Приспособление для очистки



Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки
Приспособление для очистки

 


Владельцы патента RU 2606070:

КАО КОРПОРЕЙШН (JP)

Приспособление 10 для очистки, имеющее, по меньшей мере, одно боковое отверстие 41 и очистительную насадку 30, в котором направляющая поверхность 42 для загрязняющих частиц для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковое отверстие 41 расположена вдоль нижнего конца бокового отверстия 41; очистительным валиком 50 является упругий валик, имеющий поверхность, покрытую тонкой пленкой 53, и расположен с возможностью вращения в положении для закрытия бокового отверстия 41 и для контакта с поверхностью, подлежащей очистке; и очистительный валик 50, вращающийся в соответствии с перемещением очистительной насадки 30, удаляет загрязняющие частицы через направляющую поверхность 42 для загрязняющих частиц в боковое отверстие 41 при выталкивании загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке. 11 з.п. ф-лы, 14 ил.

 

ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ, К КОТОРОЙ ОТНОСИТСЯ ИЗОБРЕТЕНИЕ

Настоящее изобретение относится к приспособлению для очистки.

МАТЕРИАЛЫ, ИСПОЛЬЗОВАННЫЕ ПРИ ЭКСПЕРТИЗЕ ЗАЯВКИ

Как описано в патентной литературе 1, некоторые приспособления для очистки имеют боковое отверстие и вращающуюся щетку в передней части. Вдоль нижнего конца бокового отверстия расположена поверхность для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковое отверстие. Вращающаяся щетка соосна закреплена на валу ведущего колеса, катящегося по поверхности, подлежащей очистке, и расположена в положении для контакта с поверхностью, подлежащей очистке, и направляющей поверхностью для загрязняющих частиц на передней поверхности бокового отверстия. Вращающаяся щетка, которая вращается в соответствии с перемещением очистительной насадки, счищает загрязняющие частицы с поверхности, подлежащей очистке, и собирает загрязняющие частицы с направляющей поверхности для загрязняющих частиц через боковое отверстие в пылесборную емкость.

Кроме того, патентная литература 2 раскрывает способ выполнения приспособления для очистки типа вращающегося валика, который имеет упругий валик с ограничительными колесами относительно малого диаметра на его противоположных боковых поверхностях, и направляющую пластину для загрязняющих частиц, расположенную в продольном направлении кольцевой поверхности упругого валика, в котором загрязняющие частицы с поверхности, подлежащей очистке, захватываются и направляются на направляющую пластину для загрязняющих частиц, в то время как упругий валик прижимается и вращается, и загрязняющие частицы сбрасываются в пылесборную емкость посредством зажатия и скольжения загрязняющих частиц по направляющей пластине для загрязняющих частиц без изменения ее положения. В патентной литературе 2 губчатый валик представлен в качестве примера упругого валика.

СПИСОК ПРОТИВОПОСТАВЛЕННЫХ МАТЕРИАЛОВ

Патентная литература 1: JP 364161 B1

Патентная литература 2: JP 55-23481 Y2

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

ПРОБЛЕМЫ, ПОДЛЕЖАЩИЕ РЕШЕНИЮ НАСТОЯЩИМ ИЗОБРЕТЕНИЕМ

Приспособление для очистки, описанное в патентной литературе 1, имеет следующие проблемы.

(1) Вращающаяся щетка удаляет загрязняющие частицы (рис, крошки кондитерских изделий, грязь, песок или им подобное), волосы или комки пыли с поверхности, подлежащей очистке, но волосы или комки пыли могут обвиваться вокруг вращающейся щетки и не могут проходить в пылесборную емкость. Когда большое количество волос и комков пыли обвито вокруг вращающейся щетки, такие волосы и комки пыли могут снова прилипнуть к поверхности, подлежащей очистке, и испачкать поверхность, подлежащую очистке.

(2) Во вращающейся щетке боковое отверстие не может быть закрыто, поскольку зазоры присутствуют между ее щетинками. При поднятии очистительной насадки с поверхности, подлежащей очистки, или перевертывании загрязняющие частицы или им подобное, собранные в пылесборной емкости, вываливаются через боковое отверстие и разлетаются вокруг.

(3) Вращающаяся щетка соосно закреплена на валу ведущих колес на противоположных сторонах. Следовательно, диапазон очистки вращающейся щетки относительно всей ширины очистительной насадки является узким. Кроме того, диапазон ширины колеса от стены становится неочищаемым диапазоном.

Приспособление для очистки, описанное в патентной литературе 2, имеет следующие проблемы.

(1) При использовании губчатого валика в качестве упругого валика загрязняющие частицы и липкие вещества с поверхности, подлежащей очистке, проходят в отверстия губчатой поверхности вначале и после начала использования, и это затрудняет сброс загрязняющих частиц в пылесборную емкость. Кроме того, срок службы становился очень коротким из-за быстрого загрязнения губчатого валика и/или его засорения.

(2) При использовании валика из невспененной обычной резины в качестве упругого валика захват загрязняющих частиц был более трудным, чем при использовании губчатого валика, с точки зрения мягкости, необходимой для захвата загрязняющих частиц валиком. Кроме того, возникает большое трение между резиной валика и поверхностью, подлежащей очистке, и, следовательно, требуется усилие, например, когда резиновый валик должен скользить в осевом направлении для захвата загрязняющих частиц рядом со стеной. Следовательно, существовала проблема, связанная с удобством для эксплуатации приспособления для очистки.

Целью настоящего изобретения является устойчивый сбор загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, за счет широкого диапазона поверхности, подлежащей очистке.

СРЕДСТВА ДЛЯ РЕШЕНИЯ ПРОБЛЕМ

Настоящее изобретение по п. 1 описывает приспособление для очистки, имеющее, по меньшей мере, одно боковое отверстие и очистительный валик (вталкивающий валик) в очистительной насадке. Приспособление для очистки выполнено таким образом, что направляющая поверхность для загрязняющих частиц для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковое отверстие образована вдоль нижнего конца бокового отверстия, очистительный валик является упругим валиком, имеющим поверхность, покрытую тонкой пленкой, и расположен с возможностью вращения в положении для закрытия бокового отверстия и контакта с поверхностью, подлежащей очистке, и очистительный валик, вращающийся в соответствии с перемещением очистительной насадки, удаляет загрязняющие частицы через направляющую поверхность для загрязняющих частиц в боковое отверстие при выталкивании загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке.

Предпочтительно тонкая пленка имеет такую толщину, которая может соответствовать упругой деформации очистительного валика без уменьшения мягкости очистительного валика, и имеет толщину предпочтительно 10-100 мкм и более предпочтительно 10-50 мкм.

Тонкая пленка, покрывающая очистительный валик, увеличивает срок службы очистительного валика за счет предотвращения прилипания загрязняющих частиц и липких веществ к поверхности валика, обеспечивает скольжение в осевом направлении очистительного валика за счет уменьшения коэффициента трения поверхности валика и повышает удобство для эксплуатации приспособления для очистки. Кроме того, когда очистительным валиком является валик из спрессованных частиц или валик из спрессованных волокон, тонкая пленка также служит для поддержания формы очистительного валика в форме валика.

РЕЗУЛЬТАТ ИЗОБРЕТЕНИЯ

В соответствии с настоящим изобретением, так как используется очистительный валик, имеющий упругий валик, покрытый тонкой пленкой, загрязняющие частицы с поверхности, подлежащей очистке, могут стабильно собираться через широкий диапазон поверхности, подлежащей очистке.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ

Фиг. 1 - перспективный вид приспособления для очистки;

фиг. 2 - перспективный вид по линии II-II на фиг. 1;

фиг. 3 - вид в разрезе по линии II-II на фиг. 1;

фиг. 4(A) и (B) - виды в разрезе, включающие соединительный участок приспособления для очистки;

фиг. 5 - поперечное сечение поперечного элемента нижнего корпуса очистительной насадки;

фиг. 6 - перспективный вид части опорного участка очистительного валика очистительной насадки;

фиг. 7(A) и (B) - перспективные виды очистительной насадки со стороны нижней поверхности;

фиг. 8 - схематичный вид очистительного валика;

фиг. 9 - схематичный вид пылесборной емкости, направляющей поверхности для загрязняющих частиц и очистительного валика;

фиг. 10 - перспективный вид другого примера приспособления для очистки;

фиг. 11 - перспективный вид очистительной насадки со стороны нижней поверхности;

фиг. 12 - схематичный вид пылесборной емкости, направляющей поверхности для загрязняющих частиц и очистительного валика;

фиг. 13 - схематичный вид пылесборной емкости, направляющей поверхности для загрязняющих частиц и очистительного валика;

фиг. 14 - диаграмма конкретного примера материалов очистительного валика.

ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ

Приспособление 10 для очистки, изображенное на фиг. 1-4, собирает загрязняющие частицы (рис, крошки кондитерских изделий, грязь, песок или им подобное), волосы или комки пыли с поверхности, подлежащей очистке, которая является деревянным полом или ковровым покрытием. Приспособление 10 для очистки имеет пылесборную емкость 40 в очистительной насадке 30, расположенной на верхнем конце ручки 20, имеет переднее и заднее боковые отверстия 41 (41F и 41R), образованные спереди и сзади пылесборной емкости 40, и имеет передний и задний очистительные валики 50 (50F и 50R), закрывающие эти боковые отверстия 41.

Следует отметить, что в приспособлении 10 для очистки настоящего варианта осуществления рабочее усилие, приложенное к ручке 20, перемещает очистительные валики 50 по поверхности, подлежащей очистке, направление, в котором очистительная насадка 30 перемещается под действием толкающего рабочего усилия, приложенного к ручке 20, называется направлением вперед (направление F на фиг. 3), и направление, в котором очистительная насадка 30 перемещается под действием тянущего рабочего усилия, приложенного к ручке 20, называется направлением назад (направление R на фиг. 3).

Как показано на фиг. 1-3, ручка 20 является длинным элементом около 1 метра в длину, образованным из множества последовательно соединенных стержней 21, и включает в себя рукоятку на своем нижнем конце. Ручка 20 содержит на своем верхнем конце вилкообразный участок 22, имеющий прорезь, в которую вставлена соединительная пластина 24 соединения 23, и соединительная пластина 24 соединена при помощи штифта с втулкой 26, закрепленной на вилкообразном участке 22 при помощи винта 25, вставленного в вилкообразный участок 22. Кроме того, соединение 23 вставлено между левой и правой опорами 32 и 32, которые расположены на центральном участке в продольном направлении (направление прохождения очистительного валика 50 вследствие перемещения) и поперечном направлении (осевое направление очистительного валика 50) верхнего корпуса 31U очистительной насадки 30, и соединено со штифтом 27, закрепленным на этих опорах 32. Штифт 27 проходит в поперечном направлении очистительной насадки 30, и втулка 26 расположена перпендикулярно к штифту 27. Это позволяет пользователю поворачивать в поперечном направлении ручку 20 вокруг втулки 26 и поворачивать в продольном направлении ручку 20 вокруг штифта 27.

В ручке 20, как показано на фиг. 4(A) и (B), центральное отверстие стержня 21 на его верхнем конце нагружено цилиндрической пружиной 28, и скользящий элемент 28A, упруго подпружиненный этой цилиндрической пружиной 28, сдвинут на дугообразную поверхность 24A (поверхность на дуге с центром на втулке 26), образованную на соединительной пластине 24 соединения 23 для ограничения свободного поворота ручки 20 вокруг втулки 26. Кроме того, центральное отверстие, расположенное и открытое на верхней поверхности выступа 34 (который будет описан ниже) верхнего корпуса 31U очистительной насадки 30, нагружено цилиндрической пружиной 29, и скользящий элемент 29A, упруго подпружиненный этой цилиндрической пружиной 29, сдвинут на дугообразную поверхность 23A (поверхность на дуге с центром на штифте 27), расположенную на соединении 23 для ограничения свободного поворота ручки 20 вокруг штифта 27. Таким образом, пользователь, удерживающий ручку 20, может поднимать все приспособление 10 для очистки с поверхности, подлежащей очистке, и может перемещать все приспособление 10 для очистки при удержании ее исходного положения без изменения относительного углового положения очистительной насадки 30 с помощью ручки 20.

Как показано на фиг. 2-4, очистительная насадка 30 образована из сочетания верхнего и нижнего корпусов 31U и 31L, соединенных вместе.

Верхний корпус 31U проходит через продольную и поперечную поверхности очистительной насадки 30, и дугообразные крышки, расположенные на противоположных концах в продольном направлении, по существу, закрывают верхние половинки переднего и заднего очистительных валиков 50. Верхний корпус 31U включает в себя центральное ребро 33, которое выступает вниз на центральном участке в продольном направлении нижней поверхности, и которое проходит через всю поверхность в поперечном направлении, пересекая левую и правую боковые стенки верхнего корпуса 31U. На центральном участке в поперечном направлении центрального ребра 33 на нижней поверхности верхнего корпуса 31U выступ 34, который нагружен вышеупомянутой цилиндрической пружиной 29, выступает вниз.

Нижний корпус 31L имеет рамообразную форму, установленную между левой и правой боковыми стенками верхнего корпуса 31U, и имеет, как показано на фиг. 7(A) и (B), прямоугольный ступенчатый участок 36, на котором нижняя поверхность прямоугольной наружной периферийной рамы 35 является горизонтальной поверхностью, которая может входить в скользящий контакт с поверхностью, подлежащей очистке, и нижнюю пластину 43 (очистительный лист 44, который будет описан ниже), которая может устанавливаться внутри нижней поверхности наружной периферийной рамы 35. Ступенчатый участок 36 образует прямоугольное отверстие для закрепления с возможностью съема нижней пластины 43 и включает в себя ступенчатую поверхность 36A, имеющую разную глубину ступеней, равную толщине нижней пластины 43. Нижняя поверхность нижней пластины 43, установленной на ступенчатом участке 36 нижнего корпуса 31L, может находиться заподлицо с нижней поверхностью наружной периферийной рамы 35 и может входить в скользящий контакт с поверхностью, подлежащей очистке.

Нижний корпус 31L включает в себя центральное ребро 37 внутри поверхности ступенчатой поверхности 36A, включенной в ступенчатый участок 36 внутри наружной периферийной рамы 35. Центральное ребро 37 является стоячим на центральном участке в продольном направлении внутри наружной периферийной рамы 35 и проходящим через всю поверхность в поперечном направлении, пересекая левый и правый ступенчатые участки 36 наружной периферийной рамы 35. Нижняя поверхность центрального ребра 37 находится заподлицо со ступенчатой поверхностью 36A ступенчатого участка 36.

Нижний корпус 31L включает в себя множество поперечных элементов 38, которые параллельны друг другу между ступенчатыми участками 36 на передней концевой стороне и задней концевой стороне наружной периферийной рамы 35 и центральным ребром 37. Нижняя поверхность каждого поперечного элемента 38 находится заподлицо со ступенчатой поверхностью 36A ступенчатого участка 36 и нижней поверхностью центрального ребра 37. Верхняя поверхность каждого поперечного элемента 38 является криволинейной и наклонной поверхностью 38A, которая опускается от верхнего участка центрального ребра 37 к верхнему участку наружной периферийной рамы 35. Следует отметить, что, как показано на фиг. 5, поперечный элемент 38 имеет треугольное поперечное сечение, имеющее более узкую верхнюю поверхность для обеспечения падения загрязняющих частиц, подаваемых очистительным валиком 50, как будет описано ниже.

Нижний корпус 31L соединен с верхним корпусом 31U посредством соединения винтами 39, вставленными через множество местоположений на нижней поверхности центрального ребра 37, в нижние крепежные участки верхнего корпуса 31U при удержании такого положения, в котором верхний концевой вогнутый участок 37A центрального ребра 37 установлен на нижний концевой выпуклый участок 33A центрального ребра 33 верхнего корпуса 31U.

Таким образом, очистительная насадка 30 образует пылесборную емкость 40 между верхним и нижним корпусами 31U и 31L в таком положении, в котором верхний и нижний корпуса 31U и 31L соединены вместе, и нижняя пластина 43 установлена на ступенчатом участке 36 нижней поверхности нижнего корпуса 31L. На центральном участке в продольном направлении очистительной насадки 30 пылесборная емкость 40 разделена в продольном направлении центральным ребром 33 верхнего корпуса 31U и центральным ребром 37 нижнего корпуса 31L. Очистительная насадка 30 имеет переднюю и заднюю пылесборные емкости 40F и 40R. Передняя пылесборная емкость 40F включает в себя боковое отверстие 41F, открытое вперед, и задняя пылесборная емкость 40R включает в себя боковое отверстие 41R, открытое назад.

В приспособлении 10 для очистки направляющие поверхности 42 для загрязняющих частиц для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковые отверстия 41, расположены вдоль нижних концов боковых отверстий 41 (41F и 41R), включенных в пылесборные емкости 40 (40F и 40R) очистительной насадки 30. Наружные боковые поверхности наружной периферийной рамы 35 на передней и задней сторонах нижнего корпуса 31L очистительной насадки 30 образуют направляющие поверхности 42 для загрязняющих частиц в виде дугообразной поверхности, каждая из которых находится в скользящем контакте с наружной периферией очистительного валика 50 по всей длине очистительного валика 50 или которая отделена от наружной периферии очистительного валика 50 незначительным зазором. При перемещении приспособления 10 для очистки нижняя концевая кромка 42A направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц, пересекающая наружную периферийную раму 35 под острым углом, входит в плотный контакт и скользящий контакт с поверхностью, подлежащей очистке, и собирает загрязняющие частицы с поверхности, подлежащей очистке, на направляющую поверхность 42 для загрязняющих частиц. Верхняя концевая кромка 42B направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц также образует острый угол, и вокруг очистительного валика 50, вращающегося к верхней концевой кромке 42B (например, когда приспособление 10 для очистки перемещается вперед (направление F на фиг. 3), очистительный валик 50R на фиг.3 расположен сзади (направление R на фиг. 3) приспособления 10 для очистки), становится трудным, чтобы загрязняющие частицы из пылесборной емкости 40 (40R) проходили на вталкивающий валик 50 (50R) через верхнюю концевую кромку 42B (фиг. 3).

При этом нижние части пылесборных емкостей 40 (40F и 40R) уплотнены нижней пластиной 43, установленной на ступенчатом участке 36 наружной периферийной рамы 35 нижнего корпуса 31L. Как показано на фиг. 7(A) и (B), нижняя пластина 43 может быть образована из очистительного листа 44. Очистительный лист 44 включает в себя листовой очистительный элемент 44B, выполненный из нетканого материала или ему подобного и приклеенный к нижней поверхности удерживающего форму слоя 44A, выполненного из картона или ему подобного, и включает в себя слой 44C адгезива, приготовленный путем нанесения адгезива на верхнюю поверхность удерживающего форму слоя 44A. Покрытие для обеспечения снятия такого, как тефлоновое покрытие (зарегистрированная торговая марка) и ему подобное, нанесено на ступенчатую поверхность 36A и нижние поверхности центрального ребра и поперечных элементов 38, которые находятся заподлицо друг с другом внутри ступенчатого участка 36 наружной периферийной рамы 35. Слой 44C адгезива очистительного листа 44 нанесен на эти поверхности с возможностью легкого снятия. Таким образом, очистительный лист 44 расположен с возможностью съема на ступенчатом участке 36 наружной периферийной рамы 35 таким образом, что нижняя поверхность листового очистительного элемента 44B находится заподлицо с нижней поверхностью наружной периферийной рамы 35 нижнего корпуса 31L, который находится в контакте с поверхностью, подлежащей очистке, очистительной насадки 30. Во время чистки с помощью приспособления 10 для очистки листовой очистительный элемент 44B удаляет тонкодисперсную пыль, такую как грязь, с поверхности, подлежащей очистке, которая проникла через нижнюю концевую кромку 42A направляющей поверхности 42 для пыли. Кроме того, слой 44C адгезива удерживает загрязняющие частицы между очистительным валиком 50 и направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц и высыпал в пылесборную емкость 40 через боковое отверстие 41.

Приспособление 10 для очистки поддерживает с возможностью поворота на передней и задней сторонах правой и левой боковых стенок очистительной насадки 30 (верхний корпус 31U) противоположные концы переднего и заднего очистительных валиков 50 (50F и 50R) соответственно. В настоящем варианте осуществления, как показано на фиг. 6, очистительным валиком 50 является упругий валик, выполненный посредством установки губчатого валика 52 на наружной периферии трубки 51 вала, выполненной из жесткой пластмассы или металла, такой как алюминиевая трубка или ей подобное по всей ее окружности и длине, и покрытия поверхности губчатого валика 52 по всей его длине цилиндрической тонкой пленкой 53, которая, например, является устойчивой к электризации. Очистительный валик 50 закрывает боковое отверстие 41 пылесборной емкости 40 и расположен с возможностью вращения в положении, в котором он контактирует с поверхностью, подлежащей очистке. Кроме того, очистительный валик 50 установлен с возможностью вращения в положении, в котором он предпочтительно находится, в контакт с направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц. Следует отметить, что, как показано на фиг. 9, до тех пор, пока возможно направлять крупные загрязняющие частицы и им подобное с поверхности, подлежащей очистке, зацепляющиеся с очистительным валиком 50, на направляющую поверхность 42 для загрязняющих частиц посредством вращения очистительного валика 50, дополнительно зажимать загрязняющие частицы между очистительным валиком 50 и направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц для скольжения загрязняющих частиц вверх на направляющую поверхность 42 для загрязняющих частиц и затем сбрасывать загрязняющие частицы в пылесборную емкость 40 через боковое отверстие 41 под действием упругой силы отталкивания губчатого валика 52, очистительный валик 50 может быть расположен с возможностью вращения от направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц с постоянным и незначительным зазором. Величина незначительного зазора может быть соответственно установлена в зависимости от размеров собираемых загрязняющих частиц. Кроме того, очистительный валик 50 имеет колпачки 54, которые вставлены в отверстия на противоположных концах трубки 51 вала и закреплены на них. Опорные валы 55, завинченные и закрепленные на левой и правой боковых стенках верхнего корпуса 31U очистительной насадки 30, проходят через центральные отверстия колпачков 54, так что очистительный валик 50 поддерживается с возможностью поворота очистительной насадкой 30.

Как показано на фиг. 8, очистительный валик 50 выполнен посредством нанесения тонкой пленки 53, выполненной, например, из термоусадочной пленки, на губчатый валик 52 и термоусадки тонкой пленки 53 для приведения тонкой пленки 53 в плотной контакт с поверхностью губчатого валика 52 с целью покрытия губчатого валика 52 тонкой пленкой 53. Для предотвращения прилипания загрязняющих частиц торцевая поверхность губчатого валика 52 предпочтительно покрыта концом тонкой пленки 53 или покрыта запасной пленкой из того же материала, что и тонкая пленка 53. Губчатый валик 52 предпочтительно выполнен из пеноуретана. Тонкая пленка 53 предпочтительно выполнена из термопластичной полиуретановой смолы. Твердость губчатого валика 52 определяется при помощи способа измерения JIS K6400-2: 2004 (способ D) и предпочтительно составляет 10-100 Н, более предпочтительно 15-70 Н, еще более предпочтительно 15-60 Н, гораздо более предпочтительно 15-50 Н и еще более предпочтительно 15-40 Н. Когда твердость находится в пределах этих диапазонов, очистительный валик 50 не поднимается на крупные загрязняющие частицы на поверхности, подлежащей очистке, и может деформироваться в соответствии с формой крупных загрязняющих частиц, так что очистительный валик 50 также собирает другие загрязняющие частицы рядом с крупными загрязняющими частицами. Когда очистительный валик 50 поднимается на крупные загрязняющие частицы на поверхности, подлежащей очистке, образуется зазор между очистительным валиком 50 и поверхностью, подлежащей очистке, и очистительный валик 50 не может легко удалять другие загрязняющие частицы рядом с крупными загрязняющими частицами в некоторых случаях. Следует отметить, что настоящий вариант осуществления использует губчатый валик с твердостью 30 Н. Кроме того, вышеупомянутая твердость может применяться к валиковому элементу (который будет описан ниже) помимо губчатого валика. При этом тонкая пленка 53 имеет толщину предпочтительно 10-100 мкм, более предпочтительно 10-50 мкм, еще предпочтительнее 10-40 мкм и еще более предпочтительно 20-40 мкм. Когда толщина тонкой пленки 53 находится в пределах вышеупомянутого диапазона, она может деформироваться в соответствии с формой загрязняющих частиц и может деформироваться как одно целое с губчатым валиком 52. Кроме того, очистительный валик 50 не поднимается на крупные загрязняющие частицы на поверхности, подлежащей очистке, и может деформироваться в соответствии с формой крупных загрязняющих частиц, так что очистительный валик 50 может удалять другие загрязняющие частицы рядом с крупными загрязняющими частицами. Следует отметить, что настоящий вариант осуществления использует тонкую пленку с толщиной 30 мкм. Кроме того, вышеупомянутая толщина тонкой пленки может применяться к тонкопленочному материалу (который будет описан ниже), который не является термопластичной полиуретановой смолой.

Тонкая пленка 53, покрывающая поверхность очистительного валика 50, может предотвращать прилипание загрязняющих частиц и липких веществ к поверхности валика, и, таким образом, может увеличивать срок службы очистительного валика 50. Кроме того, некоторые типы тонких пленок могут уменьшать коэффициент трения поверхности валика для обеспечения скольжения в осевом направлении очистительного валика 50 и, таким образом, могут повысить удобство для эксплуатации очистительного валика 10. Кроме того, когда очистительный валик 50 является валиком, выполненным из спрессованных частиц, или валиком, выполненным из спрессованных волокон (которые будут описаны ниже), тонкая пленка 53 служит для удержания формы очистительного валика 50 в форме валика.

Следует отметить, что в дополнении к использованию вышеупомянутой термоусадочной пленки способ покрытия поверхности губчатого валика тонкой пленкой включает в себя способ, в котором пленку, являющуюся тонкой пленкой, наматывают на поверхность губчатого валика, и ее противоположные концы соединяют (соединяют с помощью адгезива, термосклеивания или им подобного), способ осуществления накидки пленки, являющейся тонкой пленкой, при формовании губчатого валика, способ нанесения жидкого средства, которое превращается в пленку на поверхности губчатого валика, способ формования материала, стойкого к электризации, в губчатый валик и образования поверхностного слоя на поверхности валика во время формования, и им подобное.

Как показано на фиг. 6 и 8, очистительный валик 50 может образовывать губчатый валик 52 при помощи множества валиковых элементов 52A и 52B разной твердости. Когда валиковые элементы 52B (например, с твердостью 50 Н) тверже основных валиковых элементов 52A (например, с твердостью 30 Н) расположены в двух положениях на противоположных концевых сторонах губчатого валика 52, нажимное усилие губчатого валика 52 на поверхность, подлежащую очистке, увеличивается, увеличивая усилие захватывания и затем силу трения при вращении очистительного валика 50 относительно поверхности, подлежащей очистке. Когда достаточное усилие захватывания может быть обеспечено только валиковым элементом 52A, валиковый элемент 52B не требуется.

Следует отметить, что в случае, когда очистительный валик 50 образован из множества валиковых элементов 52A и 52B разной твердости, тонкая пленка 53 может не потребоваться при условии, что материалы, которые будут описаны ниже, выбраны должным образом. Например, тонкая пленка 53 может не потребоваться в случае, когда валиковый элемент 52A выполнен из непористого материала с низким коэффициентом трения, а валиковый элемент 52B выполнен из непористого материала с высоким коэффициентом трения.

Приспособление 10 для очистки предпочтительно выполнено таким образом, что в свободном состоянии, когда приспособление 10 для очистки находится на поверхности, подлежащей очистке, очистительная насадка 30 сжимает под действием своего собственного веса, включая ручку 20, губчатый валик 52 очистительного валика 50 на поверхности, подлежащей очистке, заставляет нижнюю поверхность очистительной насадки 30 (нижнюю поверхность наружной периферийной рамы 35 нижнего корпуса 31U) примыкать к поверхности, подлежащей очистке. Это установлено в соответствии с зависимостью между собственным весом очистительной насадки 30, включая ручку 20, и силой отталкивания губчатого валика 52. При этом нижняя поверхность очистительной насадки 30 (нижняя поверхность наружной периферийной рамы 35) и нижняя концевая кромка 42A направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц, определенная нижней поверхностью наружной периферийной рамы 35, установлены на одной и той же горизонтальной поверхности. Следует отметить, что обработка тефлона (зарегистрированная торговая марка) или ей подобное предпочтительно применяется к нижней поверхности очистительной насадки 30 (нижней поверхности наружной периферийной рамы 35 нижнего корпуса 31L) для обеспечения скольжения по поверхности, подлежащей очистке.

Соответственно приспособление 10 для очистки осуществляет процесс очистки, как описано ниже. Следует отметить, что, когда пользователь перемещает очистительную насадку 30 вперед (направление F на фиг. 3) при помощи ручки 20, передний очистительный валик 50F осуществляет процесс очистки при нахождении в плотном контакте с поверхностью, подлежащей очистке, и качении. При перемещении очистительной насадки 30 назад (направление R на фиг. 3) задний очистительный валик 50R осуществляет процесс очистки при нахождении в плотном контакте с поверхностью, подлежащей очистке, и качении. Поскольку очистительный валик 50, направляющая поверхность 42 для загрязняющих частиц и очистительный лист 44 (очистительный элемент 44B) находятся максимально по всей ширине верхнего и нижнего корпусов 31U и 31L очистительной насадки 30, даже площадь поверхности, подлежащей очистке, рядом со стеной может быть очищена.

(a) как показано на фиг. 9, очистительный валик 50 деформирует тонкую пленку 53 и губчатый валик 52, чтобы заставить крупные загрязняющие частицы и им подобное на поверхности, подлежащей очистке, зацепляться с ним, катится по поверхности, подлежащей очистке, при продолжении выталкивания зацепляющихся крупных загрязняющих частиц и им подобных с поверхности, подлежащей очистке, и, следовательно, переносит крупные загрязняющие частицы и им подобное к стороне направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц. Крупные загрязняющие частицы и им подобное, зацепляющиеся с очистительным валиком 50, направляются к направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц, дополнительно зажимаются между очистительным валиком 50 и направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц для скольжения вверх по направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц и затем падают в пылесборную емкость 40 через боковое отверстие 41 под действием упругой силы отталкивания губчатого валика 52. Следует отметить, что для удобства иллюстрации на фиг. 9 изображено то, что постоянный незначительный зазор образован между очистительным валиком 50 и направляющей поверхность 42 для загрязняющих частиц, но очистительный валик 50 может приводиться в контакт с направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц.

(b) Очистительный валик 50 направляет волосы, комки пыли и им подобное, собранные нижней концевой кромкой 42A направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц, на направляющую поверхность 42 для загрязняющих частиц и дополнительно зажимает их с помощью направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц для их скольжения вверх по направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц и затем сбрасывает их в пылесборную емкость 40 через боковое отверстие 41 под действием упругой силы отталкивания губчатого валика 52.

(c) Поскольку поверхность губчатого валика 52 покрыта тонкой пленкой 53, устойчивой к электризации, очистительный валик 50 может захватывать крупные загрязняющие частицы, такие как грязь, в отверстия в губке для уменьшения загрязнения поверхности валика, и частота замены может быть уменьшена. Кроме того, очистительный валик 50 захватывает волосы и комки пыли без их электростатического прилипания и может сбрасывать их через боковое отверстие 41 в пылесборную емкость 40.

(d) Очистительный валик 50 закрывает боковое отверстие 41 пылесборной емкости 40. При подъеме приспособления 10 для очистки с поверхности, подлежащей очистке, или перевертывании крупные загрязняющие частицы и им подобное, собранные в пылесборной емкости, не выходят через боковое отверстие 41 и не разлетаются вокруг.

(e) Когда очистительный валик 50 вращается, катясь самостоятельно по поверхности, подлежащей очистке, и не сопровождается ведущими колесами на противоположных концевых сторонах. Следовательно, диапазон очистки очистительного валика 50 является большим относительно всей ширины приспособления 10 для очистки. Кроме того, очистительный валик 50 может иметь доступ к области рядом со стеной и почти не оставляет неочищенную зону рядом со стеной.

(f) Листовой очистительный элемент 44B расположен на нижней поверхности очистительной насадки 30 для контакта с поверхностью, подлежащей очистке. Даже когда тонкодисперсная пыль, такая как грязь, с поверхности, подлежащей очистке, проникает через зазор между нижней концевой кромкой 42A направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц и поверхностью, подлежащей очистке, очистительный элемент 44B на нижней поверхности очистительной насадки 30 удаляет тонкодисперсную пыль.

(g) Очистительная насадка 30 имеет пылесборную емкость 40, включающую в себя боковое отверстие 41, и слой 44C адгезива расположен на нижней поверхности пылесборной емкости 40. Адгезив 44C удерживает крупные загрязняющие частицы, волосы, комки пыли и им подобное, уже собранные на нижней поверхности пылесборной емкости 40. Адгезив 44C удерживает загрязняющие частицы и им подобное против инерционной силы, вызванной перемещением приспособления 10 для очистки. Например, загрязняющие частицы и им подобное предотвращены от выхода через заднее боковое отверстие 41R вследствие вращения заднего очистительного валика 50R, происходящего в направлении, противоположном направлению перемещения приспособления 10 для очистки.

(h) Очистительный лист 44 расположен с возможностью съема на нижней поверхности очистительной насадки 30 для контакта с поверхностью, подлежащей очистке, и листовой очистительный элемент 44B расположен на одной поверхности очистительного листа 44, и слой 44C адгезива расположен на другой поверхности. За счет прикрепления одного очистительного листа 44 к нижней поверхности очистительной насадки 30 могут быть обеспечены очистительный элемент 44B и адгезив 44C, описанные выше. Посредством снятия очистительного листа 44 с нижней поверхности очистительной насадки 30 загрязняющие частицы, собранные в пылесборной емкости 40, могут быть удалены при удержании на адгезиве 44C очистительного листа 44.

(i) Когда губчатый валик 52 выполнен из пеноуретана, и тонкая пленка 53 выполнена из термопластичной полиуретановой смолы, тонкая пленка 53, выполненная из термопластичной полиуретановой смолы, имеет отличное противопроникающее свойство, высокую электропроводность с высоким сопротивлением электризации и упругую растягиваемость и может полностью соответствовать деформации губчатого валика 52, вызываемой зацеплением крупных загрязняющих частиц.

(j) Когда валиковый элемент 52A губчатого валика 52 является очень мягким, обеспечен хороший захват вследствие зацепления крупных загрязняющих частиц с валиковым элементом 52A, но сила отталкивания от поверхности, подлежащей очистке, такой как деревянный пол, является небольшой, так что сила трения при вращении, необходимая для вращения очистительного валика 50, не может быть достигнута в некоторых случаях. Соответственно, установлены твердые валиковые элементы 52B, например, в двух местоположениях на противоположных концевых сторонах губчатого валика 52. Таким образом, валиковые элементы 52B создают большую силу отталкивания от поверхности, подлежащей очистке, и очистительный валик 50 может устойчиво катиться по поверхности, подлежащей очистке.

(k) Очистительная насадка 30 сжимает под действием своего собственного веса губчатый валик 52 на поверхности, подлежащей очистке, и заставляет нижнюю поверхность очистительной насадки 30 примыкать к поверхности, подлежащей очистке.

Когда пользователь, держащий в своих руках ручку 20 приспособления 10 для очистки, перемещается назад для перемещения очистительной насадки 30 назад, рабочее усилие пользователя стремится поднять очистительную насадку 30 с поверхности, подлежащей очистке. Даже в этом случае очистительная насадка 30 сжимает под действием своего собственного веса губчатый валик 52 и заставляет нижнюю поверхность очистительной насадки 30 примыкать к поверхности, подлежащей очистке, без ее перемещения. Таким образом, устойчивая очистка может осуществляться, даже когда очистительная насадка 30 перемещается назад.

Когда пользователь, держащий в руках ручку 20 приспособления 10 для очистки, поворачивает (т.е. совершает возвратно-поступательное движение кругообразно или в поперечном направлении) очистительную насадку 30 вокруг себя без рабочего усилия пользователя для прижатия очистительной насадки 30 к поверхности, подлежащей очистке, очистительная насадка 30 сжимает под действием своего собственного веса губчатый валик 52 и заставляет нижнюю поверхность очистительной насадки 30 примыкать к поверхности, подлежащей очистке, без ее перемещения. Таким образом, очистка может осуществляться устойчиво даже при повороте очистительной насадки 30.

Независимо от небольшого или большого рабочего усилия пользователя, прижимающего очистительную насадку 30 к поверхности, подлежащей очистке, губчатый валик 52 катится по поверхности, подлежащей очистке, и устойчиво захватывает загрязняющие частицы с поверхности, подлежащей очистке, при нахождении в положении, в котором обеспечена постоянная величина δ сжатия (фиг. 3) (например, 1 мм).

(l) В вышеупомянутом (k) нижняя поверхность очистительной насадки 30 и нижняя концевая кромка 42A направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц установлены на одной и той же горизонтальной поверхности. Следовательно, когда очистительная насадка 30 перемещается со своей нижней поверхностью, находящейся в скользящем контакте с поверхностью, подлежащей очистке, нижняя концевая кромка 42A направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц всегда скользит по поверхности, подлежащей очистке, и устойчиво направляет крупные загрязняющие частицы и им подобное, зацепляющиеся с очистительным валиком 50, на направляющую поверхность 42 для загрязняющих частиц или устойчиво направляет волосы, комки пыли и им подобное с поверхности, подлежащей очистке, на направляющую поверхность 42 для загрязняющих частиц.

Приспособление 10 для очистки, изображенное на фиг. 10 и 11, является модификацией приспособления 10 для очистки, изображенного на фиг. 1-9, в котором одна или множество полосок 60, каждая имеющая удлиненную форму, намотаны по спирали вокруг поверхности очистительного валика 50 и соответственно закреплены на поверхности очистительного валика 50 с помощью адгезива или ему подобного, и тонкая пленка 53 покрывает полоски 60 и поверхность очистительного валика 50. Полоска 60 может иметь прямоугольное или треугольное поперечное сечение, как показано на фиг. 12 и 13.

В приспособлении 10 для очистки предпочтительно очистительный валик 50 не примыкает к направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц, а полоска 60 примыкает к направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц. То есть незначительный зазор образован между наружными перифериями очистительного валика 50 и направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц для обеспечения плавного вращения очистительного валика 50, и поверхность полоски 60 расположена в положении для контакта с наружной периферией направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц. Таким образом, даже загрязняющие частицы, меньшие по размеру, чем вышеупомянутый незначительный зазор, могут собираться посредством расположения загрязняющих частиц между полоской 60 и направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц, и эффективность сбора загрязняющих частиц может быть повышена. На фиг. 12 изображено положение, в котором загрязняющие частицы расположены между верхней поверхностью полоски 60, имеющей прямоугольное поперечное сечение, и направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц, и передняя поверхность полоски 60 счищает загрязняющие частицы. На фиг. 13 изображено состояние, в котором передняя поверхность полоски 60, имеющей треугольное поперечное сечение, счищает загрязняющие частицы.

В приспособлении 10 для очистки механизмом размещения загрязняющих частиц между полоской 60 и направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц является механизм, в основном использующий упругую деформацию губчатого валика 52. Например, когда полоска 60 расположена только на поверхности цилиндра, выполненного из металла, механизм размещения загрязняющих частиц между полоской 60 и направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц вряд ли образован, хотя полоска 60 может распылять загрязняющие частицы.

В приспособлении 10 для очистки полоска 60, расположенная на поверхности очистительного валика 50, имеет спиралеобразную форму. Следовательно, в отличие от полоски 60 в прямой форме различные участки в продольном направлении на одной и той же полоске 60 неодновременно примыкают к направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц во время вращения очистительного валика 50, а примыкают последовательно к направляющей поверхности 42 для загрязняющих частиц, чтобы находиться в скользящем контакте с направляющей поверхностью 42 для загрязняющих частиц. Это может уменьшить сопротивление вращению очистительного валика 50 в результате такого скользящего контакта и может уменьшить рабочее усилие, так что очистительный валик 50 на поверхности, подлежащей очистке, также достигает плавного и бесшумного качения. Предпочтительно угол намотки и количество витков полоски 60, намотанной вокруг поверхности очистительного валика 50, установлены таким образом, что полоска 60 на очистительном валике 50 всегда расположена на поверхности, подлежащей очистке, во множестве местоположений в осевом направлении очистительного валика 50 для достижения плавного качения и ему подобного очистительного валика 50.

Следует отметить, что настоящий вариант осуществления был описан применительно к приспособлению 10 для очистки, в котором тонкая пленка 53 покрывает полоску 60 и поверхность очистительного валика 50. В качестве альтернативы тонкая пленка 53 может покрывать поверхность очистительного валика 50, и полоска 60 соответственно может быть закреплена на тонкой пленке 53.

Полоской 60 предпочтительно является упругий элемент, и материалы, используемые для очистительного валика 50, которые будут описаны ниже, соответственно могут быть использованы. Когда полоска 60 и очистительный валик 50 выполнены из одного и того же материала, полоска 60 и очистительный валик 50 могут быть выполнены как одно целое друг с другом путем использования способа обработки, такого как обработка резанием и обработка формованием, вместо способа, в котором полоска 60 закреплена при помощи адгезива или ему подобного на наружной периферийной поверхности очистительного валика 50.

Следует отметить, что когда материалы, которые будут описаны ниже, которые используются для полоски 60 и очистительного валика 50, соответственно выбраны, в некоторых случаях тонкая пленка 53 может не требоваться. Например, когда полоска 60 и очистительный валик 50 выполнены из непористого материала с низким коэффициентом трения, в некоторых случаях тонкая пленка 53 может не требоваться.

Материалы очистительного валика 50 и тонкой пленки 53 будут описаны ниже.

(КОНКРЕТНЫЕ ПРИМЕРЫ МАТЕРИАЛОВ, ИСПОЛЬЗУЕМЫХ ДЛЯ ОЧИСТИТЕЛЬНОГО ВАЛИКА 50) (ФИГ. 14)

Очистительный валик 50, используемый в настоящем изобретении, соответственно может использовать материал, который может использоваться для упругого валика. Конкретно, в качестве материала могут быть использованы искусственная вспененная смола, приготовленная путем вспенивания известного смолистого материала, такого как уретан, полиэтилен, полипропилен, меламин, термопластичные эластомеры и им подобное, и натуральная губка, такая как пористый материал. В качестве обработанного на машине валика, например, может использоваться валик из невспененной гомогенной резины, имеющий много полостей правильной или неправильной форм, образованных на металлорежущем станке. В качестве валика из спрессованных волокон может быть использован валик, образованный из свернутого тонкого нетканого материала, или валик, полученный путем обработки толстого нетканого материала в цилиндрическую форму, или валик, образованный из гибкой трубки, заполненной ватой или ей подобным. Кроме того, гибкая трубка может также служить в качестве тонкой пленки (описанной в формуле изобретения). В качестве валика из спрессованных частиц может использоваться гибкая трубка, заполненная упругими частицами искусственной смолы, такими как пеностирольные шарики, или заполненная упругими трубками, разрезанными на короткие части. Гибкая трубка также может служить в качестве тонкой пленки (описанной в формуле изобретения). Размер частиц составляет предпочтительно 3 мм или меньше, и более предпочтительно 1 мм или меньше.

Примеры материала непористого валика включают в себя натуральный каучук, синтетический каучук, эластомерные материалы, такие как термопластичные эластомеры и гель. В качестве валика из натурального каучука можно использовать материал, полученный путем поперечного сшивания сока, полученного из каучуковых деревьев. В качестве валика из синтетического каучука можно использовать акрилатный каучук, нитрильный каучук, изопреновый каучук, уретановый каучук, хлоропреновый каучук, силиконовый каучук и бутадиеновый каучук, а также синтетический каучук, полученный путем введения простой полиэфирной структуры, сложной полиэфирной структуры или им подобного в известный полимерный материал. В качестве валика из термопластичного эластомера можно использовать известные термопластичные эластомеры, такие как термопластичные эластомеры на основе уретана, стирола и олефина. В качестве гелиевого валика можно использовать силикагель или ему подобное.

Очистительный валик 50 может быть выполнен путем приготовления смеси из этих материалов или приготовления смеси из этих и других материалов. Примеры способа приготовления смеси включают в себя нанесение слоев и смешивания. В случае смешивания расплавленные материалы могут быть смешаны, или один из материалов может быть тонко измельчен и диспергирован в другой материал. Кроме того, в качестве других материалов является подходящим известный полимерный материал.

С точки зрения устойчивости регулирования мягкости, возможности использования, стоимости и остального очистительный валик 50 предпочтительно является губкой из синтетической смолы и более предпочтительно уретановой губкой.

(КОНКРЕТНЫЕ ПРИМЕРЫ МАТЕРИАЛОВ, ИСПОЛЬЗУЕМЫХ В ТОНКОЙ ПЛЕНКЕ 53)

В настоящем изобретении конкретные примеры материала, используемого в тонкой пленке 53, включают в себя полиолефиновые смолы, такие как полиэтилен и полипропилен, полиэфирные смолы, такие как полиэтилентерефталат и полибутилентерефталат, виниловые смолы, такие как поливинилхлорид, поливинилиденхлорид, сополимер этилена и винилацетата и сополимер этилена и винилового спирта, целлюлозные смолы, такие как целлофан и ацетат, полиамидные смолы, такие как найлон, акриловые смолы, такие как метил полиметакрилат и полиакрилонитрил, фторсмола, такая как политетрафторэтилен, и термопластичные эластомеры на основе уретана, стирола и олефина. Кроме того, конкретные примеры материала включают в себя полиацеталь, поликарбонат, полистирол, полиакрилат, полисульфон, полиэфирсульфон, полиэфирэфиркетон, полиимид, полибутадиен, полиуретан и силикон.

Эти полимерные материалы можно смешивать и использовать как смесь полимеров и сополимеров. Их можно также использовать как многослойные пленки. Они также могут быть смолой, которая сшита известным способом, например при помощи электронных лучей и ультрафиолетовых лучей.

Предпочтительно примеры материала включают в себя полиэтилен, полипропилен, полиэтилентерефталат, поливинилхлорид, поливинилиденхлорид, термопластичные эластомеры на основе уретана и стирола и найлон. Кроме того, предпочтительно примеры материала включают в себя полиэтилен, полипропилен и термопластичные эластомеры на основе уретана.

Материал, электризация которого уменьшена, является предпочтительным, поскольку электризация пленки не снижает эффективность сбора загрязняющих частиц во время использования. Конкретно, могут быть использованы известные способы, такие как использование смолы в сочетании с коммерчески доступным антистатическим средством, а также использование смолы с проводящим наполнителем на основе углерода, таким как ацетиленовая сажа и углеродная нанотрубка, или с проводящим наполнителем на основе металла, таким как серебро, медь и никель, замешенным в ней, и использование пленки, которая имеет многослойную металлическую фольгу из алюминия или ему подобного, или имеет слой осажденного металла.

Очистительный валик 50 и тонкая плена 53 могут быть выполнены из одного и того же материала (например, когда очистительным валиком 50 является губчатый валик, выполненный из пеноуретана, тонкой пленкой 53 является наружный слой губки).

В связи с вышеупомянутым вариантом осуществления настоящее изобретение дополнительно раскрывает следующие приспособления для чистки.

(1) Приспособление для очистки, имеющее, по меньшей мере, одно боковое отверстие и очистительный валик в очистительной насадке, причем

направляющая поверхность для загрязняющих частиц для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковое отверстие расположена вдоль нижнего конца бокового отверстия;

очистительный валик представляет собой упругий валик, имеющий поверхность, покрытую тонкой пленкой, и расположен с возможностью вращения в положении для закрытия бокового отверстия и для контакта с поверхностью, подлежащей очистке; и

очистительный валик, вращающийся в соответствии с перемещением очистительной насадки, удаляет загрязняющие частицы через направляющую поверхность для загрязняющих частиц в боковое отверстие при выталкивании загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке.

(2) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (1), в котором предпочтительно листовой очистительный элемент расположен на нижней поверхности очистительной насадки для контакта с поверхностью, подлежащей очистке.

(3) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (1) или (2), в котором предпочтительно очистительная насадка имеет пылесборную емкость, содержащую боковое отверстие, и слой адгезива расположен на нижней поверхности пылесборной емкости.

(4) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (3), в котором предпочтительно очистительный лист расположен с возможностью съема на нижней поверхности очистительной насадки, контактируемой с поверхностью, подлежащей очистке, и приспособление для очистки содержит листовой очистительный элемент на одной поверхности очистительного листа и слой адгезива на другой поверхности.

(5) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(4), в котором предпочтительно очистительная насадка сжимает под действием собственного веса очистительный валик на поверхности, подлежащей очистке, и заставляет нижнюю поверхность очистительной насадки примыкать к поверхности, подлежащей очистке.

(6) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(5), в котором предпочтительно нижняя поверхность очистительной насадки и нижняя концевая кромка направляющей поверхности для загрязняющих частиц установлены на одной и той же горизонтальной поверхности.

(7) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(6), в котором предпочтительно спиральная удлиненная полоска расположена на поверхности очистительного валика, и спиральная удлиненная полоска расположена на поверхности очистительного валика, причем полоска покрыта тонкой пленкой, или поверхности очистительного валика, покрытого тонкой пленкой.

(8) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (7), в котором предпочтительно очистительный валик не примыкает к направляющей поверхности для загрязняющих частиц, а полоска примыкает к направляющей поверхности для загрязняющих частиц.

(9) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(8), в котором предпочтительно очистительный валик образован из множества валиковых элементов, имеющих разную твердость.

(10) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(9), в котором предпочтительно очистительный валик является губчатым валиком.

(11) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (10), в котором предпочтительно губчатый валик выполнен из пеноуретана, и тонкая пленка выполнена из термопластичной полиуретановой смолы.

(12) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(11), в котором предпочтительно очистительная насадка образована из сочетания верхнего и нижнего корпусов, соединенных вместе, и нижний корпус включает в себя множество поперечных элементов, которые параллельны друг другу, и каждый имеет треугольное сечение.

(13) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (12), в котором предпочтительно пылесборная емкость образована между верхним и нижним корпусами.

(14) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (12) или (13), в котором предпочтительно наружная боковая поверхность нижнего корпуса образует направляющую поверхность для загрязняющих частиц.

(15) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (6), в котором предпочтительно нижняя концевая кромка направляющей поверхности для загрязняющих частиц имеет острый угол.

(16) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(15), в котором предпочтительно верхняя концевая кромка направляющей поверхности для загрязняющих частиц имеет острый угол.

(17) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(16), в котором предпочтительно очистительный валик имеет твердость 10-100 Н (измеренную при помощи способа измерения JIS K6400-2: 2004 (способ D)).

(18) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(16), в котором предпочтительно очистительный валик имеет твердость 15-70 Н (измеренную при помощи способа измерения JIS K6400-2: 2004 (способ D)).

(19) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(16), в котором предпочтительно очистительный валик имеет твердость 15-60 Н (измеренную при помощи способа измерения JIS K6400-2: 2004 (способ D)).

(20) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(16), в котором предпочтительно очистительный валик имеет твердость 15-50 Н (измеренную при помощи способа измерения JIS K6400-2: 2004 (способ D)).

(21) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(16), в котором предпочтительно очистительный валик имеет твердость 15-40 Н (измеренную при помощи способа измерения JIS K6400-2: 2004 (способ D)).

(22) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(21), в котором предпочтительно тонкая пленка имеет толщину 10-100 мкм.

(23) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(21), в котором предпочтительно тонкая пленка имеет толщину 10-50 мкм.

(24) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(21), в котором предпочтительно тонкая пленка имеет толщину 10-40 мкм.

(25) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(21), в котором предпочтительно тонкая пленка имеет толщину 20-40 мкм.

(26) Приспособление для очистки по любому из вышеупомянутых (1)-(25), в котором предпочтительно очистительный валик вращается, катясь самостоятельно по поверхности, подлежащей очистке, под действием рабочего усилия пользователя, и не сопровождается ведущим колесами на его противоположных концевых сторонах.

(27) Приспособление для очистки, имеющее, по меньшей мере, одно боковое отверстие и очистительный валик в очистительной насадке, в котором

направляющая поверхность для загрязняющих частиц для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковое отверстие расположена вдоль нижнего конца бокового отверстия;

очистительный валик является упругим валиком и расположен с возможностью вращения в положении для закрытия бокового отверстия и для контакта с поверхностью, подлежащей очистке;

очистительный валик образован из множества валиковых элементов, имеющих разную твердость; и

очистительный валик, вращающийся в соответствии с перемещением очистительной насадки, удаляет загрязняющие частицы через направляющую поверхность для загрязняющих частиц в боковое отверстие при выталкивании загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке.

(28) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (27), в котором предпочтительно твердые валиковые элементы, более твердые, чем основной валиковый элемент, расположены на противоположных концевых сторонах очистительного валика.

(29) Приспособление для очистки, имеющее, по меньшей мере, одно боковое отверстие и очистительный валик в очистительной насадке, в котором

направляющая поверхность для загрязняющих частиц для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковое отверстие расположена вдоль нижнего конца бокового отверстия;

очистительный валик является упругим валиком и расположен с возможностью вращения в положении для закрытия бокового отверстия и для контакта с поверхностью, подлежащей очистке;

спиральная удлиненная полоска расположена на поверхности очистительного валика; и

очистительный валик, вращающийся в соответствии с перемещением очистительной насадки, удаляет загрязняющие частицы через направляющую поверхность для загрязняющих частиц в боковое отверстие при выталкивании загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке.

(30) Приспособление для очистки по вышеупомянутому (29), в котором предпочтительно очистительный валик не примыкает к направляющей поверхности для загрязняющих частиц, а полоска примыкает к направляющей поверхности для загрязняющих частиц.

ПРОМЫШЛЕННАЯ ПРИМЕНИМОСТЬ

В соответствии с настоящим изобретением, поскольку используется очистительный валик 50, имеющий упругий валик, покрытый тонкой пленкой 53, загрязняющие частицы с поверхности, подлежащей очистке, можно устойчиво собирать в широком диапазоне поверхности, подлежащей очистке.

РАЗЪЯСНЕНИЯ ССЫЛОЧНЫХ ПОЗИЦИЙ

10 - приспособление для очистки

30 - очистительная насадка

40 - пылесборная емкость

41 - боковое отверстие

42 - направляющая поверхность для загрязняющих частиц

42A - нижняя концевая кромка

42B - верхняя концевая кромка

44 - очистительный лист

44B - листовой очистительный элемент

44C - слой адгезива

50 - очистительный валик (толкающий валик)

52 - губчатый валик

53 - тонкая пленка

60 - полоска

1. Приспособление для очистки, имеющее, по меньшей мере, одно боковое отверстие и очистительный валик в очистительной насадке, в котором

вдоль нижнего конца бокового отверстия расположена направляющая поверхность для загрязняющих частиц для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковое отверстие;

очистительным валиком является упругий валик, имеющий поверхность, покрытую тонкой пленкой, и расположен с возможностью вращения в положении для закрытия бокового отверстия и для контакта с поверхностью, подлежащей очистке; и

очистительный валик, вращающийся в соответствии с перемещением очистительной насадки, удаляет загрязняющие частицы через направляющую поверхность для загрязняющих частиц в боковое отверстие при выталкивании загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке.

2. Приспособление для очистки по п. 1, в котором на нижней поверхности очистительной насадки расположен листовой очистительный элемент для контакта с поверхностью, подлежащей очистке.

3. Приспособление для очистки по п. 1 или 2, в котором очистительная насадка имеет пылесборную емкость, содержащую боковое отверстие и слой адгезива, расположенный на нижней поверхности пылесборной емкости.

4. Приспособление для очистки по п. 3, в котором

очистительный лист расположен на нижней поверхности очистительной насадки, контактируемой с поверхностью, подлежащей очистке, с возможностью съема, причем приспособление для очистки содержит листовой очистительный элемент на одной поверхности очистительного листа и слой адгезива на другой поверхности очистительного листа.

5. Приспособление для очистки по п. 1 или 2, в котором очистительная насадка под действием своего веса сжимает очистительный валик на поверхности, подлежащей очистке, и заставляет нижнюю поверхность очистительной насадки примыкать к поверхности, подлежащей очистке.

6. Приспособление для очистки по п. 1 или 2, в котором нижняя поверхность очистительной насадки и нижняя концевая кромка направляющей поверхности для загрязняющих частиц установлены на одной и той же горизонтальной поверхности.

7. Приспособление для очистки по п. 1 или 2, в котором на поверхности очистительного валика выполнена спиральная удлиненная полоска, причем спиральная удлиненная полоска, образованная на поверхности очистительного валика, или поверхность очистительного валика покрыты тонкой пленкой.

8. Приспособление для очистки по п. 7, в котором очистительный валик не примыкает к направляющей поверхности для загрязняющих частиц, а полоска примыкает к направляющей поверхности для загрязняющих частиц.

9. Приспособление для очистки по п. 1 или 2, в котором очистительный валик образован из множества элементов валика, имеющих разную твердость.

10. Приспособление для очистки по п. 1 или 2, в котором очистительным валиком является губчатый валик.

11. Приспособление для очистки по п. 10, в котором губчатый валик выполнен из пеноуретана, и тонкая пленка выполнена из термопластичной полиуретановой смолы.

12. Приспособление для очистки по п. 1, которое образовано очистительным валиком, поверхность которого покрыта тонкой пленкой.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к коммунальному хозяйству, в частности к устройствам для очистки плоских поверхностей, преимущественно пола, от жевательной резины и может найти применение для очистки гранитного и мраморного полов на подземных станциях скоростного транспорта (метро).
Наверх