2,3×1011 3 4 3
Пример 480 CP-480 480 2 40 1,0 7,6×109 5 4 3
Пример 481 CP-481 481 5 40 0,8 6,8×109 5 4 3
Пример 482 CP-482 482 5 40 0,9 6,8×109 6 4 3
Пример 483 CP-483 483 5 40 1,0 6,8×109 6 4 3
Пример 484 CP-484 484 5 40 1,1 6,8×109 6 4 3
Пример 485 CP-485 485 5 40 1,2 6,8×109 5 4 3
Пример 486 CP-486 486 13 40 0,8 5,2×109 5 4 3
Пример 487 CP-487 487 13 40 0,9 5,2×109 6 4 3
Пример 488 CP-488 488 13 40 1,0 5,2×109 6 4 3
Пример 489 CP-489 489 13 40 1,1 5,2×109 6 4 3
Пример 490 CP-490 490 13 40 1,2 5,2×109 5 4 3
Пример 491 CP-491 491 20 40 0,8 4,2×109 5 4 3
Пример 492 CP-492 492 20 40 0,9 4,2×109 6 4 3
Пример 493 CP-493 493 20 40 1,0 4,2×109 6 4 3
Пример 494 CP-494 494 20 40 1,1 4,2×109 6 4 3
Пример 495 CP-495 495 20 40 1,2 4,2×109 5 4 3
Пример 496 CP-496 496 25 40 1,0 3,7×109 4 4 3
Пример 497 CP-497 497 2 45 0,8 6,5×108 4 4 2
Пример 498 CP-498 498 2 45 0,9 6,5×108 5 4 2
Пример 499 CP-499 499 2 45 1,0 6,5×108 5 4 2
Пример 500 CP-500 500 2 45 1,1 6,5×108 5 4 2
Таблица 61
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×
100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 501 CP-501 501 2 45 1,2 6,5×108 4 4 2
Пример 502 CP-502 502 5 45 1,0 5,7×108 6 4 2
Пример 503 CP-503 503 13 45 0,8 4,1×108 5 4 2
Пример 504 CP-504 504 13 45 0,9 4,1×108 6 4 2
Пример 505 CP-505 505 13 45 1,0 4,1×108 6 4 2
Пример 506 CP-506 506 13 45 1,1 4,1×108 6 4 2
Пример 507 CP-507 507 13 45 1,2 4,1×108 5 4 2
Пример 508 CP-508 508 20 45 1,0 3,2×108 6 4 2
Пример 509 CP-509 509 25 45 0,8 2,7×108 3 4 2
Пример 510 CP-510 510 25 45 0,9 2,7×108 4 4 2
Пример 511 CP-511 511 25 45 1,0 2,7×108 4 4 2
Пример 512 CP-512 512 25 45 1,1 2,7×108 4 4 2
Пример 513 CP-513 513 25 45 1,2 2,7×108 3 4 2
Пример 514 CP-514 514 5 20 0,8 4,8×1012 5 4 3
Пример 515 CP-515 515 5 20 0,9 4,8×1012 6 4 3
Пример 516 CP-516 516 5 20 1,0 4,8×1012 6 4 3
Пример 517 CP-517 517 5 20 1,1 4,8×1012 6 4 3
Пример 518 CP-518 518 5 20 1,2 4,8×1012 5 4 3
Пример 519 CP-519 519 13 20 0,8 4,3×1012 5 4 3
Пример 520 CP-520 520 13 20 0,9 4,3×1012 6 4 3
Пример 521 CP-521 521 13 20 1,0 4,3×1012 6 4 3
Пример 522 CP-522 522 13 20 1,1 4,3×1012 6 4 3
Пример 523 CP-523 523 13 20 1,2 4,3×1012 5 4 3
Пример 524 CP-524 524 20 20 0,8 3,9×1012 5 4 3
Пример 525 CP-525 525 20 20 0,9 3,9×1012 6 4 3
Пример 526 CP-526 526 20 20 1,0 3,9×1012 6 4 3
Пример 527 CP-527 527 20 20 1,1 3,9×1012 6 4 3
Пример 528 CP-528 528 20 20 1,2 3,9×1012 5 4 3
Пример 529 CP-529 529 5 30 0,8 1,7×1011 5 4 3
Пример 530 CP-530 530 5 30 0,9 1,7×1011 6 4 3
Пример 531 CP-531 531 5 30 1,0 1,7×1011 6 4 3
Пример 532 CP-532 532 5 30 1,1 1,7×1011 6 4 3
Пример 533 CP-533 533 5 30 1,2 1,7×1011 5 4 3
Пример 534 CP-534 534 13 30 0,8 1,4×1011 5 4 3
Пример 535 CP-535 535 13 30 0,9 1,4×1011 6 4 3
Пример 536 CP-536 536 13 30 1,0 1,4×1011 6 4 3
Пример 537 CP-537 537 13 30 1,1 1,4×1011 6 4 3
Пример 538 CP-538 538 13 30 1,2 1,4×1011 5 4 3
Пример 539 CP-539 539 20 30 0,8 1,2×1011 5 4 3
Пример 540 CP-540 540 20 30 0,9 1,2×1011 6 4 3
Таблица 62
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 541 CP-541 541 20 30 1,0 1,2×1011 6 4 3
Пример 542 CP-542 542 20 30 1,1 1,2×1011 6 4 3
Пример 543 CP-543 543 20 30 1,2 1,2×1011 5 4 3
Пример 544 CP-544 544 5 40 0,8 1,6×109 5 4 3
Пример 545 CP-545 545 5 40 0,9 1,6×109 6 4 3
Пример 546 CP-546 546 5 40 1,0 1,6×109 6 4 3
Пример 547 CP-547 547 5 40 1,1 1,6×109 6 4 3
Пример 548 CP-548 548 5 40 1,2 1,6×109 5 4 3
Пример 549 CP-549 549 13 40 0,8 1,1×109 5 4 3
Пример 550 CP-550 550 13 40 0,9 1,1×109 6 4 3
Пример 551 CP-551 551 13 40 1,0 1,1×109 6 4 3
Пример 552 CP-552 552 13 40 1,1 1,1×109 6 4 3
Пример 553 CP-553 553 13 40 1,2 1,1×109 5 4 3
Пример 554 CP-554 554 20 40 0,8 8,7×108 5 4 3
Пример 555 CP-555 555 20 40 0,9 8,7×108 6 4 3
Пример 556 CP-556 556 20 40 1,0 8,7×108 6 4 3
Пример 557 CP-557 557 20 40 1,1 8,7×108 6 4 3
Пример 558 CP-558 558 20 40 1,2 8,7×108 5 4 3
Пример 559 CP-559 559 13 30 1,0 1,4×1011 6 4 3
Пример 560 CP-560 560 11 30 1,0 4,8×1011 6 4 3
Таблица 63
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}
×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}
×100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 107 CP-C107 C107 - - - 2,2×1013 1 3 3
Сравнительный пример 108 CP-C108 C108 - - - 3,8×1011 1 4 3
Сравнительный пример 109 CP-C109 C109 - - - 7,2×108 1 4 2
Сравнительный пример 110 CP-C110 C110 1 15 1,0 2,2×1013 2 3 3
Сравнительный пример 111 CP-C111 C111 1 30 1,0 3,7×1011 2 4 3
Сравнительный пример 112 CP-C112 C112 1 45 1,0 6,8×108 2 4 2
Сравнительный пример 113 CP-C113 C113 30 15 1,0 1,7×1013 2 3 3
Сравнительный пример 114 CP-C114 C114 30 30 1,0 2,1×1011 2 4 3
Сравнительный пример 115 CP-C115 C115 30 45 1,0 2,3×108 2 4 2
Сравнительный пример 116 CP-C116 C116 - - - 7,7×1012 1 3 3
Сравнительный пример 117 CP-C117 C117 - - - 2,9×1010 1 4 3
Сравнительный пример 118 CP-C118 C118 - - - 5,3×106 1 4 2
Сравнительный пример 119 CP-C119 C119 2 10 1,0 6,3×1013 5 1 3
Сравнительный пример 120 CP-C120 C120 5 10 1,0 6,1×1013 6 1 3
Сравнительный пример 121 CP-C121 C121 13 10 1,0 5,9×1013 6 1 3
Сравнительный пример 122 CP-C122 C122 20 10 1,0 5,7×1013 6 1 3
Сравнительный пример 123 CP-C123 C123 25 10 1,0 5,5×1013 4 1 3
Сравнительный пример 124 CP-C124 C124 2 50 1,0 3,4×107 5 4 1
Сравнительный пример 125 CP-C125 C125 5 50 1,0 2,9×107 6 4 1
Сравнительный пример 126 CP-C126 C126 13 50 1,0 1,9×107 6 4 1
Сравнительный пример 127 CP-C127 C127 20 50 1,0 1,4×107 6 4 1
Сравнительный пример 128 CP-C128 C128 25 50 1,0 1,2×107 4 4 1
Таблица 64
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/
(V1/VT)}
×100
{(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 561 CP-561 561 2 15 0,8 2,0×1013 4 3 3
Пример 562 CP-562 562 2 15 0,9 2,0×1013 5 3 3
Пример 563 CP-563 563 2 15 1,0 2,0×1013 5 3 3
Пример 564 CP-564 564 2 15 1,1 2,0×1013 5 3 3
Пример 565 CP-565 565 2 15 1,2 2,0×1013 4 3 3
Пример 566 CP-566 566 5 15 1,0 2,0×1013 6 3 3
Пример 567 CP-567 567 13 15 0,8 1,8×1013 5 3 3
Пример 568 CP-568 568 13 15 0,9 1,8×1013 6 3 3
Пример 569 CP-569 569 13 15 1,0 1,8×1013 6 3 3
Пример 570 CP-570 570 13 15 1,1 1,8×1013 6 3 3
Пример 571 CP-571 571 13 15 1,2 1,8×1013 5 3 3
Пример 572 CP-572 572 20 15 1,0 1,7×1013 6 3 3
Пример 573 CP-573 573 25 15 0,8 1,7×1013 3 3 3
Пример 574 CP-574 574 25 15 0,9 1,7×1013 4 3 3
Пример 575 CP-575 575 25 15 1,0 1,6×1013 4 3 3
Пример 576 CP-576 576 25 15 1,1 1,6×1013 4 3 3
Пример 577 CP-577 577 25 15 1,2 1,6×1013 3 3 3
Пример 578 CP-578 578 2 20 1,0 6,0×1012 5 4 3
Пример 579 CP-579 579 5 20 0,8 5,8×1012 5 4 3
Пример 580 CP-580 580 5 20 0,9 5,8×1012 6 4 3
Пример 581 CP-581 581 5 20 1,0 5,8×1012 6 4 3
Пример 582 CP-582 582 5 20 1,1 5,8×1012 6 4 3
Пример 583 CP-583 583 5 20 1,2 5,7×1012 5 4 3
Пример 584 CP-584 584 13 20 0,8 5,2×1012 5 4 3
Пример 585 CP-585 585 13 20 0,9 5,2×1012 6 4 3
Пример 586 CP-586 586 13 20 1,0 5,1×1012 6 4 3
Пример 587 CP-587 587 13 20 1,1 5,1×1012 6 4 3
Пример 588 CP-588 588 13 20 1,2 5,1×1012 5 4 3
Пример 589 CP-589 589 20 20 0,8 4,7×1012 5 4 3
Пример 590 CP-590 590 20 20 0,9 4,7×1012 6 4 3
Пример 591 CP-591 591 20 20 1,0 4,7×1012 6 4 3
Пример 592 CP-592 592 20 20 1,1 4,7×1012 6 4 3
Пример 593 CP-593 593 20 20 1,2 4,6×1012 5 4 3
Пример 594 CP-594 594 25 20 1,0 4,4×1012 4 4 3
Пример 595 CP-595 595 2 30 0,8 3,1×1011 4 4 3
Пример 596 CP-596 596 2 30 0,9 3,1×1011 5 4 3
Пример 597 CP-597 597 2 30 1,0 3,1×1011 5 4 3
Пример 598 CP-598 598 2 30 1,1 3,1×1011 5 4 3
Пример 599 CP-599 599 2 30 1,2 3,1×1011 4 4 3
Пример 600 CP-600 600 5 30 0,8 2,9×1011 5 4 3
Таблица 65
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}
×100
{(V1/VT)+
(V2/VT)}
×100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 601 CP-601 601 5 30 0,9 2,9×1011 6 4 3
Пример 602 CP-602 602 5 30 1,0 2,9×1011 6 4 3
Пример 603 CP-603 603 5 30 1,1 2,9×1011 6 4 3
Пример 604 CP-604 604 5 30 1,2 2,9×1011 5 4 3
Пример 605 CP-605 605 13 30 0,8 2,4×1011 5 4 3
Пример 606 CP-606 606 13 30 0,9 2,4×1011 6 4 3
Пример 607 CP-607 607 13 30 1,0 2,4×1011 6 4 3
Пример 608 CP-608 608 13 30 1,1 2,4×1011 6 4 3
Пример 609 CP-609 609 13 30 1,2 2,3×1011 5 4 3
Пример 610 CP-610 610 20 30 0,8 2,1×1011 5 4 3
Пример 611 CP-611 611 20 30 0,9 2,1×1011 6 4 3
Пример 612 CP-612 612 20 30 1,0 2,0×1011 6 4 3
Пример 613 CP-613 613 20 30 1,1 2,0×1011 6 4 3
Пример 614 CP-614 614 20 30 1,2 2,0×1011 5 4 3
Пример 615 CP-615 615 25 30 0,8 1,9×1011 3 4 3
Пример 616 CP-616 616 25 30 0,9 1,9×1011 4 4 3
Пример 617 CP-617 617 25 30 1,0 1,8×1011 4 4 3
Пример 618 CP-618 618 25 30 1,1 1,8×1011 4 4 3
Пример 619 CP-619 619 25 30 1,2 1,8×1011 3 4 3
Пример 620 CP-620 620 2 40 1,0 6,1×109 5 4 3
Пример 621 CP-621 621 5 40 0,8 5,4×109 5 4 3
Пример 622 CP-622 622 5 40 0,9 5,4×109 6 4 3
Пример 623 CP-623 623 5 40 1,0 5,3×109 6 4 3
Пример 624 CP-624 624 5 40 1,1 5,3×109 6 4 3
Пример 625 CP-625 625 5 40 1,2 5,3×109 5 4 3
Пример 626 CP-626 626 13 40 0,8 4,0×109 5 4 3
Пример 627 CP-627 627 13 40 0,9 4,0×109 6 4 3
Пример 628 CP-628 628 13 40 1,0 3,9×109 6 4 3
Пример 629 CP-629 629 13 40 1,1 3,9×109 6 4 3
Пример 630 CP-630 630 13 40 1,2 3,8×109 5 4 3
Пример 631 CP-631 631 20 40 0,8 3,2×109 5 4 3
Пример 632 CP-632 632 20 40 0,9 3,2×109 6 4 3
Пример 633 CP-633 633 20 40 1,0 3,1×109 6 4 3
Пример 634 CP-634 634 20 40 1,1 3,1×109 6 4 3
Пример 635 CP-635 635 20 40 1,2 3,0×109 5 4 3
Пример 636 CP-636 636 25 40 1,0 2,6×109 4 4 3
Пример 637 CP-637 637 2 45 0,8 5,0×108 4 4 2
Пример 638 CP-638 638 2 45 0,9 5,0×108 5 4 2
Пример 639 CP-639 639 2 45 1,0 5,0×108 5 4 2
Пример 640 CP-640 640 2 45 1,1 5,0×108 5 4 2
Таблица 66
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 641 CP-641 641 2 45 1,2 4,9×108 4 4 2
Пример 642 CP-642 642 5 45 1,0 4,2×108 6 4 2
Пример 643 CP-643 643 13 45 0,8 3,0×108 5 4 2
Пример 644 CP-644 644 13 45 0,9 3,0×108 6 4 2
Пример 645 CP-645 645 13 45 1,0 2,9×108 6 4 2
Пример 646 CP-646 646 13 45 1,1 2,9×108 6 4 2
Пример 647 CP-647 647 13 45 1,2 2,8×108 5 4 2
Пример 648 CP-648 648 20 45 1,0 2,1×108 6 4 2
Пример 649 CP-649 649 25 45 0,8 1,9×108 3 4 2
Пример 650 CP-650 650 25 45 0,9 1,9×108 4 4 2
Пример 651 CP-651 651 25 45 1,0 1,8×108 4 4 2
Пример 652 CP-652 652 25 45 1,1 1,8×108 4 4 2
Пример 653 CP-653 653 25 45 1,2 1,7×108 3 4 2
Таблица 67
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 654 CP-654 654 5 20 0,8 4,3×1012 5 4 3
Пример 655 CP-655 655 5 20 0,9 4,3×1012 6 4 3
Пример 656 CP-656 656 5 20 1,0 4,3×1012 6 4 3
Пример 657 CP-657 657 5 20 1,1 4,3×1012 6 4 3
Пример 658 CP-658 658 5 20 1,2 4,3×1012 5 4 3
Пример 659 CP-659 659 13 20 0,8 3,8×1012 5 4 3
Пример 660 CP-660 660 13 20 0,9 3,8×1012 6 4 3
Пример 661 CP-661 661 13 20 1,0 3,8×1012 6 4 3
Пример 662 CP-662 662 13 20 1,1 3,8×1012 6 4 3
Пример 663 CP-663 663 13 20 1,2 3,7×1012 5 4 3
Пример 664 CP-664 664 20 20 0,8 3,5×1012 5 4 3
Пример 665 CP-665 665 20 20 0,9 3,5×1012 6 4 3
Пример 666 CP-666 666 20 20 1,0 3,4×1012 6 4 3
Пример 667 CP-667 667 20 20 1,1 3,4×1012 6 4 3
Пример 668 CP-668 668 20 20 1,2 3,4×1012 5 4 3
Пример 669 CP-669 669 5 30 0,8 1,5×1011 5 4 3
Пример 670 CP-670 670 5 30 0,9 1,5×1011 6 4 3
Пример 671 CP-671 671 5 30 1,0 1,4×1011 6 4 3
Пример 672 CP-672 672 5 30 1,1 1,4×1011 6 4 3
Пример 673 CP-673 673 5 30 1,2 1,4×1011 5 4 3
Пример 674 CP-674 674 13 30 0,8 1,2×1011 5 4 3
Пример 675 CP-675 675 13 30 0,9 1,2×1011 6 4 3
Пример 676 CP-676 676 13 30 1,0 1,1×1011 6 4 3
Пример 677 CP-677 677 13 30 1,1 1,1×1011 6 4 3
Пример 678 CP-678 678 13 30 1,2 1,1×1011 5 4 3
Пример 679 CP-679 679 20 30 0,8 9,8×1010 5 4 3
Пример 680 CP-680 680 20 30 0,9 9,8×1010 6 4 3
Пример 681 CP-681 681 20 30 1,0 9,5×1010 6 4 3
Пример 682 CP-682 682 20 30 1,1 9,5×1010 6 4 3
Пример 683 CP-683 683 20 30 1,2 9,3×1010 5 4 3
Пример 684 CP-684 684 5 40 0,8 1,2×109 5 4 3
Пример 685 CP-685 685 5 40 0,9 1,2×109 6 4 3
Пример 686 CP-686 686 5 40 1,0 1,2×109 6 4 3
Пример 687 CP-687 687 5 40 1,1 1,2×109 6 4 3
Пример 688 CP-688 688 5 40 1,2 1,2×109 5 4 3
Пример 689 CP-689 689 13 40 0,8 8,2×108 5 4 3
Пример 690 CP-690 690 13 40 0,9 8,2×108 6 4 3
Таблица 68
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Пример 691 CP-691 691 13 40 1,0 8,0×108 6 4 3
Пример 692 CP-692 692 13 40 1,1 8,0×108 6 4 3
Пример 693 CP-693 693 13 40 1,2 7,7×108 5 4 3
Пример 694 CP-694 694 20 40 0,8 6,2×108 5 4 3
Пример 695 CP-695 695 20 40 0,9 6,2×108 6 4 3
Пример 696 CP-696 696 20 40 1,0 5,9×108 6 4 3
Пример 697 CP-697 697 20 40 1,1 5,9×108 6 4 3
Пример 698 CP-698 698 20 40 1,2 5,6×108 5 4 3
Пример 699 CP-699 699 13 30 1,0 1,1×1011 6 4 3
Пример 700 CP-700 700 13 30 1,0 4,7×1011 6 4 3
Таблица 69
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+ (V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 129 CP-C129 C129 - - - 2,1×1013 1 3 3
Сравнительный пример 130 CP-C130 C130 - - - 3,3×1011 1 4 3
Сравнительный пример 131 CP-C131 C131 - - - 5,5×108 1 4 2
Сравнительный пример 132 CP-C132 C132 1 15 1,0 2,1×1013 2 3 3
Сравнительный пример 133 CP-C133 C133 1 31 1,0 3,2×1011 2 4 3
Сравнительный пример 134 CP-C134 C134 1 47 1,0 5,2×108 2 4 2
Сравнительный пример 135 CP-C135 C135 30 15 1,0 1,6×1013 2 3 3
Сравнительный пример 136 CP-C136 C136 30 31 1,0 1,7×1011 2 4 3
Сравнительный пример 137 CP-C137 C137 30 47 1,0 1,5×108 2 4 2
Сравнительный пример 138 CP-C138 C138 - - - 6,1×1012 1 3 3
Сравнительный пример 139 CP-C139 C139 - - - 1,7×1010 1 4 3
Сравнительный пример 140 CP-C140 C140 - - - 1,9×106 1 4 2
Сравнительный пример 141 CP-C141 C141 2 10 1,0 6,0×1013 5 1 3
Сравнительный пример 142 CP-C142 C142 5 10 1,0 5,9×1013 6 1 3
Сравнительный пример 143 CP-C143 C143 13 10 1,0 5,6×1013 6 1 3
Сравнительный пример 144 CP-C144 C144 20 10 1,0 5,4×1013 6 1 3
Сравнительный пример 145 CP-C145 C145 25 10 1,0 5,2×1013 4 1 3
Сравнительный пример 146 CP-C146 C146 2 52 1,0 2,4×107 5 4 1
Сравнительный пример 147 CP-C147 C147 5 52 1,0 2,0×107 6 4 1
Сравнительный пример 148 CP-C148 C148 13 52 1,0 1,3×107 6 4 1
Сравнительный пример 149 CP-C149 C149 20 52 1,0 8,8×106 6 4 1
Сравнительный пример 150 CP-C150 C150 25 52 1,0 7,0×106 4 4 1
Таблица 70
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 151 CP-C151 C151 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 152 CP-C152 C152 - - - 2,6×1011 1 4 3
Сравнительный пример 153 CP-C153 C153 - - - 2,8×1011 1 4 3
Сравнительный пример 154 CP-C154 C154 - - - 2,7×1011 1 4 3
Сравнительный пример 155 CP-C155 C155 - - - 2,6×1011 1 4 3
Сравнительный пример 156 CP-C156 C156 - - - 2,3×1011 1 4 3
Сравнительный пример 157 CP-C157 C157 - - - 2,5×1011 1 4 3
Сравнительный пример 158 CP-C158 C158 - - - 2,4×1011 1 4 3
Таблица 71
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+
(V2/VT)}×
100
R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 159 CP-C159 C159 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 160 CP-C160 C160 - - - 2,7×1011 1 4 3
Сравнительный пример 161 CP-C161 C161 - - - 3,2×1011 1 4 3
Сравнительный пример 162 CP-C162 C162 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 163 CP-C163 C163 - - - 2,9×1011 1 4 3
Сравнительный пример 164 CP-C164 C164 - - - 2,9×1011 1 4 3
Сравнительный пример 165 CP-C165 C165 - - - 2,9×1011 1 4 3
Таблица 72
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+(V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 166 CP-C166 C166 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 167 CP-C167 C167 - - - 2,8×1011 1 4 3
Сравнительный пример 168 CP-C168 C168 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 169 CP-C169 C169 - - - 2,6×1011 1 4 3
Сравнительный пример 170 CP-C170 C170 - - - 3,3×1011 1 4 3
Сравнительный пример 171 CP-C171 C171 - - - 3,0×1011 1 4 3
Таблица 73
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента {(V2/VT)/(V1/VT)}×100 {(V1/VT)+(V2/VT)}×100 R2/R1 Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см] Результат оценки
Память рисунка Остаточный потенциал Наличие трещин
Сравнительный пример 172 CP-C172 C172 - - - 2,9×1011 1 4 3
Сравнительный пример 173 CP-C173 C173 - - - 2,9×1011 1 4 3
Сравнительный пример 174 CP-C174 C174 - - - 2,9×1011 1 4 3
Сравнительный пример 175 CP-C175 C175 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 176 CP-C176 C176 - - - 2,8×1011 1 4 3
Сравнительный пример 177 CP-C177 C177 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 178 CP-C178 C178 - - - 3,0×1011 1 4 3
Сравнительный пример 179 CP-C179 C179 - - - 1,9×1012 1 4 3
Таблица 74
Категория памяти рисунка
6 5 4 3 2 1
Сплошное черное изображение Ненаблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое
Полутоновое изображение Изображение с одноточечным рисунком с шахматным расположением Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое
С поперечными одноточечными линиями с одноточечным промежутком Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое
С поперечными двухточечными линиями с трехточечным промежутком Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Наблюдаемое Наблюдаемое
С поперечными одноточечными линиями с двухточечным промежутком Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Ненаблюдаемое Наблюдаемое

Несмотря на то, что данное изобретение описано здесь со ссылками на типичные варианты осуществления, следует понимать, что данное изобретение не ограничивается этими описанными типичными вариантами осуществления. Объем представленной ниже формулы изобретения предоставляет наиболее широкое толкование, с тем, чтобы охватывать все такие модификации, эквивалентные структуры и функции.

Эта заявка притязает на приоритет по заявкам на патент Японии № 2012-189532, зарегистрированной 30 августа 2012 г., № 2013-077617, зарегистрированной 3 апреля 2013 г., и № 2013-177141, зарегистрированной 28 августа 2013 г., которые включены настоящим посредством ссылки во всей их полноте.

Список обозначений

1 электрофотографический фоточувствительный элемент

2 ось

3 узел для зарядки (первичный узел для зарядки)

4 экспонирующий свет (свет, передающий изображение)

5 узел для проявления

6 узел для переноса (такой как валик для переноса)

7 узел для очистки (такой как очистной ракельный нож)

8 фиксирующий узел

9 технологический картридж

10 направляющий узел

11 предэкспозиционный свет

P материал для переноса (такой как бумага)

1. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором,
частицы оксида олова, легированного фосфором, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V1P и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V2P, величины VT, V1P и V2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2):
2≤{(V2P/VT)/(V1P/VT)}×100≤25 (1);
15≤{(V1P/VT)+(V2P/VT)}×100≤45 (2).

2. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором величины VT, V1P и V2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (3):
5≤{(V2P/VT)/(V1P/VT)}×100≤20 (3).

3. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором величины VT, V1P и V2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (4):
20≤{(V1P/VT)+(V2P/VT)}×100≤40 (4).

4. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором если отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, представлено как R1P [ат.%] и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного фосфором, представлено как R2P [ат.%], то величины R1P и R2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (5):
0,9≤R2P/R1P≤1,1 (5).

5. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом,
частицы оксида олова, легированного вольфрамом, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V1W и общий объем частиц оксида олова, легированного вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V2W, величины VT, V1W и V2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7):
2≤{(V2W/VT)/(V1W/VT)}×100≤25 (6);
15≤{(V1W/VT)+(V2W/VT)}×100≤45 (7).

6. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором величины VT, V1W и V2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (8):
5≤{(V2W/VT)/(V1W/VT)}×100≤20 (8).

7. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором величины VT, V1W и V2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (9):
20≤{(V1W/VT)+(V2W/VT)}×100≤40 (9).

8. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором если отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, представлено как R1W [ат.%] и отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного вольфрамом, представлено как R2W [ат.%], то величины R1W и R2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (10):
0,9≤R2W/R1W≤1,1 (10).

9. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором,
частицы оксида олова, легированного фтором, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, в электропроводном слое представлен как V1F и общий объем частиц оксида олова, легированного фтором, в электропроводном слое представлен как V2F, величины VT, V1F и V2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12):
2≤{(V2F/VT)/(V1F/VT)}×100≤25 (11);
15≤{(V1F/VT)+(V2F/VT)}×100≤45 (12).

10. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором величины VT, V1F и V2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (13):
5≤{(V2F/VT)/(V1F/VT)}×100≤20 (13).

11. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором величины VT, V1F и V2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (14):
20≤{(V1F/VT)+(V2F/VT)}×100≤40 (14).

12. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором если отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, представлено как R1F [ат.%] и отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного фтором, представлено как R2F [ат.%], то величины R1F и R2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (15):
0,9≤R2F/R1F≤1,1 (15).

13. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием,
частицы оксида олова, легированного ниобием, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, в электропроводном слое представлен как V1Nb и общий объем частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое представлен как V2Nb, величины VT, V1Nb и V2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17):
2≤{(V2Nb/VT)/(V1Nb/VT)}×100≤25 (16);
15≤{(V1Nb/VT)+(V2Nb/VT)}×100≤45 (17).

14. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором величины VT, V1Nb и V2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (18):
5≤{(V2Nb/VT)/(V1Nb/VT)}×100≤20 (18).

15. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором величины VT, V1Nb и V2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (19):
20≤{(V1Nb/VT)+(V2Nb/VT)}×100≤40 (19).

16. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором если отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, представлено как R1Nb [ат.%] и отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного ниобием, представлено как R2Nb [ат.%], то величины R1Nb и R2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (20):
0,9≤R2Nb/R1Nb≤1,1 (20).

17. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом,
частицы оксида олова, легированного танталом, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как VT, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, в электропроводном слое представлен как V1Ta и общий объем частиц оксида олова, легированного танталом, в электропроводном слое представлен как V2Ta, величины VT, V1Ta и V2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22):
2≤{(V2Ta/VT)/(V1Ta/VT)}×100≤25 (21);
15≤{(V1Ta/VT)+(V2Ta/VT)}×100≤45 (22).

18. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором величины VT, V1Ta и V2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (23):
5≤{(V2Ta/VT)/(V1Ta/VT)}×100≤20 (23).

19. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором величины VT, V1Ta и V2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (24):
20≤{(V1Ta/VT)+(V2Ta/VT)}×100≤40 (24).

20. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором если отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, представлено как R1Ta [ат.%] и отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного танталом, представлено как R2Ta [ат.%], то величины R1Ta и R2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (25):
0,9≤R2Ta/R1Ta≤1,1 (25).

21. Технологический картридж, присоединяемый с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства, где технологический картридж содержит в интегрированном виде:
электрофотографический фоточувствительный элемент по любому из пп. 1-20; и
по меньшей мере один узел, выбранный из группы, состоящей из узла для зарядки, узла для проявления, узла для переноса и узла для очистки.

22. Электрофотографическое устройство, содержащее:
электрофотографический фоточувствительный элемент по любому из пп. 1-20;
узел для зарядки;
узел для экспонирования;
узел для проявления; и
узел для переноса.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу для использования в картриджах для печати и электрофотографических аппаратах. Электрофотографический фоточувствительный элемент содержит основу, грунтовочный слой, сформированный на основе, и фоточувствительный слой, сформированный на грунтовочном слое.

Изобретение относится к способу изготовления электрофотографического светочувствительного элемента. Способ включает стадии формирования пленки для получения поверхностного слоя на проводящей подложке и формирования поверхностного слоя высушиванием этой пленки.

Изобретение относится к электрофотографическому светочувствительному элементу, применяемому в рабочих картриджах и электрофотографических устройствах. Электрофотографический светочувствительный элемент представляет ламинированное тело, которое содержит проводящую подложку, слой переноса электронов, слой генерирования заряда и слой переноса дырок.

Изобретение относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу, картриджу для печати и электрофотографическому аппарату, содержащим такой фоточувствительный элемент.

Предложен электрофотографический фоточувствительный элемент, в котором подстилающий слой является слоем, в котором по меньшей мере одно соединение, выбранное из группы, состоящей из соединения, представленного формулой (1), соединения, представленного формулой (2), соединения, представленного формулой (3), и соединения, представленного формулой (4), может быть обнаружено с помощью газохроматографического анализа при нагревании подстилающего слоя при 150°C в течение 60 минут парофазным методом.

Данная группа изобретений относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу, технологическому картриджу и электрофотографическому устройству, которые оба включают данный электрофотографический фоточувствительный элемент, и способу изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента.

Изобретение относится к электрофотографическому светочувствительному элементу. Элемент включает подложку (101), связующий подслой (102), сформированный на подложке, и светочувствительный слой (103), сформированный на связующем подслое.

Изобретение относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу, а также технологическому картриджу и электрофотографическому устройству, которые имеют такой электрофотографический фоточувствительный элемент.

Настоящее изобретение относится к электрофотографическому светочувствительному элементу, технологическому картриджу и электрофотографическому устройству, которые имеют электрофотографический светочувствительный элемент.

Изобретение относится к электрофотографическому светочувствительному элементу, рабочему картриджу и электрофотографическому устройству, которое содержит упомянутый электрофотографический светочувствительный элемент.

Изобретение относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу. Элемент содержит основу, проводящий слой, образованный на основе, и фоточувствительный слой, образованный на проводящем слое. Проводящий слой содержит связующий материал, первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла. Первые частицы оксида металла являются частицами оксида титана, покрытыми оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом, ниобием, танталом или фтором. Вторые частицы оксида металла являются непокрытыми частицами оксида титана. Содержание первых частиц оксида металла в проводящем слое составляет не менее чем 20% по объему и не более чем 50% по объему в расчете на общий объем проводящего слоя. Содержание вторых частиц оксида металла в проводящем слое составляет не менее чем 1,0% по объему и не более чем 15% по объему в расчете на общий объем проводящего слоя и не менее чем 5,0% по объему и не более чем 30% по объему в расчете на содержание первых частиц оксида металла в проводящем слое. Также предложены технологический картридж и электрографическое устройство. Изобретение предоставляет электрофотографический фоточувствительный элемент, в котором практически не происходит утечка. 3 н. и 2 з.п. ф-лы, 5 ил., 24 табл., 8 пр.
Наверх