Ю. в. рыбкин
ОП И САНИ Е
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
264164
Сеюа Соватекиа
Социалистичеокик
Реопчблик
Зависимое от авт. свидетельства №
Заявлено 11.Х1.1968 (№ 1282559/18-10) с присоединением заявки ¹
Приоритет
Опубликовано 10.11,1970. Бюллетень № 8
Дата опубликования описания 6Л П.1970 л. 57!с1 7!/ Й - -" "
МПК G 03d
УДК 77.023 (088.8) Комитет оо делам иаобрвтвиий и открытий ори Совете Министров
СССР
Авторы изобретения Н. И. Кириллов, Е. М. Фельдшеров, Н. Г. Масленкова, О. И. Иошин, В. М. Бондарчук, В. В. Елизаров, В. А. Блюдник и Ю. В. Рывкин
Центральное конструкторское бюро киноаппаратуры
Заявитель
СПОСОБ ФОТОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ФОТОМАТЕРИАЛОВ
Данное изобретение относится к области фотохимической обработки свегочу!вствительных м атер и алов.
Из!вестны способы односторонней обработки светочувствительных материалов, при которых обрабатывающий раствор струями, выдавли-! ваемыми через сопла !во вращающемся цилиндре, наносят на движущуюся ленту.
Однако при этих способах расходуется много обрабатывающих растворо!в, которые быстро окисляются.
По предлагаемому опособу обрабатывающий раствор наносят на экспонированный светочувствительный материал перемещающимся воз,вратно-:поступательно сферическим или сегментно-щелевым мениском в направлении, параллельном или перпендикулярном к направлению движения материала, при давлении:подаваемого раствора, не прввышающем сил по-! верхностного натяжения B мениске, Сущность способа заключается в том, что ,растворы подают на пленку через цилиндрическое отверстие или щель, на,выходе из которого фиксируется либо сферический, либо сетментно-щелевой мениск, соприкасающийся с эмульсионным слоем фотамагериала; Для этоpro срез отверстия или щели должен быть расположен на расстоянии от материала в нескольких десятых миллиметра.
Мениск непрерывно перемещается возвратно-поступательно в направлении, параллельном или перпендикулярном к направлению движения обрабатываемого материала, что
5 создает наиболее благоприятные условия обработки, подобные обработке с интенсивным перемешиванием раствора или известной обработке «с кистью». При этом обрабатываемый материал может двигаться по прямолиlO нейной или криволинейной плоскости, или же по цилиндрической поверхности, что в некото рых случаях является наиболее выгодным.
Для гарантированного со!прикосновения на15 носимого раствора с оорабатываемым материалом за счет молекулярных сил сцепления в растворы добавляются соответствующие поверхностно-акти|вчые вещества.
Расход обрабатывающих растворов по пред20 лагаемому способу минимальный и равняетс естественному уносу его обрабатываемым материалом за счет смачиваемости, при этом давление раствора не превышает сил,поверхностного натяжения .в мениске.
25 Периодичность и !величина возвратно-посту,пательного .перемещения мениска, его сферический или сегментно-щелевой вид, направление его движения по отношению к направлению движения обрабатываемого материала, 30 параллельно или перпендикулярно, устанавли264164
Составитель А. Массов
Техред Т. П. Курилко
Редактор С. И. Хейфиц
Корректоры: В. Петрова и А. Николаева
Заказ !377/6 Тираж 480 Подписное
ЦНИИПИ Коми1ета по делам изобретений и открытий при Совеге Министров СССР
Москва 7К-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 ваюФся применительно к кажДому конкретному случаю и могут быть осуществлены посредством различных устройств. На пример, для обработки кинопленок более целесообразно применять сегментно-щелевой мениск, по длине щели равный:ширине поля изображения,,перемещаемый возвратно-поступательно и 1в направлении,,параллельном д вижению кинопленки, а для обработки широкоформатных светочувствительных материалов, движущихся с небольшими скоростями (несколько им в секунду), выгоднее применить возвратно-поступательное перемещение сферического мениска в перпендикулярном направлении по отношению к на правлению д вижения материала и по величине хода равное ширине поля изображения. При больших скоростях движения обрабатываемого .материала для одного и того же
4 раствора можно применять несколько обраба= тывающих,менисков.
Предмет изобретения
s Способ фотохимической обработки фотоматериалов;путем нанесения растворов на светочувствительную, поверхность, отличающийся тем, что, с целью уменьшения количества обрабатывающих растворов, ускорения и упроще10 ния процесса, обрабатывающий раствор наносят на экопонированный светочувствительный материал перемещающимся возвратноипоступательно сферическим или сегментно-щелевым мениском в .направлении, параллельном или
15 перпендикулярном к направлению движения материала, при давлении:подаваемого раствора, не превышающем сил поверхностного натяжения в мениске.
