Оптический переменный элемент, защищенный документ, способ получения оптически переменного элемента, способ получения защищенного документа

Изобретение относится к оптически переменному элементу, в частности элементу защиты и/или элементу декора, к защищенному документу, к способу получения оптически переменного элемента, а также к способу получения защищенного документа. Заявленный оптически переменный элемент (1а) имеет по меньшей мере одну матрицу (2) пикселей, включающую два или несколько пикселей (2aa-2dd, 2e-2f), причем один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей имеют одну или несколько структур (3aa-3dd, 3e-3f), и причем одна или несколько структур одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение (6) под одним или несколькими телесными углами. Причем один, или несколько, или все телесные углы из одного или нескольких телесных углов и/или один, или несколько, или все предварительно определенные телесные углы из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов по меньшей мере в одном направлении составляют до 70°, и при этом угол раствора одного или нескольких или всех телесных углов составляет максимально 20°, так что генерируемый при этом визуальный внешний вид может регистрироваться наблюдателем и/или датчиком как высокоглянцевый или шелковисто-матовый или как частично высокоглянцевый и частично шелковисто-матовый. Кроме того, изобретение относится к защищенному документу (1d), в частности, включающему один или несколько оптически переменных элементов (1а), к способу получения оптически переменного элемента (1а), предпочтительно элементу (1b) защиты и/или элементу (1с) декора, предпочтительно для защищенного документа (1d), а также к способу получения защищенного документа (1d), предпочтительно включающему один или несколько слоев, предпочтительно включающему один или несколько оптически переменных элементов (1а). Технический результат - создание улучшенного оптически переменного элемента, обеспечивающего особенно легко запоминающийся оптически переменный эффект, а также создание улучшенного защищенного документа, включающего один или несколько улучшенных оптически переменных элементов, способа получения улучшенного оптически переменного элемента и получения защищенного документа, включающего один или несколько улучшенных оптически переменных элементов. 4 н. и 59 з.п. ф-лы, 23 ил.

 

Изобретение относится к оптически переменному элементу, в частности, элементу защиты и/или элементу декора, к защищенному документу, к способу получения оптически переменного элемента, а также к способу получения защищенного документа.

Элементы защиты применяют, чтобы повысить и тем самым улучшить защиту от подделок защищенных документов, например, таких как банкноты, паспорта, чековые карточки, визы, кредитные карты, сертификаты, и/или подобные ценные или, соответственно, идентификационные документы. Кроме того, создаваемые элементами защиты оптически переменные эффекты должны быть простым и однозначно опознаваться неспециалистами без дополнительных технических вспомогательных средств, или с помощью дополнительных технических вспомогательных средств, например, таких как камеры, чтобы неспециалист с по возможности минимальными затруднениями мог удостовериться в подлинности снабженного подобным элементом защиты защищенного документа, и смог опознать манипулятивные вмешательства в защищенный документ, и/или по возможности сразу же выявить поддельные защищенные документы.

В качестве элементов защиты часто применяют дифракционные структуры и тонкопленочные слоистые элементы. При этом дифракционные структуры, в зависимости от угла рассматривания, создают цветовые эффекты, например, такие как эффект радужного изображения. Напротив, тонкопленочные слоистые элементы отличаются только определенным эффектом смены цвета. Однако на подобные элементы защиты неспециалисты едва ли обращают внимание вследствие их широкого распространения и обусловленного этим эффекта привыкания.

Так, например, подобный элемент защиты известен из патентного документа DE 10 2004 016 596 A1.

Поэтому в основу настоящего изобретения положена задача создания улучшенного оптически переменного элемента, защищенного документа, включающего один или несколько улучшенных оптически переменных элементов, способа получения улучшенного оптически переменного элемента, а также способа получения защищенного документа, включающего один или несколько улучшенных оптически переменных элементов. В частности, улучшенный оптически переменный элемент обеспечивает особенно легко запоминающийся оптически переменный эффект.

Задача решена посредством оптически переменного элемента, в частности, элемента защиты и/или элемента декора, предпочтительно для защищенного документа, причем оптически переменный элемент имеет по меньшей мере одну матрицу пикселей, включающую два или более пикселей, причем один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей имеют одну или несколько структур, и причем одна или несколько структур из одной или нескольких структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение под одним или несколькими телесными углами.

Кроме того, задача решена посредством защищенного документа, в частности, включающего один или несколько оптически переменных элементов.

Кроме того, задача решена посредством способа получения оптически переменного элемента, предпочтительно элемента защиты и/или элемента декора, предпочтительно для защищенного документа, который характеризуется следующими стадиями:

- создания по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, включающей два или несколько виртуальных пикселей,

- соотнесения по меньшей мере одного телесного угла с одним или несколькими виртуальными пикселями из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей,

- размещения одного или нескольких виртуальных источников поля по меньшей мере в одной и/или на одной области или по меньшей мере одном сегменте по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, причем по меньшей мере одна область или по меньшей мере один сегмент по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла находится на первом расстоянии от одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей,

- расчета одного или нескольких виртуальных электромагнитных полей, исходящих из одного или нескольких источников поля на предварительно определенном расстоянии от одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости,

- расчета одного или нескольких фазовых портретов для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей из виртуального электромагнитного результирующего поля, состоящего из суперпозиции (наложении) одного или нескольких виртуальных электромагнитных полей в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости,

- расчета виртуальных структурных профилей для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей из одного или нескольких фазовых портретов,

- формирования виртуальных структурных профилей одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей в и/или на подложке в качестве по меньшей мере одной матрицы пикселей, включающей два или несколько пикселей, причем один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей имеют одну или несколько структур, для создания оптически переменного элемента.

Кроме того, задача решена посредством способа получения защищенного документа, в частности, включающего один или несколько слоев, предпочтительно включающего один или несколько оптически переменных элементов, причем один или несколько оптически переменных элементов нанесены как пленки для ламинирования и/или как пленки для тиснения на защищенный документ и/или на один или несколько слоев защищенного документа, и/или внедрены в защищенный документ и/или в один или несколько слоев из одного или нескольких слоев защищенного документа.

Такой оптически переменный элемент отличается тем, что он предпочтительно включает по меньшей мере одну матрицу пикселей, причем по меньшей мере одна матрица пикселей имеет два или более пикселей, включающие структуры, причем, в частности, падающий на каждый пикселей свет отображается, отклоняется и/или рассеивается в предварительно определенном телесном угле. При этом предпочтительно величина предварительно определенного телесного угла определяет визуально регистрируемый внешний вид по меньшей мере одной матрицы пикселей. Направление отображенного, отклоненного и/или рассеянного структурами падающего света может быть предварительно задано с высокой точностью.

Тем самым достигается то, что оптически переменный элемент создает распознаваемый (регистрируемый) наблюдателем и/или датчиком оптический эффект движения, который обеспечивает превосходную регистрируемость благодаря высокой яркости, интенсивности и сочности соответствующего внешнего вида.

Предпочтительные варианты осуществления изобретения приведены в зависимых пунктах формулы изобретения.

Возможно, что при этом одна или несколько структур среди одной или нескольких структур ахроматически отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение под одним или несколькими телесными углами. При этом структуры, в частности, выполнены так, что они не отражают падающее электромагнитное излучение под одним или несколькими телесными углами так, например, как микрозеркала или микрограни.

В частности, под «телесным углом» обычно понимают размер площади участка А сферической поверхности шара, которую предпочтительно делят на квадрат радиуса R сферы. В частности, телесный угол указывают в безразмерной единице «стерадиан». Телесный угол в целом предпочтительно соответствует поверхности единичной сферы, соответственно, сферы с радиусом, равным единице, то есть, в частности, 4π.

В частности, численные значения телесного угла, в котором структуры в пикселе отображают, отклоняют и/или рассеивают свет, предпочтительно определяют для падающего на структуры вертикально света, причем численные значения телесного угла предпочтительно указывают направление светового конуса относительно вертикальной z-оси.

Под «углом раствора», в частности, подразумевают ширину светового конуса относительно прямой линии в центре светового конуса. Направление светового конуса относительно оси, в частности, x- и, соответственно, y-оси, предпочтительно зависит в каждом случае от наблюдаемого оптического эффекта, причем x-ось и y-ось предпочтительно ориентированы перпендикулярно друг другу, в частности, в одной плоскости, которая стянута x-осью и y-осью, с ориентацией под углом 90° друг к другу.

По меньшей мере одна матрица пикселей предпочтительно сформирована как одномерная, двумерная или трехмерная, в частности, как суперпозиция одной и/или нескольких одномерных и/или двумерных матриц, или систем или матриц пикселей.

Возможно, что оптически переменный элемент и/или защищенный документ включает один или несколько слоев, причем, в частности, по меньшей мере одна матрица пикселей размещена по меньшей мере на одном слое или в одном слое из одного или нескольких слоев, и причем предпочтительно один или несколько слоев из одного или нескольких слоев выбраны из: HRI-слоя (HRI=высокий показатель преломления, слой с более высоким показателем преломления, сравнительно со средним показателем преломления около 1,5), в частности, слоя, включающего HRI и/или лаковый LRI-слой (LRI=низкий показатель преломления, слой с более низким показателем преломления, сравнительно со средним показателем преломления около 1,5), металлического слоя, интерференционного слоя, в частности, последовательностей интерференционных слоев, предпочтительно HLH (в порядке «высокий-низкий-высокий» в отношении показателей преломления данных слоев), или HLHLH («высокий-низкий-высокий-низкий-высокий» в отношении показателей преломления данных слоев), более предпочтительно трехслойной системы или многослойной системы Фабри-Перо, жидкокристаллического слоя, люминесцентного слоя, в частности, флуоресцентного слоя, красочного слоя, в частности, просвечивающего красочного слоя, металлического слоя в непосредственном контакте с просвечивающим красочным слоем, для создания эффектов плазмонного резонанса.

Кроме того, возможно, что оптически переменный элемент и/или подложка, включающие по меньшей мере одну матрицу пикселей, внедрены между двумя слоями, в частности, двумя дополнительными слоями. Один или несколько слоев из одного или нескольких дополнительных слоев предпочтительно выполнены как защитные слои, слои промотора адгезии, соответственно, повышающие сцепление слои, клеевые слои, барьерные слои, декоративные слои, отражающие покрытия, проводящие слои.

Слои могут быть размещены на несущей подложке (например, из сложного полиэфира, в частности, полиэтилентерефталата (PET)), будучи отделяемыми или неотделяемыми.

Один или несколько слоев предпочтительно представляют собой металлические слои, которые предпочтительно в каждом случае предусмотрены не на всей площади, а только частично, в оптически переменном элементе и/или защищенном документе. При этом металлические слои, в частности, выполнены непрозрачными, просвечивающими или полупрозрачными. При этом металлические слои предпочтительно включают различные металлы, которые имеют различающиеся, в частности, явственно различающиеся, предпочтительно распознаваемые наблюдателем и/или датчиком, спектры отражения и/или пропускания. Металлические слои предпочтительно включают один или несколько металлов: алюминий, медь, золото, серебро, хром, олово, и/или один или несколько сплавов этих металлов. Кроме того, предусмотренные на отдельных участках металлические слои предпочтительно выполнены растрированными и/или с локально различающимися толщинами слоев. В частности, растр может быть регулярным, или фрактальным, или нерегулярным, в частности, выполненным стохастически, и с варьирующей местами структурой.

В частности, при этом один или несколько металлических слоев из металлических слоев предпочтительно структурированы в виде рисунка в такой форме, что они включают один или несколько пикселей, в которых предусмотрен металл металлического слоя, и включают область заднего плана, в которой металл металлических слоев не предусмотрен, или наоборот. При этом пиксели предпочтительно образованы в форме буквенно-цифровых знаков, однако также мотивов, рисунков, графиков и сложных изображений объектов.

Один или несколько слоев предпочтительно включают один или несколько красочных слоев, в частности, просвечивающие краски. В отношении этих красочных слоев речь идет, в частности, о красочных слоях, которые нанесены способом печати, и которые имеют один или несколько красителей и/или пигменты, которые предпочтительно внедрены в матрицу из связующего материала. Красочные слои, в частности, краски, могут быть прозрачными, светлыми, частично рассеивающими, просвечивающими, непрозрачными и/или кроющими.

Возможно, что один или несколько из слоев, дополнительно по меньшей мере к одной матрице пикселей, имеют одну или несколько оптически активных рельефных структур, которые предпочтительно в каждом случае введены по меньшей мере в одну поверхность лакового слоя, предпочтительно реплицированного лакового слоя. В отношении подобных рельефных структур речь идет, в частности, о дифракционных рельефных структурах, например, таких как голограммы, дифракционные решетки, зоны Френеля произвольного порядка, дифракционные решетки с симметричными или несимметричными формами профиля, и/или дифракционные структуры нулевого порядка.

Кроме того, в отношении рельефных структур речь предпочтительно идет об изотропных и/или анизотропных рассеивающих матовых структурах, эшелеттах (отражательных дифракционных решетках), и/или действующих главным образом с отражением и/или пропусканием рельефных структурах, например, таких как микролинзы, микропризмы или микрозеркала.

Дополнительные оптически активные рельефные структуры, в частности, могут быть размещены либо горизонтально соседними по меньшей мере с одной матрицей пикселей, и/или вертикально выше и ниже по меньшей мере одной матрицы пикселей в дополнительных плоскостях слоев.

Под «изотропным распределением интенсивности», в частности, подразумевают распределение интенсивности, при котором мощность излучения одинакова во всех телесных углах.

Под «анизотропным распределением интенсивности», в частности, подразумевают распределение интенсивности, при котором мощность излучения по меньшей мере в одном первом телесном угле отличается от по меньшей мере одного второго телесного угла.

Возможно, что один или несколько из слоев имеют один или несколько жидкокристаллических слоев, которые предпочтительно генерируют, во-первых, зависящее от поляризации падающего света, и предпочтительно, во-вторых, селективное в отношении длины волны отражение и/или пропускание падающего света, в зависимости от ориентации жидких кристаллов.

Под «HRI-слоем», в частности, подразумевают слой с высоким показателем преломления, который, например, полностью или частично состоит из TiO₂ или ZnS, или состоит из напыленного слоя по меньшей мере одного из оксида металла, сульфида металла, диоксида титана, и/или других веществ, и/или комбинаций вышеуказанных веществ. В частности, HRI-слой имеет толщину слоя от 10 нм до 150 нм. В частности, «HRI-слой» может присутствовать на всей площади или на отдельных участках.

Одна или несколько структур из одной или нескольких структур и/или по меньшей мере одна матрица пикселей предпочтительно встроены в тонкослойную систему, в частности, в систему слоев Фабри-Перо. Тонкослойная система предпочтительно нанесена на одну или несколько структур и/или по меньшей мере на одну матрицу пикселей. В частности, подобная система слоев Фабри-Перо, в частности, по меньшей мере на отдельных участках, имеет по меньшей мере один первый полупрозрачный поглощающий слой, по меньшей мере один прозрачный разделительный слой и по меньшей мере один второй полупрозрачный поглощающий слой и/или непрозрачный отражающий слой.

Под «тонкослойной системой», в частности, понимают конструкцию из тонкослойных элементов, которая генерирует зависящий от угла зрения эффект изменения цвета, основанный на порядке размещения слоев, который имеет оптическую толщину в диапазоне половины длины волны (λ/2) или четверти длины волны (λ/4) падающего света, соответственно, одной или нескольких падающих электромагнитных волн. Конструктивную интерференцию в интерференционном слое с показателем n преломления и толщиной d предпочтительно рассчитывают по следующему уравнению:

2nd·cos(ϴ)=mλ,

причем ϴ представляет угол между направлением освещения и направлением взгляда наблюдателя, λ представляет длину волны света, соответственно, полей, и m представляет целое число. Эти слои предпочтительно включают разделительный слой, в частности, размещенный между поглощающим слоем и отражающим слоем.

Под «полупрозрачным» понимают, в частности, коэффициент пропускания в инфракрасном, видимом и/или ультрафиолетовом диапазонах длин волн, который составляет между 10% и 70%, предпочтительно между 10% и 50%, причем предпочтительно поглощается не являющаяся пренебрежимо малой часть падающих электромагнитных волн, в частности, падающего света.

Первый полупрозрачный поглощающий слой предпочтительно имеет толщину слоя между 5 нм и 50 нм. Поглощающий слой предпочтительно содержит алюминий, серебро, медь, олово, никель, сплав Инконель, титан и/или хром. Первый полупрозрачный поглощающий слой в случае алюминия и хрома предпочтительно имеет толщину слоя между 5 нм и 15 нм.

Прозрачный разделительный слой предпочтительно имеет толщину слоя между 100 нм и 800 нм, в частности, между 300 нм и 600 нм. Разделительный слой предпочтительно состоит из органического материала, в частности, из полимера, и/или из неорганического Al₂O₃, SiO₂ и/или MgF₂.

Кроме того, прозрачный разделительный слой предпочтительно состоит из пропечатанного полимерного слоя, который, в частности, нанесен способом глубокой печати, литьем через щелевую фильеру или способом струйной печати.

Под «непрозрачным», в частности, подразумевают, что никакой свет не пропускается в инфракрасном, видимом и/или ультрафиолетовом диапазоне длин волн, или же только пренебрежимо малое количество света в инфракрасном, видимом и/или ультрафиолетовом диапазоне длин волн, в частности, менее 10%, более предпочтительно менее 5%, в частности, предпочтительно менее 2%, проходит через подложку, в частности, один или несколько слоев из одного или нескольких слоев.

Возможно, что каждому пикселю из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей предназначены одна или несколько структур из одной или нескольких структур, причем соотнесенные с одним пикселем одна или несколько структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение под одним или несколькими предварительно определенными телесными углами, причем, в частности, одному или нескольким предварительно определенным телесным углам в каждом случае предназначено одно направление, предпочтительно предварительно определенное направление.

Кроме того, возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур, и/или одна или несколько соотнесенных структур из одной или нескольких соотнесенных структур, отображают, отклоняют и/или рассеивают под одним или несколькими телесными углами из одного или нескольких телесных углов и/или под одним или несколькими предварительно определенными телесными углами из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, которые, в частности, отличаются друг от друга, причем один или несколько проецируемых на находящуюся вокруг пикселя сферу, в частности, единичную сферу, соответственно, с единичным радиусом 1, телесные углы из одного или нескольких телесных углов, и/или предварительно определенные телесные углы из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, образуют одну или несколько, в частности, одинаковых или разнообразных, форм, которые предпочтительно в каждом случае выбираются из: круглой поверхности, эллиптической поверхности, треугольной поверхности, квадратной поверхности, прямоугольной поверхности, многоугольной поверхности, кольцеобразной поверхности.

Кроме того, возможно, что одна или несколько форм из одной или нескольких форм являются открытыми или замкнутыми, и/или состоящими из одной или нескольких частичных форм, причем, в частности, по меньшей мере две частичных формы соединены друг с другом или перекрываются между собой.

Также возможно, что один или несколько из регистрируемых наблюдателем телесных углов среди одного или нескольких телесных углов или предварительно определенных телесных углов из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, в которых один или несколько пикселей из одного или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение, следуют одной функции, причем функция образована так, что наблюдатель регистрирует телесный угол или предварительно определенный телесный угол как волнообразно двигающиеся полосы яркости (светлоты), предпочтительно синусообразно движущиеся яркие полосы.

Один или несколько, или все телесные углы из одного или нескольких телесных углов, и/или один или несколько, или все предварительно определенные телесные углы из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, по меньшей мере по одному направлению составляют до 70°, предпочтительно до 50°, более предпочтительно до 40°. Расширение и, соответственно, угол раствора одного или нескольких, или всех телесных углов предпочтительно составляет максимально 20°, более предпочтительно максимально 15°, в частности, предпочтительно максимально 10°.

Падающий свет, соответственно, падающее электромагнитное излучение, может так отображаться, отклоняться и/или рассеиваться в и/или на телесном угле до 70°, предпочтительно до 50°, более предпочтительно до 40°, что, в частности, создаваемая при этом визуальный внешний вид может регистрироваться наблюдателем и/или датчиком как высокоглянцевый, или шелковисто-матовый, или частично высокоглянцевый и частично шелковисто-матовый, предпочтительно по меньшей мере с проявлением 3D-эффекта и/или эффекта движения.

В частности, кажущийся шелковисто-матовым участок высокоглянцевой области с 3D-эффектом и/или эффектом движения при этом предпочтительно образован в форме мотива, рисунка, графики или сложного изображения объектов, например, в форме пиктограммы, букв, наименований, или тому подобных.

Кроме того, возможно, что предусмотрен кажущийся высокоглянцевым участок в шелковисто-матовой области. Сочетание шелковисто-матового и высокоглянцевого внешнего вида применяют, в частности, чтобы сделать элементы оформления более реалистическими и тем самым еще проще распознаваемыми для неспециалистов. Например, возможно создание высокоглянцевого 3D-эффекта горы, причем в области вершины горы предусмотрен шелковисто-матовый участок. Это предпочтительно создает иллюзию покрытой снегом вершины горы в высокоглянцевом 3D-эффекте. В частности, комбинация шелковисто-матового и высокоглянцевого внешнего вида усиливает визуально регистрируемый высокоглянцевый 3D-эффект, например, формированием теней как кажущихся шелковисто-матовыми участками в высокоглянцевой области.

Под датчиком, в частности, подразумевают по меньшей мере глаз человека и/или по меньшей мере плоскостной детектор, предпочтительно по меньшей мере CMOS-датчик (CMOS=комплементарный металлоксидный полупроводник), более предпочтительно CCD-датчик (CCD=«устройство с зарядовой связью»). В частности, датчик имеет спектральное разрешение, в частности, в видимой области электромагнитного спектра. Датчик предпочтительно выбирают или комбинируют из: камеры, в частности, по меньшей мере одной камеры, включающей по меньшей мере один CCD-чип, по меньшей мере одной IR-камеры (IR=инфракрасный), по меньшей мере одной VIS-камеры (VIS=видимый), по меньшей мере одной UV-камеры (UV=ультрафиолетовый), по меньшей мере одного фотоэлектронного умножителя, по меньшей мере одного спектрометра и/или по меньшей мере одного датчика перехода края (TES).

Возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур, и/или соотнесенные с одним пикселем из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей структуры выполнены так, что они выдают оптически переменную информацию, в частности, один или несколько 3D-эффектов и/или эффектов движения, предпочтительно создают ахроматические или монохроматические 3D-эффекты и/или эффекты движения.

Также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур, и/или соотнесенные с одним пикселем из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей структуры отображают, отклоняют и/или рассеивают электромагнитное излучение, в частности, падающее электромагнитное излучение, под одним телесном углом, в частности, под точечным телесном углом, в частности, с углом раствора, близком к 0°.

В частности, одна или несколько структур из одной или нескольких структур, и/или один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, включающей одну или несколько соотнесенных структур из одной или нескольких соотнесенных структур, соотнесены с двумя или несколькими группами структур и/или двумя или несколькими групп пикселей, в частности, причем группы из двух или нескольких групп структур и/или группы из двух или нескольких групп пикселей различаются между собой.

Кроме того, возможно, что две или более групп структур из двух или нескольких групп структур и/или две или более групп пикселей из двух или нескольких групп пикселей отображают, отклоняют и/или рассеивают электромагнитное излучение, в частности, падающее электромагнитное излучение, под одинаковыми или различными телесными углами и/или предварительно определенными телесными углами, в частности, точечными телесными углами и/или предварительно определенными телесными углами, предпочтительно телесными углами с различной формой и/или предварительно определенными телесными углами.

Две или более групп структур из двух или нескольких групп структур и/или две или более групп пикселей из двух или нескольких групп пикселей предпочтительно выдают оптически переменную информацию, включающую 3D-эффект.

Также возможно, что одна или несколько, или все структуры дифракционно отображают, отклоняют и/или рассеивают электромагнитное излучение, в частности, падающее электромагнитное излучение.

В частности, по меньшей мере одна матрица пикселей по меньшей мере по одному направлению, по меньшей мере на отдельных участках, имеет отличную от нулевой кривизну.

Под «кривизной», в частности, понимают локальное отклонение кривой от прямой линии. Под кривизной кривой, в частности, подразумевают изменение направления в расчете на сквозную длину и/или протяженность достаточно короткого участка кривой и, соответственно, протяженности кривой. Кривизна прямой линии всегда равна нулю. Участок с радиусом R везде имеет одинаковую кривизну, а именно, 1/R. У нескольких кривых кривизна изменяется от одной точки кривой до другой точки кривой. В частности, кривизна изменяется от одной точки кривой до другой точки кривой непрерывно так, что, в частности, кривые не имеют перегибов и/или мест прерывности. Кривизна кривой в точке Р тем самым определяется тем, насколько кривая в непосредственном окружении этой точки Р отклоняется от прямой линии. Степень кривизны определяется радиусом кривизны, и это соответствует показателю величины локального радиус-вектора. Радиус кривизны представляет собой радиус круга, который соприкасается точно только с точкой Р касания, и/или представляет лучшее приближение в локальном окружении точки Р касания. Например, кривая соответствует двумерной поверхности, и/или сегменту сферы или круглой поверхности, или круглой поверхности.

По меньшей мере один боковой размер одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей предпочтительно составляет между 5 мкм и 500 мкм, предпочтительно между 10 мкм и 300 мкм, более предпочтительно между 20 мкм и 150 мкм.

Возможно, что один или несколько боковых размеров одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей варьируют по одному или нескольким направлениям в пространстве по меньшей мере в одной матрице пикселей, в частности, по меньшей мере местами, периодически, непериодически, псевдослучайно и/или случайно.

В частности, под случайной вариацией подразумевают, что обусловливающее вариацию распределение, в частности, связанное с вариацией значение, представляет собой случайное распределение.

В частности, под псевдослучайной вариацией подразумевают, что обусловливающее вариацию распределение, в частности, связанное с вариацией значение, представляет собой псевдослучайное распределение.

В частности, под периодической вариацией подразумевают, что вариация, в частности, связанное с вариацией значение, предпочтительно является, в частности, регулярно повторяющейся в регулярных пространственных и/или временных интервалах.

В частности, под непериодической вариацией подразумевают, что вариация, в частности, связанное с вариацией значение, предпочтительно является, в частности, регулярно не повторяющейся в регулярных пространственных и/или временных интервалах.

Кроме того, возможно, что один или несколько боковых размеров одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, предпочтительно варьируют около среднего значения по одному или нескольким пространственным направлениям по меньшей мере одной матрицы пикселей, в частности, по меньшей мере на отдельных участках, максимально на ±70%, предпочтительно максимально на ±50%.

Один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, в частности, по меньшей мере на отдельных участках, размещены периодически, случайно и/или псевдослучайно по меньшей мере в одной матрице пикселей.

Возможно, что пиксели в матрице пикселей образуют паркетирование. При этом под паркетированием предпочтительно понимают сплошное и без нахлеста перекрывание плоскости сходными по форме или различными участками - здесь, в частности, пикселями. Участки и, соответственно, пиксели, в частности, могут иметь сложные очертания. Паркетирование благоприятным образом предпочтительно не имеет периодичности, но, в частности, является непериодическим. В одном варианте исполнения паркетирование предпочтительно представляет собой мозаику Пенроуза. В дополнительном варианте исполнения паркетирование предпочтительно сформировано из векторальных плоских, в частности, из удлиненных пикселей. При этом форма удлиненных пикселей, в частности, по меньшей мере поштучно, имеет прямые наружные кромки, но они предпочтительно могут также присутствовать как свободные формы. Подобные векторальные плоские пиксели предпочтительно имеют скругленные углы и изогнутые края, причем, кроме того, углы и края матрицы пикселей скруглены и, соответственно, изогнуты предпочтительно более чем на 50%, в частности, предпочтительно более чем на 70%. Под скругленными углами предпочтительно понимают, что углы имеют радиус кривизны по меньшей мере 2 мкм, предпочтительно по меньшей мере 5 мкм, в частности, по меньшей мере 10 мкм. В то же время радиус кривизны должен составлять, в частности, максимально 300 мкм, предпочтительно максимально 200 мкм, в частности, максимально 100 мкм.

Кроме того, один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере в одной матрице пикселей предпочтительно размещены вдоль кривых, или сегментов кривых, или по круговым траекториям, или в сегментах круговых траекторий. Очертания участков и, соответственно, пикселей предпочтительно выполнены в виде сегментов кривых или сегментов круговых траекторий, которые, в частности, обеспечивают возможность последовательного соединения друг за другом без просветов. Если пикселям предназначены предварительно определенные телесные углы, предпочтительно, пошагово изменяющиеся предпочтительно менее, чем на 10°, особенно предпочтительно менее, чем на 5°, в частности, предпочтительно менее, чем на 2°, то для наблюдателя получается тем самым предпочтительно квазинепрерывный процесс движения отдельных точек, например, движение тонких линий. В частности, комбинацией регистрируемых наблюдателем точек в рисунке, мотиве, символе, пиктограмме, изображении, буквенно-цифровых знаках, произвольных формах, квадрате, круге, прямоугольнике или многоугольнике, может быть достигнут процесс движения вдоль кривой, сегмента кривой, круговой траектории или сегмента круговой траектории.

Также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей имеют период решетки и, соответственно, среднее расстояние между выступами структуры, в частности, менее половины, предпочтительно менее трети, более предпочтительно менее четверти, максимального бокового размера двух или нескольких пикселей, предпочтительно каждого из двух или нескольких пикселей, по меньшей мере одной матрицы пикселей.

Кроме того, также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур имеют ограниченную максимальную глубину структуры, причем ограниченная максимальная глубина структуры, в частности, составляет менее 15 мкм, предпочтительно менее 10 мкм, более предпочтительно величину, меньшую или равную 7 мкм, еще более предпочтительно меньшую или равную 4 мкм, в частности, предпочтительно меньшую или равную 2 мкм.

В частности, одна или несколько структур из одной или нескольких структур сформированы таким образом, что ограниченная максимальная глубина одной или нескольких структур для более чем 50% пикселей, в частности, для более чем 70% пикселей, предпочтительно для более чем 90% пикселей, по меньшей мере одной матрицы пикселей составляет величину, меньшую или равную 15 мкм, в частности, меньшую или равную 7 мкм, предпочтительно меньшую или равную 2 мкм.

Одна или несколько структур из одной или нескольких структур предпочтительно сформированы таким образом, что ограниченная максимальная глубина одной или нескольких структур для всех пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей составляет величину, меньшую или равную 15 мкм, в частности, меньшую или равную 7 мкм, предпочтительно меньшую или равную 2 мкм.

Также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур отличаются друг от друга, или подобны друг другу, или одинаковы, или идентичны.

Кроме того, возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур выполнены как ахроматически отклоняющие структуры, предпочтительно как эшелетт, в частности, линейная эшелетт, причем, в частности, период решетки ахроматически отклоняющих структур составляет более 3 мкм, предпочтительно более 5 мкм, и/или причем, в частности, более 70% пикселей, более предпочтительно свыше 90% пикселей, в частности, предпочтительно каждый пиксель из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, включают по меньшей мере два периода решетки. Период решетки вместе с глубиной решетки и ориентацией решетки в x/y-плоскости предпочтительно определяет, в каком телесном угле имеющаяся в данном пикселе решетка, в частности, ахроматически отклоняет падающий свет. Ориентацию решетки в x/y-плоскости предпочтительно также называют азимутальным углом.

В частности, на ахроматически отклоняющие структуры в одном или нескольких пикселях из двух или нескольких пикселей по меньшей мере в одной матрице пикселей накладываются дополнительные микроструктуры и/или наноструктуры, в частности, структуры линейных решеток, предпочтительно структуры крестообразных решеток, более предпочтительно структуры субволновых решеток.

Возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур выполнены действующими как выпуклые или вогнутые микролинзы и/или участки микролинз, в частности, как микролинзы с отражательным действием и/или участки микролинз, причем, в частности, фокусное расстояние одной или нескольких структур составляет между 0,04 мм до 5 мм, в частности, от 0,06 мм до 3 мм, предпочтительно от 0,1 мм до 2 мм, и/или причем, в частности, фокусное расстояние по направлению X и/или Y определяется уравнением

,

причем предпочтительно Δ_{X, Y} представляет данный боковой размер одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей по направлению X, соответственно, по направлению Y, и ɸ_{X, Y} представляет данный телесный угол по направлению X, соответственно, по направлению Y, в котором одна или несколько структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение.

Кроме того, одна или несколько структур из одной или нескольких структур предпочтительно выполнены как цилиндрические линзы, причем, в частности, фокусное расстояние одной или нескольких структур является бесконечно большим.

Кроме того, возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур выполнены как структуры микролинз Френеля, в частности, действующие как отражательные структуры микролинз Френеля, причем, в частности, линии решетки структуры микролинз Френеля сформированы как изогнутые линии решетки, и/или линии решетки имеют переменные периоды решетки, и/или причем, в частности, каждый пиксель из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, предпочтительно по меньшей мере по одному пространственному направлению, включает по меньшей мере два периода решетки.

Для расчета профиля микроструктуры для структуры микролинз Френеля предпочтительно каждому пикселю в зависимости от соотнесенного телесного угла и бокового размера пикселя предназначают ровно один виртуальный источник поля. Виртуальный источник поля, в частности, излучает виртуальную сферическую волну. Фазовый портрет излучаемого виртуальным источником поля электромагнитного поля предпочтительно рассчитывают в поверхностях пикселей, и предпочтительно линейно преобразуют в виртуальный структурный профиль, причем, в частности, фазовое значение 0 соответствует минимальной глубине структуры, и фазовое значение 2*Pi соответствует максимальной виртуальной глубине структуры.

Также возможно, что перечисленные выше варианты для одной или нескольких, или всех структур из одной или нескольких структур имеют бинарный структурный профиль или суперпозицию из одного или нескольких бинарных структурных профилей, и/или что одна или несколько, или все структуры из одной или нескольких структур имеют бинарный структурный профиль или суперпозицию из одного или нескольких бинарных структурных профилей. Подобные бинарные структуры, соответственно, микроструктуры, имеют, в частности, базовую поверхность и один или несколько структурных элементов, которые предпочтительно в каждом случае имеют возвышенную или углубленную относительно базовой поверхности поверхность элемента, и предпочтительно находящуюся между поверхностью элемента и базовой поверхностью боковую сторону, причем, в частности, базовая поверхность микроструктуры определяет стянутую координатными осями x и y базовую плоскость, причем предпочтительно элементарные поверхности структурных элементов в каждом случае по существу параллельны базовой плоскости, и причем предпочтительно элементарные поверхности структурных элементов и базовая поверхность находятся на расстоянии друг от друга по протяженному перпендикулярно базовой плоскости направлению соответственно направлению координатной оси z, в частности, с первым интервалом h, который предпочтительно выбирают так, что, в частности, вследствие интерференции отраженного на базовой поверхности и поверхностях элементов света в отраженном свете и/или, в частности, вследствие интерференции пропущенного через поверхности элементов и базовую поверхность света в проходящем свете генерируется второй цвет в одной или нескольких первых зонах. При этом при прямом отражении или пропускании предпочтительно генерируется второй цвет, и, в частности, дополнительный ему первый цвет первого или высших порядков. Например, первый цвет может быть желтым, и второй цвет может быть синим, или первый цвет может быть зеленым, и второй цвет может быть красным.

Кроме того, возможно, что устанавливают первый интервал для получения данного желательного первого цвета. При этом первый интервал h предпочтительно составляет величину между 150 нм и 1000 нм, более предпочтительно между 200 нм и 600 нм. Для эффекта в проходящем свете первый интервал предпочтительно составляет величину между 300 нм и 4000 нм, более предпочтительно между 400 нм и 2000 нм. Устанавливаемый первый интервал при этом зависит, в частности, от показателя преломления материала, который предпочтительно находится между обеими плоскостями.

Предпочтительно для достижения по возможности единообразного цветовосприятия является благоприятным или целесообразным достаточное постоянство высоты структуры и, соответственно, первого интервала. Этот первый интервал на одном участке поверхности с единообразным цветовосприятием предпочтительно варьирует на величину менее +/-50 нм, более предпочтительно менее +/-20 нм, еще более предпочтительно +/-10 нм.

Кроме того, предпочтительно предусмотрены многочисленные размещенные ступенчато структурные элементы, причем, в частности, все структурные элементы размещены по существу параллельно базовой поверхности, и предпочтительно расстояние от одного структурного элемента до следующего в каждом случае представляет собой первый интервал или целочисленное кратное первого интервала.

Одна или несколько, или все структуры из одной или нескольких структур предпочтительно выполнены главным образом меньшими, чем микрозеркала и/или микропризмы, которые отражают свет предпочтительно ахроматически, в частности, сформированы не как микрозеркала и/или микропризмы, которые отражают свет в основном ахроматически.

Кроме того, одна или несколько, или все структуры из одной или нескольких структур предпочтительно дифракционно отображают падающий свет.

Возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур имеют выступы числом по меньшей мере 2, в частности, в количестве по меньшей мере 3 выступов, предпочтительно по меньшей мере 4 выступов, предпочтительно на один пиксель.

Кроме того, возможно, что более 70% пикселей, в частности, более 90% пикселей, из двух или нескольких пикселей по меньшей мере в одной матрице пикселей имеют одну или несколько структур из одной или нескольких структур, которые имеют выступы числом по меньшей мере 2, в частности, в количестве по меньшей мере 3 выступов, предпочтительно по меньшей мере 4 выступов, предпочтительно на один пиксель.

Также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур, в частности, в одном или нескольких пикселях из двух или нескольких пикселей по меньшей мере в одной матрице пикселей сформированы как хроматические структуры решетки, в частности, как линейные решетки, предпочтительно как линейные решетки с синусоидальным профилем, и/или с нанотекстом, и/или с зеркальными поверхностями.

Кроме того, также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур выполнены как субволновые решетки, в частности, как линейные субволновые решетки, и/или как подобные «глазу мотылька» (фасеточные) структуры, причем предпочтительно период решетки субволновых решеток, в частности, линейных субволновых решеток и/или фасеточных структур, составляет менее 450 нм, и/или причем, в частности, по меньшей мере одна подобная матрица пикселей создает регистрируемый наблюдателем оптически переменный эффект, в частности, регистрируемый наблюдателем дополнительный оптически переменный эффект, при наклоне оптически переменного элемента и/или по меньшей мере одной матрицы пикселей.

Одна или несколько структур из одной или нескольких структур предпочтительно снабжены металлическим слоем и/или поглощают падающее электромагнитное излучение, причем, в частности, два или несколько пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей могут регистрироваться наблюдателем в отражении как темно-серые до черного.

В частности, одна или несколько структур из одной или нескольких структур имеют HRI-слой, причем, в частности, два или более пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей могут регистрироваться наблюдателем в отражении как цветные.

Возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение псевдослучайным или случайным образом по всем пространственным направлениям, причем по меньшей мере одна матрица пикселей, в частности, один или несколько пикселей, могут регистрироваться наблюдателем в отражении изотропно белыми, предпочтительно изотропно ахроматическими.

Кроме того, возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур при изгибании элемента и/или по меньшей мере одной матрицы пикселей создают оптически переменный эффект, причем, в частности, в неизогнутом состоянии элемента и/или по меньшей мере одной матрицы пикселей может регистрироваться первый мотив, и второй мотив может регистрироваться в изогнутом состоянии элемента и/или по меньшей мере одной матрицы пикселей.

Например, мотивы при рассматривании, соответственно, при регистрации наблюдателем и/или датчиком, могут принимать форму одного/одного или нескольких букв, портретов, изображений пейзажей или строений, изображений, штрих-кодов, QR-кодов, буквенно-цифровых знаков, шрифтовых знаков, произвольных геометрических форм, квадратов, треугольников, кругов, изогнутых линий и/или контуров, и/или форму комбинаций одной или нескольких из вышеуказанных форм.

Под «произвольной формой», в частности, понимают открытую или замкнутую двумерную поверхность в трехмерном пространстве, которая является плоской или изогнута по меньшей мере в одном направлении. Например, поверхность или сегмент сферы или поверхность или сегмент тора представляют собой замкнутые поверхности произвольной формы. Например, поверхность седла или поверхность изогнутого круга представляют собой открытые поверхности произвольной формы.

Также возможно, что один или несколько мотивов в каждом случае составлены и/или наслоены одним или несколькими рисунками, причем рисунки предпочтительно имеют геометрию и/или форму, которые, в частности, в каждом случае выбраны или скомбинированы из: линии, прямой линии, мотива, изображения, треугольника, штрих-кода, QR-кода, волны, четырехугольника, многоугольника, изогнутой линии, круга, овала, трапеции, параллелограмма, ромба, креста, серпа, ветвистой структуры, звезды, эллипса, случайного узора, псевдослучайного узора, множества Мандельброта, в частности, фрактала или набора Мандельброта, причем узоры, в частности, наслоены и/или дополняют друг друга.

Далее приведены предпочтительные варианты исполнения защищенного документа.

Защищенный документ в одной или нескольких областях, в частности, в одной или нескольких полосовидных областях, предпочтительно в одной или нескольких нитевидных областях, предпочтительно имеет один или несколько оптически переменных элементов. При этом отдельные оптически переменные элементы могут, в частности, находиться на расстоянии друг от друга, и между оптически переменными элементами предпочтительно размещены оптически непеременные области. Альтернативно этому возможно, что оптически переменные элементы предпочтительно непосредственно примыкают друг к другу и/или переходят друг в друга, и, в частности, совместно образуют один оптически переменный комбинированный элемент.

В частности, одна или несколько областей из одной или нескольких областей в каждом случае включают один или несколько оптически переменных элементов в форме полосы и/или в форме патча.

Один или несколько оптически переменных элементов при рассматривании защищенного документа вдоль протяженного через защищенный документ вектора нормали к плоскости предпочтительно размещены по меньшей мере частично перекрывающимися.

Далее приведены предпочтительные варианты исполнения способа получения оптически переменного элемента.

Возможно, что каждый пиксель из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей соотнесен по меньшей мере с одним телесным углом.

Возможно, что каждый пиксель из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей включает одну или несколько направленно отображающих, отклоняющих и/или рассеивающих падающий свет структур, в частности, микроструктуры, причем подобные структуры отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет, предпочтительно весьма эффективно, под одним или несколькими предварительно определенными телесными углами из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, в частности, с фокусированием в одной точке в пространстве, причем такая точка, например, может представлять собой точку фокусировки.

Для каждого пикселя из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей предпочтительно сформированы один или несколько предварительно определенных телесных углов из одного или нескольких телесных углов таким образом, что входящие в состав пикселей микроструктуры отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет в этих предварительно определенных телесных углах, причем создаются предпочтительно один или несколько эффектов, в частности, один или несколько статических или переменных оптических эффектов.

Кроме того, возможно, что один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей генерируют предварительно определенный, регистрируемый наблюдателем или датчиком 3D-объект, причем предпочтительно различные группы одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, включающие одну или несколько структур из одной или нескольких структур, в частности, включающие одну или несколько различных структур, отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет под одним или несколькими, в частности, различными, предварительно определенными телесными углами из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, предпочтительно под одним или несколькими телесными углами.

Предпочтительно один или несколько предварительно определенных телесных углов из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, которые, в частности, соотнесены с одним или несколькими пикселями из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, предпочтительно коррелируют с локальным, по меньшей мере протяженным по одному пространственному направлению изгибом 3D-объекта. Виртуально регистрируемый наблюдателем 3D-объект при этом включает, в частности, многочисленные световые точки, которые предпочтительно имеют исходящий свет, который предпочтительно был отображен, отклонен и/или рассеян одной или несколькими структурами из одной или нескольких структур как падающий свет. Каждому пикселю из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей предпочтительно в каждом случае предназначена одна световая точка, и/или генерируется в каждом случае одна световая точка, причем одна или несколько световых точек из многочисленных световых точек, в частности, перекрываются друг с другом, предпочтительно не перекрываются друг с другом.

Одну или несколько, или все структуры из одной или нескольких структур предпочтительно рассчитывают с помощью одного или нескольких компьютеров, в частности, включающих по меньшей мере один процессор и по меньшей мере одно запоминающее устройство, предпочтительно включающих по меньшей мере один графический процессор и по меньшей мере одно запоминающее устройство. В частности, в отличие от известных из прототипа цифровых голограмм (CGH), в целом и, соответственно, совместно не рассчитывают общий эффект, например, виртуальный 3D-объект или ахроматический эффект движения. Согласно изобретению, предпочтительно для каждого пикселей отдельно рассчитывают данную структуру, которая ахроматически отображает, отклоняет и/или рассеивает свет в предварительно определенном направлении. В частности, каждый пиксель действует по существу независимо от других пикселей. Соответствующая изобретению согласованность оптического действия всех пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей предпочтительно создает желательный совокупный эффект по меньшей мере одной матрицы пикселей.

Для расчета элементов защиты и/или декора каждому пикселю по меньшей мере одной матрицы пикселей предназначают телесный угол, в котором микроструктура должна отображать, отклонять и/или рассеивать свет. Данный соотнесенный телесный угол предпочтительно коррелирует непосредственно с локальным изгибом по меньшей мере одной матрицы пикселей.

Возможно, что по меньшей мере один соотнесенный телесный угол и/или по меньшей мере одна область по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла стягивает по меньшей мере один сегмент, причем, в частности, по меньшей мере сегмент соответствует по меньшей мере одному сегменту сферы, предпочтительно по меньшей мере одному коническому сегменту, причем половина угла раствора по меньшей мере одного сегмента составляет менее 20°, предпочтительно менее 15°, более предпочтительно менее 10°.

Кроме того, возможно, что виртуальные источники поля, которые, в частности, размещены в и/или на одном или нескольких участках по меньшей мере одного сегмента, и/или по меньшей мере на одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, по меньшей мере по одному направлению периодически, и/или псевдослучайно, и/или случайно размещаются на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков по меньшей мере сегмента и/или по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Также возможно, что расстояния между соседними виртуальными источниками поля составляют величину между 0,01 мм и 100 мм, в частности, между 0,1 мм и 50 мм, предпочтительно между 0,25 мм и 20 мм, в и/или на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков по меньшей мере одного сегмента и/или по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, и/или что расстояния между соседними виртуальными источниками поля, в частности, составляют величину в среднем между 0,01 мм и 100 мм, в частности, между 0,1 мм и 50 мм, предпочтительно между 0,25 мм и 20 мм, в и/или на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков по меньшей мере одного сегмента и/или по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Кроме того, также возможно, что конфигурация виртуальных источников поля, в частности, виртуальных точечных источников поля, осуществлена как крестовидный растр, предпочтительно эквидистантный крестовидный растр, в и/или на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков по меньшей мере одного сегмента и/или по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, причем расстояние между соседними виртуальными источниками поля относительно друг друга составляет между 0,01 мм и 100 мм, в частности, между 0,1 мм и 50 мм, и/или причем угол между двумя смежными виртуальными источниками поля относительно друг друга, в частности, относительно положения данных одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей составляет менее 1°, предпочтительно менее 0,5°.

Кроме того, возможно, что половина угла раствора сферического сегмента и/или по меньшей мере одного сегмента сферы составляет менее 20°, в частности, менее 15°, предпочтительно менее 10°, причем один или несколько точечных источников поля из одного или нескольких размещены на сферическом сегменте и/или по меньшей мере одном сегменте сферы, предпочтительно на пространственно эквидистантном крестовидном растре, причем угол между двумя соседними точечными источниками поля, в частности, пространственно смежными точечными источниками поля, предпочтительно составляет менее 1°, более предпочтительно менее 0,5°.

Один или несколько виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля предпочтительно имеют конфигурацию в форме микросимволов, в частности, выбранных из: букв, портрета, изображения, буквенно-цифровых знаков, шрифтовых символов, произвольных геометрических форм, квадрата, треугольника, круга, изогнутой линии, контура.

Кроме того, боковые размеры микросимволов предпочтительно составляют величину между 0,1° и 10°, в частности, между 0,2° и 5°.

Первая группа одного или нескольких виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля предпочтительно с расстояния 0,3 м, в частности, от 0,15 м до 0,45 м, не может проецироваться на экран, и/или вторая группа одного или нескольких виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля может проецироваться на экран с расстояния 1,0 м, в частности, от 0,8 м до 1,2 м.

В частности, виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из одного или нескольких виртуальных источников поля, в частности, из всех виртуальных источников поля, предпочтительно имеет одинаковую интенсивность и/или одинаковое распределение интенсивности по меньшей мере в пределах соотнесенного телесного угла, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента, и/или в пределах по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Под «интенсивностью», в частности, подразумевают долю общей мощности излучения, которая излучается одним или несколькими виртуальными источниками поля в одном предварительно определенном телесном угле, причем мощность излучения, в частности, рассматривают как количество энергии, которая на протяжении предварительно определенного промежутка времени передается от электромагнитного поля, в частности, электромагнитной волной. Мощность излучения предпочтительно приводят в единице Ватт.

Возможно, что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности, от всех виртуальных источников поля, имеет различные интенсивности и/или различные распределения интенсивности в пределах одного или нескольких телесных углов, в частности, во всем телесном угле, и/или по меньшей мере в одной области, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Кроме того, возможно, что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности, от всех виртуальных источников поля, имеет распределение интенсивности в пределах по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента, и/или по меньшей мере в одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, которое проявляет гауссовское или супергауссовское распределение.

Также возможно, что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности, от всех виртуальных источников поля, имеет различные интенсивности и/или различные распределения интенсивности в пределах по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента, и/или по меньшей мере в одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Кроме того, также возможно, что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности, от всех виртуальных источников поля, имеет изотропное или анизотропное распределение интенсивности в пределах по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, и/или по меньшей мере в одной области, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

В частности, один или несколько виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля, в частности, всех виртуальных источников поля, образуют виртуальные точечные источники поля, причем виртуальные точечные источники поля предпочтительно излучают виртуальные сферические волны.

Под «сферической волной» или «виртуальной сферической волной» понимают волну, которая распространяется от источника поля, в частности, виртуального источника поля, во всем телесном угле, в частности, в телесном угле с 4π, в виде концентрических волновых фронтов, причем источник поля предпочтительно понимают как точечный источник сферической волны.

Возможно, что один или несколько виртуальных источников поля, в частности, один или несколько виртуальных точечных источников поля, в каждом случае излучают одно или несколько виртуальных полей из одного или нескольких виртуальных полей как виртуальные сферические волны, с расстояния 1 м, в частности, к одному или нескольким пикселям из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей. При этом предпочтительно создается равномерно светлая поверхность и/или поверхность с однородной интенсивностью на расстоянии 1 м до одного или нескольких пикселей, причем величина и/или форма поверхности определяется по меньшей мере одним соотнесенным телесным углом, и/или по меньшей мере одним сегментом, и/или по меньшей мере одной областью по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Кроме того, возможно, что, в частности, полученная, по меньшей мере одна матрица пикселей, и/или полученный оптически переменный элемент, при расстоянии 30 см, предпочтительно при типичном и/или нормальном расстоянии для чтения или расстоянии рассматривания человеком как наблюдателем и/или датчиком, визуально регистрируется не как изображение, а более предпочтительно как рассеянно освещенная. В частности, при расстоянии 1 м видна поверхность, в частности, равномерно светлая поверхность и/или поверхность с однородной интенсивностью.

Также могут быть отключены отдельные виртуальные точечные источники поля, причем предпочтительно отключенные точечные источники поля на расстоянии 1 м могут регистрироваться наблюдателем и/или датчиком как один или несколько мотивов, в частности, как текст, на равномерно светлой поверхности и/или на поверхности с однородной интенсивностью. В частности, отключенный источник поля и/или точечный источник поля не излучает виртуальные электромагнитные поля. В частности, наблюдатель и/или датчик не в состоянии регистрировать обусловленное отключенными точечными источниками поля отсутствие отдельных световых точек с расстояния 30 см, причем подобным благоприятным образом может быть скрыта информация по меньшей мере в одной матрице пикселей и/или оптически переменном элементе.

Кроме того, виртуальные точечные источники поля могут быть таким образом размещены по меньшей мере в одном соотнесенном телесном угле и/или по меньшей мере в одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, что предпочтительно один мотив, в частности, изображение, создается на расстоянии 1 м от одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, и/или предпочтительно может регистрироваться наблюдателем и/или датчиком.

Виртуальное электромагнитное поле U_i, исходящее из i-тых виртуальных точечных источников поля на месте (x_i, y_i, z_i), предпочтительно рассчитывают по меньшей мере на одной координате (x_h, y_h, z_h), в частности, координате (x_h, y_h, z_h=0)=(x_h, y_h), в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости, с помощью уравнения

Возможно, что виртуальное электромагнитное поле U_i включает одну или несколько длин волн, которые, в частности, находятся в видимой области спектра от 380 нм до 780 нм, предпочтительно от 430 нм до 690 нм, предпочтительно в одной или нескольких частях инфракрасной, видимой, соответственно, визуально регистрируемой, и/или ультрафиолетовой спектральной области, причем одна или несколько, в каждом случае смежных длин волн из одной или нескольких длин волн, предпочтительно в видимой области спектра, предпочтительно являются отстоящими эквидистантно друг от друга.

Кроме того, возможно, что одна или несколько длин волн, в частности, одна или несколько длин волн из одной или нескольких виртуальных электромагнитных волн, предпочтительно одна или несколько длин волн падающего света и, соответственно, падающего электромагнитного излучения, выбраны из инфракрасного, и/или видимого, и/или ультрафиолетового спектра, в частности, из электромагнитного спектра.

Под инфракрасным спектром предпочтительно подразумевают одну или несколько частей инфракрасной области электромагнитного спектра, причем инфракрасный спектр, в частности, выбирают из одного или нескольких участков диапазона длин волн от 780 нм до 1400 нм.

Под видимым спектром предпочтительно подразумевают одну или несколько частей видимой области электромагнитного спектра, причем видимый спектр, в частности, выбирают из одного или нескольких участков диапазона длин волн от 380 нм до 780 нм. В частности, видимый спектр может быть регистрируемым для невооруженного глаза человека.

Под ультрафиолетовым спектром предпочтительно подразумевают одну или несколько частей ультрафиолетовой области электромагнитного спектра, причем ультрафиолетовый спектр, в частности, выбирают из одного или нескольких участков диапазона длин волн от 250 нм до 380 нм.

Расчет одного или нескольких виртуальных структурных профилей из одного или нескольких виртуальных структурных профилей одного или нескольких, или всех, виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей возможен для одной или нескольких длин волн, в частности, для нескольких длин волн в видимой области спектра между 380 нм и 780 нм, предпочтительно между 430 нм и 690 нм, причем одна или несколько длин волн предпочтительно рассчитывают с одинаково высокой эффективностью. Зависящие от длин волны субполя Ui, в частности, оценивают по эффективности и суммируют.

Предпочтительно рассчитывают один или несколько виртуальных структурных профилей для по меньшей мере пяти распределенных в видимой области спектра длин волн, причем полученные образованные структуры отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет ахроматически и благоприятным образом без мешающих дифракционных цветовых эффектов по меньшей мере в одном предварительно определенном телесном угле.

По меньшей мере пять длин волн предпочтительно выбирают равномерно распределенными по видимой области спектра. В одном альтернативном варианте исполнения предпочтительно выбирают по меньшей мере шесть длин волн на краях кривой чувствительности человеческих фоторецепторов, и предпочтительно по две длины волны на каждом краю для каждого фоторецептора. Для синего рецептора выбирают две длины волны предпочтительно в области от 420 нм до 460 нм, и/или для зеленого рецептора выбирают две длины волны предпочтительно в области от 470 нм до 530 нм, и/или для красного рецептора выбирают две длины волны предпочтительно в области от 560 нм до 630 нм.

В частности, по меньшей мере одна длина волны содержится в волновом векторе, предпочтительно в волновом векторе k=2×π/λ.

Кроме того, возможно, что виртуальное электромагнитное поле U_i включает одну или несколько длин волн, которые, в частности, находятся в инфракрасной, видимой и/или ультрафиолетовой области спектра, причем одна или несколько, в каждом случае смежных, длины волн из одной или нескольких длин волн, предпочтительно в инфракрасной, видимой и/или ультрафиолетовой области спектра, предпочтительно являются эквидистантными относительно друг друга.

Виртуальное электромагнитное результирующее поле U_p в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей в и/или на протяженной через по меньшей мере одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости, предпочтительно рассчитывают по уравнению

причем, в частности, виртуальные электромагнитные поля U_i, исходящие из i=1,...,N_p виртуальных точечных источников поля, рассчитывают по меньшей мере на одной координате (x_p, y_p, z_p=0)=(x_p, y_p), и/или, в частности, опциональные опорные волны U_r*, предпочтительно по меньшей мере одну опциональную опорную волну U_r*, по меньшей мере одной точки, или для параметра (x_p, y_p) в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной через по меньшей мере одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости.

Возможно, что по меньшей мере одну опциональную опорную волну выбирают так, что для одного или нескольких виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля соответствующие интенсивности и фазы идеально скомпенсированы. При этом по меньшей мере одна опциональная опорная волна может моделировать, например, падающее электромагнитное излучение от лампы направленного освещения на расстоянии 1,5 м от по меньшей мере одной матрицы пикселей и/или оптически переменного элемента. В частности, фаза по меньшей мере одной опциональной опорной волны в одном или нескольких фазовых портретах из одного или нескольких фазовых портретов содержится для расчета виртуальных структурных профилей для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей.

В частности, одну или несколько фазовых портретов из одного или нескольких фазовых портретов преобразуют в виртуальный структурный профиль, предпочтительно линейно преобразуют в виртуальный структурный профиль, причем фазовое значение 0 соответствует минимальной глубине, и фазовое значение 2π соответствует максимальной глубине сформированных одной или нескольких структур из одной или нескольких структур одного или нескольких, или всех пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей.

Кроме того, одна или несколько, или все фазовые портреты из одного или нескольких фазовых портретов могут быть преобразованы в бинарный виртуальный структурный профиль, причем фазовые значения предпочтительно между 0 и π соответствуют минимальной глубине, и фазовые значения предпочтительно между π и 2π соответствуют максимальной глубине сформированных одной или нескольких структур из одной или нескольких структур одного или нескольких, или всех пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей. Кроме того, возможно предназначение фазовых значений более чем двухступенчатому, в частности, n-ступенчатому виртуальному структурному профилю.

Предпочтительно проводят преобразование фазовых портретов для каждого пикселя из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, причем, в частности, каждому пикселю из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей в каждом случае предназначают одну или несколько фазовых портретов из одного или нескольких фазовых портретов.

Также возможно, что виртуальный структурный профиль одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей формируют посредством облучения лазером и проявлением на покрытой фоторезистом пластине, или с помощью электронно-лучевой литографии, в виде одной или нескольких структур одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей. Дополнительными способами получения является, в частности, лазерная абляция, например, непосредственно в полимерной, или стеклянной, или металлической подложке, в частности, в поликарбонате (PC), или полиметилметакрилате (PMMA), или меди.

Кроме того, также возможно, что одна или несколько содержащихся и, соответственно, сформированных в одном или нескольких пикселях из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей структуры имеют оптическую глубину, в частности, оптическую глубину в воздухе или полимере, от половины средней длины волны виртуального электромагнитного поля и/или виртуального электромагнитного результирующего поля.

Под оптической глубиной, в частности, подразумевают безразмерную величину, сообразной каковой величине физическая среда и/или вещество ослабляет электромагнитные волны, соответственно, электромагнитное излучение.

Одна или несколько структур из одной или нескольких структур предпочтительно имеют оптическую глубину, соответствующую половине средней длины волны расчетных виртуальных электромагнитных полей. Поля предпочтительно рассчитывают и также создают, для целочисленного кратного значения наблюдаемой длины волны, например, рассчитывают для 5×550 нм=2750 нм, и создают для глубины 1375 нм. В частности, это обеспечивает то преимущество, что структуры проявляют меньшую дифракцию и тем самым выглядят ахроматическими.

В частности, структуры отличаются от традиционных голограмм повышенной таким образом глубиной, предпочтительно оптической глубиной, причем структуры при этом, в частности, не действуют как чисто отклоняющие и/или дифрактивные. Кроме того, структуры является маленькими и плоскими настолько, что, в частности, они не действуют как сугубо преломляющие, и при этом предпочтительно отличаются от микрозеркал. Незначительные по сравнению с микрозеркалами глубины структур предпочтительно сокращают необходимую толщину элемента защиты, и, в частности, позволяют дополнительно упростить изготовление при массовом производстве. В отношении структур речь предпочтительно идет о так называемых «многопорядковых дифракционных элементах», которые имеют свойства традиционных голограмм и стандартных микрозеркал.

Далее приведены предпочтительные варианты исполнения способа получения защищенного документа, в частности, включающего один или несколько оптически переменных элементов.

Сформированные структурные профили предпочтительно вводят или, соответственно, наносят на непрозрачную или прозрачную подложку, в частности, соответственно, на непрозрачные или прозрачные бумажные или полимерные документы, или, соответственно, на непрозрачные или прозрачные бумажные или полимерные банкноты.

В частности, структурные профили вводят способами гальванотехники, рекомбинации и репликации с рулона на рулон в один слой на пленку, в частности, по меньшей мере в один репликационный слой, и/или в металлический слой, и/или в прозрачный высокопреломляющий или низкопреломляющий слой. В случае репликационного слоя он может быть дополнительно снабжен, в частности, металлическим слоем и/или прозрачным высокопреломляющим или низкопреломляющим слоем так, что металлический слой и/или прозрачный высокопреломляющий или низкопреломляющий слой предпочтительно следует структурному профилю репликационного слоя.

Под «высокопреломляющим слоем», в частности, подразумевают слой с высоким показателем преломления, в частности, с показателем преломления свыше 1,5, предпочтительно более 1,7.

Под «низкопреломляющим слоем», в частности, подразумевают слой с низким показателем преломления, в частности, с показателем преломления менее 1,5, предпочтительно менее 1,4.

Под показателем преломления, или коэффициентом преломления, и/или оптической плотностью, предпочтительно подразумевают, в частности, безразмерную оптическую характеристику материала, которая, в частности, показывает, во сколько раз длина волны и/или фазовая скорость электромагнитной волны, соответственно, электромагнитного излучения, в материале являются меньшими, чем в вакууме. При переходе электромагнитной волны между материалами и/или веществами с различными показателями преломления электромагнитная волна преломляется и/или рассеивается, в частности, отражается.

В частности, пленка имеет HRI-слой (HRI=высокий показатель преломления=высокий коэффициент преломления; HRI-слой=высокопреломляющий слой). Подобный высокопреломляющий слой образован, в частности, из ZnS или TiO₂. Альтернативно или дополнительно, пленка имеет предпочтительно металлический слой, в частности, металлический слой, выбранный из следующих металлов: алюминия, меди, золота, серебра, хрома, олова, и/или одного или нескольких сплавов этих металлов. HRI-слой и металлический слой предпочтительно наносят после стадии репликации с рулона на рулон на и/или в один или несколько структурных профилей из одного или нескольких структурных профилей на пленке.

Возможно, что одну или несколько структур из одной или нескольких структур, и/или по меньшей мере одну матрицу пикселей, вводят или наносят по меньшей мере в одной области окна, в частности, соответственно, по меньшей мере на одной области окна ID1-карты (идентификационной карты формата ID1), или, соответственно, на прозрачную подложку, в частности, соответственно, на прозрачную полимерную банкноту, в результате чего одна или несколько структур и/или по меньшей мере одна матрица пикселей становятся регистрируемыми по меньшей мере с передней и оборотной стороны, и/или при рассматривании на просвет. По меньшей мере одна область окна имеет, в частности, сквозное отверстие в подложке и/или непрорезанную прозрачную область на подложке.

Под «прозрачным», в частности, подразумевают коэффициент пропускания света в инфракрасной, видимой и/или ультрафиолетовой области длин волн, который составляет между 70% и 100%, предпочтительно между 80% и 95%, причем поглощается пренебрежимо малая часть падающего электромагнитного излучения, в частности, падающего света.

Под «ID1-картой», в частности, подразумевают защищенный документ или карту с размерами 85,6 мм×53,99 мм, причем размеры защищенного документа или карты соответствуют формату ID1.

В частности, один или несколько оптически переменных элементов, предпочтительно в декоративных целях и/или в целях идентификации, вводят и/или наносят в и/или на упаковки всех типов.

Возможно, что один или несколько оптически переменных элементов, в частности, вводят и/или размещают, соответственно, наносят, в и/или на подложку и/или один или несколько дополнительных слоев, в частности, с точным совмещением, соответственно, с точной приводкой, относительно друг друга, и/или прочих элементов защиты, и/или дополнительнных элементов декора, и/или краев подложки, и/или в один или несколько слоев.

Под точным совмещением или приводкой, соответственно, точностью совмещения, или точностью приводки, или точностью позиционирования, в частности, понимают точность взаимного размещения двух или нескольких элементов и/или слоев относительно друг друга. При этом точность приводки предпочтительно должна колебаться в пределах предварительно определенного допуска, и при этом предпочтительно быть по возможности высокой. В то же время точность приводки многочисленных элементов и/или слоев относительно друг друга более предпочтительно является важным признаком, чтобы, в частности, повысить надежность технологического процесса. Точное по размещению позиционирование при этом, в частности, может достигаться посредством сенсорных, предпочтительно визуально детектируемых меток приводки или установочных меток. Эти метки приводки или установочные метки при этом могут либо представлять собой специальные отдельные элементы, или области, или слои, либо быть самой частью позиционируемых элементов или областей, или слоев.

Возможно, что подложку до или после введения виртуальных структурных профилей снабжают просвечивающим красочным слоем, который имеет функцию цветового фильтра. Нанесение просвечивающего красочного слоя может быть выполнено до или после введения виртуальных структурных профилей и нанесения металлического слоя и/или прозрачного высоко- или низкопреломляющего слоя. Например, просвечивающий красочный слой изменяет внешний вид по меньшей мере одной матрицы пикселей и/или оптически переменного элемента для наблюдателя и/или датчика с ахроматического белого до монохроматического внешнего вида.

Далее изобретение в порядке примера разъясняется посредством нескольких примеров осуществления с помощью сопроводительных чертежей. При этом показано:

Фиг. 1 показывает схематическое изображение защищенного документа.

Фиг. 1а показывает схематическое изображение защищенного документа.

Фиг. 2 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 3 схематически показывает поперечное сечение оптически переменного элемента в разрезе.

Фиг. 3а схематически показывает поперечное сечения оптически переменного элемента в разрезе.

Фиг. 4 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 5 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 6 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 7 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 8 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 9 показывает схематическое изображение матрицы пикселей.

Фиг. 10 показывает схематический вид пикселя.

Фиг. 11 показывает схематический вид пикселя.

Фиг. 12 показывает схематический вид пикселя.

Фиг. 12а показывает схематический вид пикселя.

Фиг. 13 показывает фотографию, а также полученные в микроскопе изображения оптически переменного элемента.

Фиг. 13b показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 13с показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 14 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 15 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 16 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 17 показывает фотографию оптически переменного элемента.

Фиг. 18 показывает полученные в микроскопе изображения матрицы пикселей.

Фиг. 19 показывает схематическое изображение оптически переменного элемента.

Фиг. 20 показывает фотографию оптически переменного элемента.

Фиг. 21 показывает полученные в микроскопе изображения матрицы пикселей.

Фиг. 22 показывает фотографию оптически переменного элемента.

Фиг. 23 показывает фотографию оптически переменного элемента.

Фиг. 1 показывает защищенный документ 1d, в частности, банкноту, включающий подложку 10, в виде сверху, которая имеет полосовидный элемент 1b’ защиты, причем для наблюдателя при рассматривании элемента 1b’ защиты в виде сверху и/или в проходящем свете регистрируемы эффекты движения, и/или визуально по направлению рассматривания виртуально выступающие вперед и/или с другого направления рассматривания отходящие назад 3D-элементы. Подобные оптические эффекты предпочтительно зависят от угла наклона и/или угла рассматривания относительно протяженной через подложку 10 плоскости.

Возможно, что защищенный документ 1d в полосовидной области 1b’ или снаружи нее имеет один или несколько дополнительных оптически переменных элементов и/или оптически непеременные элементы защиты, которые, в частности, могут частично или полностью перекрываться с элементом 1b’ защиты.

Кроме того, возможно, что в защищенном документе 1d и/или на нем одна или несколько дополнительных областей, включающие в каждом случае дополнительные один или несколько оптически переменных элементов, сформированы в форме полосы и/или в форме патча.

Также возможно, что один или несколько оптически переменных элементов при рассматривании защищенного документа 1d, в частности, наблюдателем и/или датчиком, вдоль протяженного через защищенный документ 1d вектора нормали к плоскости предпочтительно размещены по меньшей мере частично перекрывающимися.

Кроме того, полосовидный элемент 1b защиты включает два оптически переменных элемента 1а, которые, в частности, в каждом случае имеют по меньшей мере одну матрицу пикселей, включающую два или несколько пикселей. Оптически переменный элемент из двух оптически переменных элементов выполнен в форме мотива, включающего солнце, и дополнительный оптически переменный элемент из двух оптически переменных элементов образован в форме мотива, включающего множество из десяти проведенных на расстоянии друг от друга волнообразных линий, соответственно, узких полосок. Подобные мотивы, в частности, выбирают из: узора, буквы, портрета, изображения, буквенно-цифровых знаков, шрифтовых знаков, пейзажей, строений, произвольных геометрических форм, квадратов, треугольников, кругов, изогнутых линий и/или контуров.

Кроме того, полосовидный элемент 1b’ защиты включает многочисленные элементы 8 защиты, которые выполнены как последовательности чисел «45», два облачных мотива, мотив в форме самолета, и перечеркнутой двумя горизонтальными линиями последовательности букв «UT». Например, образованы последовательности чисел «45» и перечеркнутые двумя горизонтальными линиями последовательности букв «UT», и, в частности, два облачных мотива, мотив в форме самолета, а также мотив в форме парусника могут быть сформированы интенсивно окрашенными дифракционными структурами.

Кроме того, защищенный документ 1d включает элемент 8’ защиты, который имеет включающий портрет мотив. При этом возможно, что оптически переменные структуры 8’ выполнены как дифракционно высвечивающиеся при освещении поверхности, и/или что визуальное регистрация портрета 8’, который, в частности, выполнен как зона Френеля произвольного порядка, может регистрироваться наблюдателем и/или датчиком в падающем свете и/или в проходящем свете. В альтернативном варианте, в частности, элемент 8’ защиты также может быть исполнен способом глубокой или офсетной печати.

Полосовидный элемент 1b’ защиты, в дополнение к оптически переменным элементам 1а, которые в каждом случае имеют одну матрицу пикселей, предпочтительно включает по меньшей мере один продольный профиль по меньшей мере одной дополнительной оптически переменной структуры, в частности, выбранный из: дифракционной рельефной структуры, в частности, дифракционной решетки, линзы Френеля произвольного порядка, дифракционной структуры нулевого порядка, отражательной дифракционной решетки (эшелетта), структуры микрозеркал, изотропной и/или анизотропной матовой структуры, и/или структуры микролинз.

Также возможно, что одна или несколько, или все структуры дифракционно рассеивают, отклоняют и/или отображают электромагнитное излучение, в частности, падающее электромагнитное излучение.

В частности, по меньшей мере одна матрица пикселей по меньшей мере по одному направлению, по меньшей мере местами, имеет отличный от нулевого изгиб.

В частности, основа документа защищенного документа 1d включает один или несколько слоев, причем подложка 10 предпочтительно представляет собой бумажную подложку и/или подложку из синтетического материала, или гибридную подложку, состоящую из комбинации бумаги и синтетического материала.

Кроме того, возможно, что полосовидный элемент 1b’ защиты имеет один или несколько слоев, и, в частности, имеет несущую подложку (предпочтительно из сложного полиэфира, в частности, PET), которая является отделяемой или неотделяемой, и/или один или несколько слоев полимерного лака, в частности, один или несколько репликационных слоев, в которых могут быть воспроизведены продольные профили по меньшей мере одной дополнительной оптически переменной структуры.

Также возможно, что полосовидный элемент 1b’ защиты включает один или несколько защитных слоев, и/или один или несколько декоративных слоев, и/или один или несколько клеевых слоев или усиливающие сцепление слои, соответственно, слои промотора адгезии, и/или один или несколько барьерных слоев, и/или один или несколько дополнительных элементов защиты.

Один или несколько декоративных слоев из декоративных слоев предпочтительно имеют один или несколько металлических и/или HRI-слоев, которые предпочтительно в каждом случае не по всей площади, а только частично, предусмотрены в оптически переменном элементе и/или защищенном документе. В частности, металлические слои при этом выполнены непрозрачными, просвечивающими или полупрозрачными. При этом металлические слои предпочтительно включают различные металлы, которые имеют различные, в частности, явственно различающиеся, предпочтительно регистрируемые наблюдателем и/или датчиком, спектры отражения, поглощения и/или пропускания, в частности, характеристики отражения, поглощения и/или пропускания. Металлические слои предпочтительно включают один или несколько из металлов: алюминия, меди, золота, серебра, хрома, олова, и/или один или несколько сплавов этих металлов. Кроме того, предусмотренные частичные металлические слои выполнены растрированными и/или с локально различными толщинами слоев.

Под отражательной способностью, в частности, подразумевают соотношение между интенсивностью отраженной части электромагнитной волны, соответственно, электромагнитного излучения, и интенсивностью падающей части электромагнитной волны, соответственно, электромагнитного излучения, причем интенсивность, в частности, представляет собой меру энергии, переносимой электромагнитной волной, соответственно, электромагнитным излучением.

Под поглощающей способностью или коэффициентом поглощения, в частности, понимают меру убыли интенсивности электромагнитной волны, соответственно, электромагнитного излучения, при пропускании через вещество и/или через материал, причем размерность поглощающей способности и/или коэффициента поглощения выражается, в частности, как 1/единица длины, предпочтительно 1/мера длины. Например, непрозрачный слой для видимого излучения имеет больший коэффициент поглощения, чем воздух.

Под характеристикой пропускания и/или оптической толщиной предпочтительно подразумевают, в частности, безразмерную величину, которая показывает, насколько интенсивность электромагнитной волны, соответственно, электромагнитного излучения, снижается, когда она/оно проходит через вещество и/или материал.

В частности, один или несколько металлических слоев из металлических слоев при этом предпочтительно структурированы с образованием узора в такой форме, что они включают один или несколько пикселей, в которых предусмотрен металл металлического слоя, и включают область фона, в которой металл металлических слоев не предусмотрен. При этом пиксели предпочтительно образованы в форме буквенно-цифровых знаков, однако также графики и сложного изображения объектов. В частности, пиксели также могут быть образованы как растрированное полутоновое серое изображение с высоким разрешением, например, портрет, здание, пейзаж и животное. В частности, растр может быть выполнен регулярным, или фрактальным, или нерегулярным, в частности, стохастическим, и предпочтительно на отдельных участках в изображении.

Один или несколько декоративных слоев из декоративных слоев предпочтительно включают, в частности, дополнительные один или несколько красочных слоев, в частности, просвечивающие красочные слои. В отношении этих красочных слоев речь идет, в частности, о красочных слоях, которые нанесены способом печати, и которые имеют один или несколько красителей и/или пигменты, которые предпочтительно введены в матрицу из связующего материала. Красочные слои, в частности, краски, могут быть прозрачными, светлыми, частично рассеивающими, просвечивающими, непрозрачными и/или кроющими. Например, в области 1а солнца может быть предусмотрен слой желтого цвета, и в области 1а волн слой синего цвета.

Возможно, что один или несколько декоративных слоев из декоративных слоев имеют одну или несколько оптически активных рельефных структур, которые предпочтительно в каждом случае введены по меньшей мере в одну поверхность лакового слоя, предпочтительно репликационного слоя. В отношении подобных рельефных структур речь идет, в частности, о дифракционных рельефных структурах, например, таких как голограммы, дифракционные решетки, зоны Френеля произвольного порядка, дифракционные решетки с симметричными или несимметричными формами профиля, и/или дифракционные структуры нулевого порядка.

Кроме того, в отношении рельефных структур речь предпочтительно идет о изотропных и/или анизотропных рассеивающих матовых структурах, отражательных дифракционных решетках (эшелеттах), и/или действующих главным образом с отражением и/или пропусканием рельефных структурах, например, таких как микролинзы, микропризмы или микрозеркала.

Возможно, что один или несколько декоративных слоев из декоративных слоев имеют один или несколько жидкокристаллических слоев, которые предпочтительно генерируют, во-первых, зависящее от поляризации падающего света, и предпочтительно, во-вторых, селективное в отношении длины волны отражение и/или пропускание падающего света, в зависимости от ориентации жидких кристаллов.

Одна или несколько структур из одной или нескольких структур и/или по меньшей мере одна матрица пикселей предпочтительно встроены в тонкослойную систему, в частности, в систему слоев Фабри-Перо. Тонкослойная система предпочтительно нанесена на одну или несколько структур и/или по меньшей мере на одну матрицу пикселей. В частности, подобная система слоев Фабри-Перо, в частности, по меньшей мере на отдельных участках, имеет по меньшей мере один первый полупрозрачный поглощающий слой, по меньшей мере один прозрачный разделительный слой и по меньшей мере один второй полупрозрачный поглощающий слой и/или непрозрачный отражающий слой. Все эти слои тонкослойной системы, в частности, могут в каждом случае присутствовать на всей площади или частично, и прозрачные и непрозрачные, соответственно, полупрозрачные области либо перекрываются, либо не перекрываются.

В частности, первый полупрозрачный поглощающий слой предпочтительно имеет толщину слоя между 5 нм и 50 нм. Поглощающий слой предпочтительно содержит алюминий, серебро, медь, олово, никель, сплав Инконель, титан и/или хром. Первый полупрозрачный поглощающий слой в случае алюминия и хрома предпочтительно имеет толщину слоя между 5 нм и 15 нм.

Прозрачный разделительный слой предпочтительно имеет толщину слоя между 100 нм и 800 нм, в частности, между 300 нм и 600 нм. Разделительный слой предпочтительно состоит из органического материала, в частности, из полимера, и/или из неорганического Al₂O₃, SiO₂ и/или MgF₂.

Кроме того, прозрачный разделительный слой предпочтительно состоит из пропечатанного полимерного слоя, который, в частности, нанесен способом глубокой печати, литьем через щелевую фильеру или способом струйной печати.

Кроме того, например, один или несколько оптически переменных элементов 1а, и/или полосовидный элемент 1b’ защиты, и/или один или несколько слоев из вышеуказанных слоев, и/или подложка 10, могут быть скомбинированы или использованы со следующими дополнительными слоями и/или многослойными системами: одним или несколькими HRI-слоями, включающими ZnS, TiO₂, и т.д., в частности, нанесенными испарением, напылением или посредством химического осаждения из паровой фазы (CVD), на всей площади или частично; одним или несколькими лаковыми HRI- или LRI-слоями (например, для оптических эффектов в пропускании), в частности, нанесенных способами глубокой печати на всей площади или частично; одним или несколькими металлами, включающими алюминий, серебро, медь и/или хром, и/или один или несколько сплавов этих металлов, в частности, нанесенными на всей площади или частично испарением, напылением, в частности, способом катодного распыления, и/или пропечатанными чернилами, включающими наночастицы; одной или несколькими системами интерференционных слоев, включающими HLH (последовательности, состоящий из HRI-слоя, LRI-слоя, HRI-слоя), HLHLH (последовательности, состоящий из HRI-слоя, LRI-слоя, HRI-слоя, LRI-слоя, HRI-слоя); последовательностей, состоящих из одного или нескольких HRI- и LRI-слоев, причем HRI- и LRI-слои предпочтительно чередуются между собой, а также трехслойной системы Фабри-Перо, в частности, включающей один или несколько образованных способами физического осаждения из паровой фазы (PVD) и/или CVD разделительных слоев; одним или несколькими жидкокристаллическими слоями; вставкой в качестве мастер-голограммы в освещаемой объемной голограмме; суперпозиции с одним или несколькими просвечивающими красочными слоями; и/или вставкой в качестве заготовки для создания структур Aztec-кода и/или для преобразования в многоступенчатый фазовый рельеф, который создает по меньшей мере один цветовой эффект.

В частности, суперпозиция с одним или несколькими просвечивающими красочными слоями благоприятным образом создает возможность генерировать легко запоминающиеся и просто истолковываемые оптические эффекты. Кроме того, созданные суперпозицией с одним или несколькими просвечивающими красочными слоями ахроматические дифракционные эффекты по меньшей мере одной матрицы пикселей оптически переменного элемента предпочтительно проявляются монохроматически в цвете, который передается через один или несколько просвечивающих красочных слоев, соответственно, не будучи отфильтрованным одним или несколькими просвечивающими красочными слоями. В частности, один или несколько просвечивающих красочных слоев действуют как цветовой фильтр.

Два оптически переменных элемента 1а в каждом случае предпочтительно включают по меньшей мере одну матрицу пикселей, причем каждая из матриц пикселей имеет два или более пикселей, причем один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей данной матрицы (2) пикселей имеют одну или несколько структур, и причем одна или несколько структур из одной или нескольких структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение под одним или несколькими телесными углами.

Фиг. 1а разъясняет, в частности, определение телесного угла, под которым предпочтительно подразумевают площадь участка А сферической поверхности сферы Е, причем площадь участка А предпочтительно делят на квадрат радиуса R сферы. Численные значения телесного угла предпочтительно показывают угол α светового конуса относительно вертикальной z-оси. Угол Ώ раствора предпочтительно указывает ширину светового конуса относительно прямой линии в центре светового конуса, в Фигуре 1а обозначенной стрелкой. Направление светового конуса относительно x- и, соответственно, y-оси зависит, в частности, от наблюдаемого оптического эффекта.

Способ получения оптически переменного элемента защиты, в частности, оптически переменного элемента 1а защиты, отличается следующими стадиями:

создания по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, включающей два или несколько виртуальных пикселей;

соотнесения по меньшей мере одного телесного угла с одним или несколькими виртуальными пикселями из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей;

размещения одного или нескольких виртуальных источников поля по меньшей мере в одной и/или на одной области или по меньшей мере одном сегменте по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, причем по меньшей мере одна область или по меньшей мере один сегмент по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла находится на первом расстоянии от одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей;

расчета одного или нескольких виртуальных электромагнитных полей, исходящих из одного или нескольких источников поля на предварительно определенном расстоянии от одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости;

расчета одного или нескольких фазовых портретов для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей из виртуального электромагнитного результирующего поля, состоящего из суперпозиции одного или нескольких виртуальных электромагнитных полей в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости;

расчета виртуальных структурных профилей для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей из одного или нескольких фазовых портретов;

формирования виртуальных структурных профилей одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей в и/или на подложке в качестве по меньшей мере одной матрицы пикселей, включающей два или несколько пикселей, причем один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей имеют одну или несколько структур, для создания оптически переменного элемента.

Возможно, что по меньшей мере один соотнесенный телесный угол и/или по меньшей мере одна область по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла стягивает сегмент S, причем сегмент S, в частности, соответствует сегменту сферы, предпочтительно коническому сегменту, причем, например, половина угла раствора, в частности, θ/2 и/или φ/2, показанного в Фигуре 11 сегмента S является меньшей, чем 10°, предпочтительно меньшей, чем 5°, более предпочтительно меньшей, чем 1°.

Кроме того, возможно, что виртуальные источники поля, которые, в частности, находятся в и/или на одном и/или нескольких участках показанного в Фигуре 11 или 12 сегмента S, и/или на по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, размещены по меньшей мере по одному направлению периодически, и/или псевдослучайно, и/или случайно, на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков показанного в Фигуре 11 или 12 сегмента S, и/или по меньшей мере на одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Также возможно, что расстояния между соседними виртуальными источниками поля составляют величину между 0,01 мм и 100 мм, в частности, между 0,1 мм и 50 мм, предпочтительно между 0,25 мм и 20 мм, в и/или на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков показанного в Фигуре 11 или 12 сегмента S, и/или по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, и/или что расстояния между соседними виртуальными источниками поля, в частности, составляют величину в среднем между 0,01 мм и 100 мм, в частности, между 0,1 мм и 50 мм, предпочтительно между 0,25 мм и 20 мм, в и/или на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков показанного в Фигуре 11 или 12 сегмента S, и/или по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Кроме того, также возможно, что конфигурация виртуальных источников поля, в частности, виртуальных точечных источников поля, осуществлена как крестовидный растр, предпочтительно эквидистантный крестовидный растр, на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков показанного в Фигуре 11 или 12 сегмента S, и/или по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, причем расстояние между соседними виртуальными источниками поля относительно друг друга составляет между 0,01 мм и 100 мм, в частности, между 0,1 мм и 50 мм, предпочтительно между 0,25 мм и 20 мм, и/или причем угол между двумя смежными виртуальными источниками поля относительно друг друга, в частности, относительно положения данных одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей составляет менее 1°, предпочтительно менее 0,5°.

Один или несколько виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля предпочтительно имеют конфигурацию в форме микросимволов, в частности, выбранных из: букв, портрета, изображения, буквенно-цифровых знаков, шрифтовых символов, произвольных геометрических форм, квадрата, треугольника, круга, изогнутой линии, контура.

Кроме того, боковые размеры микросимволов предпочтительно составляют величину между 0,1° и 10°, в частности, между 0,2° и 5°.

Первая группа одного или нескольких виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля предпочтительно с расстояния 0,3 м, в частности, от 0,15 м до 0,45 м, не может проецироваться на экран, и/или вторая группа одного или нескольких виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля может проецироваться на экран с расстояния 1,0 м, в частности, от 0,8 м до 1,2 м.

В частности, виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из одного или нескольких виртуальных источников поля, в частности, исходит из всех виртуальных источников поля, предпочтительно имеет одинаковую интенсивность и/или одинаковое распределение интенсивности по меньшей мере в пределах соотнесенного телесного угла, и/или в пределах по меньшей мере одной области, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента, и/или в пределах сегмента S по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Кроме того, возможно, что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из одного или нескольких виртуальных источников поля, в частности, исходит из всех виртуальных источников поля, имеет распределение интенсивности по меньшей мере в пределах соотнесенного телесного угла, и/или в пределах по меньшей мере одной области, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента, и/или в пределах сегмента S по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, которое проявляет гауссовское или супергауссовское распределение.

Также возможно, что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности, от всех виртуальных источников поля, имеет различные интенсивности и/или различные распределения интенсивности в пределах по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, и/или по меньшей мере в одной области, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента, и/или в пределах сегмента S по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

Кроме того, также возможно, что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности, от всех виртуальных источников поля, имеет изотропное или анизотропное распределение интенсивности в пределах по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, и/или по меньшей мере в одной области, и/или в пределах по меньшей мере одного сегмента, и/или в пределах сегмента S по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

В частности, один или несколько виртуальных источников поля, в частности, все виртуальные источники поля, образуют виртуальные точечные источники поля, причем виртуальные точечные источники поля предпочтительно излучают виртуальные сферические волны.

Виртуальное электромагнитное поле U_i, исходящее из i-тых виртуальных точечных источников поля на месте (x_i, y_i, z_i), предпочтительно рассчитывают по меньшей мере на одной координате (x_h, y_h, z_h), в частности, координате (x_h, y_h, z_h=0)=(x_h, y_h), в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных элементов 4aa-4dd изображения по меньшей мере одной виртуальной матрицы 4 пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости, и/или, например, в показанных в Фигурах 2, 9, 10, 11, 12 или 12a пикселях 2aa-2dd, 2aa-2dd, 2ad, 2da, 2da, соответственно, 2da, посредством уравнения

Возможно, что виртуальное электромагнитное поле U_i включает одну или несколько длин волн, которые, в частности, находятся в видимой области спектра от 380 нм до 780 нм, предпочтительно от 430 нм до 690 нм, причем одна или несколько, в каждом случае смежных длин волн из одной или нескольких длин волн, предпочтительно в видимой области спектра, предпочтительно являются эквидистантными относительно друг друга.

Виртуальное электромагнитное поле U_i предпочтительно включает одну или несколько длин волн, которые в 2-40 раз, в частности, в 3-10 раз, предпочтительно в 4-8 раз, являются бóльшими, чем одна или несколько длин волн падающего электромагнитного излучения.

Кроме того, возможно, что виртуальное электромагнитное поле U_i включает одну или несколько длин волн, которые, в частности, находятся в инфракрасной, видимой и/или ультрафиолетовой области спектра, причем одна или многие, в каждом случае смежные длины волн из одной или нескольких длин волн, предпочтительно в инфракрасной, видимой и/или ультрафиолетовой спектральной области, предпочтительно находятся на эквидистантных расстояниях друг от друга.

Виртуальное электромагнитное результирующее поле U_p в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных элементов 4aa-4dd изображения по меньшей мере одной виртуальной матрицы 4 пикселей, и/или в и/или на протяженной через по меньшей мере одну виртуальную матрицу 4 пикселей поверхности, в частности, плоскости, и/или, например, в показанных в Фигурах 2, 9, 10, 11, 12 или 12a пикселях 2aa-2dd, 2aa-2dd, 2ad, 2da, 2da, соответственно, 2da, предпочтительно рассчитывают по уравнению

причем, в частности, виртуальные электромагнитные поля U_i, исходящие из i=1,...,N_p виртуальных точечных источников поля, рассчитывают по меньшей мере на одной координате (x_p, y_p, z_p=0)=(x_p, y_p), и/или, в частности, опциональные опорные волны U_r*, предпочтительно по меньшей мере одну опциональную опорную волну U_r*, по меньшей мере одной точки, или для параметра (x_p, y_p) в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных элементов 4aa-4dd изображения по меньшей мере одной виртуальной матрицы 4 пикселей, и/или в и/или на протяженной через по меньшей мере одну виртуальную матрицу 4 пикселей поверхности, в частности, плоскости.

Возможно, что одну или многие фазовые портреты из одного или нескольких фазовых портретов преобразуют в один или многие виртуальные структурные профили, предпочтительно линейно преобразуют в виртуальный структурный профиль, причем фазовое значение 0 соответствует минимальной глубине, и фазовое значение 2π соответствует максимальной глубине сформированных одной или нескольких структур одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей.

Кроме того, возможно, что виртуальный структурный профиль одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей формируют посредством облучения лазером и проявлением на покрытой фоторезистом пластине, или с помощью электронно-лучевой литографии, в виде одной или нескольких структур одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей.

Также возможно, что один или многие из одного или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, включающие, соответственно, сформированные структуры, имеют оптическую глубину, в частности, оптическую глубину в воздухе, половины средней длины волны виртуального электромагнитного поля и/или виртуального электромагнитного результирующего поля.

Кроме того, способ получения защищенного документа, в частности, защищенного документа 1d, предпочтительно включающего один или несколько слоев, более предпочтительно включающего один или несколько оптически переменных элементов, в частности, предпочтительно оптически переменные элементы 1а, предпочтительно отличается следующими стадиями:

нанесения и/или введения одного или нескольких оптически переменных элементов в виде пленки для ламинирования и/или как пленки для тиснения на защищенный документ и/или на один или несколько слоев защищенного документа, и/или внедрения в защищенный документ и/или в один или несколько слоев из одного или нескольких слоев защищенного документа.

Фигура 2 показывает в виде сверху матрицу пикселей, включающую шестнадцать элементов 2aa-2dd изображения, причем элементы 2aa-2dd изображения размещены как 4×4-матрица, которая имеет четыре строки и четыре колонки. Первая строка включает вдоль направления x элементы 2aa, 2ab, 2ac, 2ad изображения, вторая строка включает вдоль направления x элементы 2ba, 2bb, 2bc, 2bd изображения, третья строка включает вдоль направления x элементы 2ca, 2cb, 2cc, 2cd изображения, и четвертая строка включает вдоль направления x элементы 2da, 2db, 2dc, 2dd изображения. Первая колонка включает вдоль направления y элементы 2da, 2ca, 2ba, 2aa изображения, вторая колонка включает вдоль направления y элементы 2db, 2cb, 2bb, 2ab изображения, третья колонка включает вдоль направления y элементы 2dc, 2cc, 2bc, 2ac изображения, и четвертая колонка включает вдоль направления y элементы 2dd, 2cd, 2bd, 2ad изображения.

Показанные в Фигуре 2 элементы 2aa-2dd изображения имеют одинаковые боковые размеры ΔX вдоль направления x и одинаковые боковые размеры ΔY вдоль направления y, причем они в протяженной через направления x и y плоскости образуют в каждом случае квадратные формы.

Также возможно, что один или многие, или все пиксели из двух или нескольких элементов 2aa-2dd изображения образуют одинаковые или различающиеся между собой формы, в частности, в определяемой матрицей 4 пикселей плоскости, и/или в определяемой направлениями x и y плоскости, которые предпочтительно в каждом случае выбраны из: круглой поверхности, яйцевидной поверхности, эллиптической поверхности, треугольной поверхности, квадратной поверхности, прямоугольной поверхности, многоугольной поверхности, кольцеобразной поверхности, поверхности с произвольной формой, причем два или несколько пикселей в случае выбора формы пикселей как круглой поверхности и/или яйцевидной поверхности, в частности, в каждом случае имеют одну или многие смежные фоновые поверхности, которые предпочтительно также примыкают или не примыкают к соседним пикселям. Форма пикселей, в частности, варьирует как многоугольная, случайная или псевдослучайная. Кроме того, по меньшей мере одна матрица пикселей, в частности, матрица 2 пикселей, предпочтительно включает два или несколько пикселей, которые предпочтительно включают различные формы из вышеуказанных форм, и/или предпочтительно имеют различные вариации форм из вышеуказанных вариаций форм.

Кроме того, также возможно, что один или многие, или все пиксели из двух или нескольких элементов 2aa-2dd изображения в различных направлениях, в частности, в различных направлениях x и y, в частности, в определяемой матрицей 2 пикселей плоскости, и/или в определяемой направлениями x и y плоскости, имеют различные боковые размеры.

Также возможно, что один или многие, или все пиксели из двух или нескольких элементов 2aa-2dd изображения, в частности, в определяемой матрицей 2 пикселей плоскости, и/или в определяемой направлениями x и y плоскости, занимают различные площади и/или перекрываются друг с другом и/или не перекрываются друг с другом.

Кроме того, возможно, что размещение элементов 2aa-2dd изображения в матрице 2 пикселей следует периодической функции. Например, средние точки пикселей в одной строке или колонке матрицы пикселей размещены таким образом, что средние точки пикселей в каждом случае соседних пикселей вдоль протяженного через колонку или строку определенного направления предпочтительно отстоят друг от друга на равное расстояние. Показанные в Фигуре 2 элементы 2aa-2dd изображения имеют вдоль направлений x или y в каждом случае одинаковые расстояния между собой, причем это, в частности, относится к соседним пикселям из элементов 2aa-2dd изображения. Кроме того, один или многие, или все пиксели из элементов 2aa-2dd изображения предпочтительно размещены непериодически или, в частности, случайно и/или псевдослучайно, в матрице 2 пикселей, и/или вдоль одного или нескольких направлений, и/или в протяженной через направления x и y, соответственно, определяемой ими, плоскости.

Под средней точкой пикселей или геометрическим центром тяжести пикселей, в частности, при плоских пикселях, подразумевают центр тяжести поверхности, который, в частности, определяется при усреднении всех точек данного соответственного пикселя.

Непериодическое размещение пикселей обеспечивает то преимущество, что могут быть сокращены или подавлены, в частности, полностью подавлены мешающие дифракционные эффекты, которые обусловливаются величиной, соответственно, формами и/или боковыми размерами пикселей.

Боковые размеры одного или нескольких пикселей из элементов 2aa-2dd изображения вдоль по меньшей мере одного направления, в частности, вдоль направления x и/или вдоль направления y, предпочтительно составляют между 5 мкм и 500 мкм, в частности, между 10 мкм и 300 мкм, в частности, между 20 мкм и 150 мкм.

Подобным боковым размерам свойственно то преимущество, что пиксели при этих порядках величины боковых размеров для глаза человеческого наблюдателя, в частности, на обычном или нормальном расстоянии считывания 300 мм, оптически неразличимы или едва различимы. В то же время, в частности, пиксели достаточно велики, чтобы предусмотренные микроструктуры могли выглядеть ахроматическими.

Возможно, что размеры пикселей и/или один или несколько боковых размеров одного или нескольких пикселей из элементов 2aa-2dd изображения по меньшей мере в одной матрице 2 пикселей варьируют по одному или нескольким направлениям, в частности, по одному или обоим направлениям из направлений x и y, предпочтительно на отдельных участках, непериодически, периодически, псевдослучайно или случайно, или не варьируют. Размеры пикселей предпочтительно варьируют по меньшей мере в одной матрице пикселей по меньшей мере по одному пространственному направлению максимально на ±70% около среднего значения, предпочтительно максимально на ±50%. Один или несколько боковых размеров одного или нескольких пикселей из двух или нескольких элементов 2aa-2dd изображения по меньшей мере в одной матрице 2 пикселей предпочтительно варьируют по одному или нескольким пространственным направлениям, в частности, по одному или обоим направлениям из направлений x и y, по меньшей мере в одной матрице 2 пикселей, по меньшей мере на отдельных участках, максимально на ±70%, предпочтительно максимально на ±50%, около среднего значения, причем среднее значение по одному или нескольким направлениям составляет, в частности, между 5 мкм и 500 мкм, в частности, между 10 мкм и 300 мкм, в частности, между 20 и 150 мкм.

Кроме того, возможно, что один или несколько пикселей из элементов 2aa-2dd изображения по меньшей мере в одной матрице 2 пикселей, в частности, по меньшей мере на отдельных участках, размещены периодически, непериодически, фрактально, случайно и/или псевдослучайно, по меньшей мере в одной матрице 2 пикселей.

Фигура 3 показывает изображенную в Фигуре 2 матрицу 2 пикселей, включающую элементы 2ca, 2cb, 2cc, 2cd изображения, вдоль сечения Q в поперечном сечении. Пиксель 2ca включает структуру 3ca, пиксель 2cb включает структуру 3cb, пиксель 2cc включает структуру 3cc, и пиксель 2cd включает структуру 3cd. Структуры 3ca, 3cb, 3cc и 3cd образованы на подложке 10, нанесены на нее и/или сформированы на ней, причем подложка, в частности, имеет один или несколько слоев.

Фигура 3а показывает дополнительный вариант исполнения показанной в Фигуре 2 матрицы 2 пикселей, включающей элементы 2ca, 2cb, 2cc, 2cd изображения, вдоль сечения Q в поперечном сечении. Пиксель 2ca включает структуру 3ca, пиксель 2cb включает структуру 3cb, пиксель 2cc включает структуру 3cc, и пиксель 2cd включает структуру 3cd. Структуры 3ca, 3cb, 3cc и 3cd образованы на подложке 10, нанесены на нее и/или сформированы на ней, причем подложка, в частности, имеет один или несколько слоев. В отличие от Фигуры 3, структуры 3ca, 3cb, 3cc и 3cd в этом варианте исполнения, в частности, представляют собой бинарные структуры с первым интервалом, соответственно, единообразной высотой h структур.

При этом показанные в Фигуре 3а бинарные структуры 3ca, 3cb, 3cc и 3cd, соответственно, бинарные микроструктуры, предпочтительно включающие один или несколько структурных элементов, в частности, имеют базовую поверхность GF и многочисленные структурные элементы, которые предпочтительно в каждом случае имеют приподнятую относительно базовой поверхности GF поверхность EF элементов и предпочтительно находящуюся между поверхностью EF элементов и базовой поверхностью GF боковую сторону, причем, в частности, базовая поверхность GF структур 3ca, 3cb, 3cc и 3cd определяет протяженную через координатные оси x или y базовую плоскость, причем предпочтительно поверхности EF элементов на структурных элементах в каждом случае пролегают по существу параллельно базовой поверхности GF, и причем предпочтительно поверхности EF элементов на структурных элементах и базовая поверхность GF находятся на определенном расстоянии друг от друга по перпендикулярному относительно базовой плоскости в направлении координатной оси z направлению, в частности, на первом расстоянии h, которое предпочтительно выбрано так, что, в частности, в результате интерференции отраженного на базовой поверхности GF и поверхностях EF элементов в отраженном свете, и/или, в частности, в результате интерференции прошедшего через поверхности EF элементов и базовую поверхности GF света в проходящем свете, генерируется второй цвет в одной или нескольких первых зонах. При этом предпочтительно при прямом отражении или пропускании генерируется второй цвет, и, в частности, дополнительный ему первый цвет первого или высших порядков. Например, первый цвет может быть фиолетовым, и второй цвет может быть оранжевым, или же первый цвет может быть синим, и второй цвет может быть желтым.

Возможно, что оптически переменный элемент 1а включает один или несколько слоев, причем, в частности, по меньшей мере одна матрица 2 пикселей размещена на или в по меньшей мере одном слое из одного или нескольких слоев, и причем предпочтительно один или несколько слоев из одного или нескольких слоев выбраны из: HRI-слоя, в частности, слоя, включающего лаковый HRI- и/или LRI-слой, металлического слоя, интерференционного слоя, в частности, последовательностей интерференционных слоев, предпочтительно HLH или HLHLH, более предпочтительно трехслойной системы или многослойной системы Фабри-Перо, жидкокристаллического слоя, красочного слоя, в частности, просвечивающего красочного слоя.

Каждая из структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd предпочтительно имеет ограниченную максимальную глубину Δz структуры, в частности, максимальную глубину структуры, которая, в частности, в Фигуре 3 одинакова для всех структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd в соответствующих элементах 2ca, 2cb, 2cc, 2cd изображения.

Кроме того, одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd предпочтительно имеют ограниченную максимальную глубину Δz структуры, причем, в частности, максимальная глубина Δz структуры, составляет величину менее 35 мкм, предпочтительно менее 20 мкм, более предпочтительно меньшую или равную 15 мкм, еще более предпочтительно меньшую или равную 7 мкм, в частности, предпочтительно меньшую или равную 2 мкм.

При этом, в частности, достигается то преимущество, что толщина, соответственно, общая толщина оптически переменного элемента 1а, содержащегося по меньшей мере в одной матрице 2 пикселей, поддерживается совместимой для применения в защищенных документах 1d, в частности, на банкнотах, идентификационных картах или паспортах.

В частности, общая толщина оптически переменных элементов 1а на пленочной основе, предпочтительно элементов защиты и/или элементов декора, предпочтительно на банкнотах, идентификационных картах или паспортах, составляет менее 35 мкм. Предпочтительно, чтобы общая толщина была менее 20 мкм, чтобы, в частности, благоприятным образом предотвращать изгибание банкнот по нанесенной пленке, включающей один или несколько оптически переменных элементов 1а. Кроме того, возможно, что ограниченную максимальную глубину структуры для всех структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd соответствующих элементов 2ca, 2cb, 2cc, 2cd изображения ограничивают таким образом, что структуры 3ca, 3cb, 3cc, 3cd предпочтительно вводят, наносят и/или формируют способом репликации.

Возможно, что одну или несколько структур из одной или нескольких структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd формируют таким образом, что ограниченная максимальная глубина Δz структуры одной или нескольких структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd для более, чем 50% пикселей, в частности, для более, чем 70% пикселей, предпочтительно для более, чем 90% пикселей, по меньшей мере одной матрицы 2 пикселей является меньшей или равной 15 мкм, в частности, меньшей или равной 7 мкм, предпочтительно меньшей или равной 2 мкм.

Кроме того, возможно, что одну или несколько структур из одной или нескольких структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd формируют таким образом, что максимальная глубина Δz структуры одной или нескольких структур для всех пикселей является меньшей или равной 15 мкм, в частности, меньшей или равной 7 мкм, предпочтительно меньшей или равной 2 мкм.

Ограниченная максимальная глубина структуры, меньшая или равная 15 мкм, является благоприятной, в частности, совместимой со способом, включающим УФ-репликацию (УФ=ультрафиолетовый), и ограниченная максимальная глубина структуры, меньшая или равная 7 мкм, в частности, меньшая или равная 2 мкм, является благоприятной, в частности, совместимой со способом, включающим УФ-репликацию и/или термические репликации.

Также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd, имеют период решетки, в частности, меньший, чем половина, предпочтительно меньший, чем треть, более предпочтительно меньший, чем четверть, максимального бокового размера элементов 2ca, 2cb, 2cc, 2cd изображения, предпочтительно каждого из элементов 2ca, 2cb, 2cc, 2cd изображения.

Кроме того, в частности, возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3ca, 3cb, 3cc, 3cd отличаются друг от друга, или подобны, или одинаковы, или идентичны друг другу.

Фигура 4 показывает приведенную в Фигуре 2 матрицу 2 пикселей в таком виде, что каждому из элементов 2aa-2dd изображения придана соответствующая структура 3aa-3dd, соответственно, что каждый из элементов 2aa-2dd изображения включает соответствующую структуру 3aa-3dd, причем структуры 3aa-3dd сформированы как подобные голограмме, в частности, ахроматически отображающие, отклоняющие и/или рассеивающие падающий свет структуры.

В частности, одна или многие, или все структуры из структур 3aa-3dd имеют различающиеся между собой оптические свойства.

Возможно, что каждому пикселю из элементов 2aa-2dd изображения по меньшей мере одной матрицы 2 пикселей приданы одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd, причем приданные одному пикселю одна или несколько структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение под одним или несколькими предварительно определенными телесными углами, причем, в частности, одному или нескольким предварительно определенным телесным углам в каждом случае предназначено одно направление, предпочтительно предварительно определенное направление.

Кроме того, возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd, и/или одна или несколько соотнесенных структур одной или нескольких соотнесенных структур 3aa-3dd, отображают, отклоняют и/или рассеивают под одним или несколькими предварительно определенными телесными углами из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, которые, в частности, отличаются друг от друга, причем один или несколько проецируемых на окружающую один пиксель сферу, в частности, единичную сферу с единичным радиусом 1, телесные углы из одного или нескольких телесных углов и/или предварительно определенных телесных углов среди одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, образуют одну или несколько, в частности, одинаковых или разнообразных, форм, которые предпочтительно в каждом случае выбираются из: круглой поверхности, эллиптической поверхности, треугольной поверхности, квадратной поверхности, прямоугольной поверхности, многоугольной поверхности, кольцеобразной поверхности, причем, в частности, одна или несколько форм из одной или нескольких форм являются открытыми или замкнутыми, и/или состоящими из одной или нескольких частичных форм, и причем предпочтительно две частичных формы соединены или перекрываются друг с другом.

Фигура 5 показывает приведенную в Фигуре 2 матрицу 2 пикселей в таком виде, что каждому из элементов 2aa-2dd изображения придана соответствующая структура 3aa-3dd, соответственно, что каждый из элементов 2aa-2dd изображения включает соответствующую структуру 3aa-3dd, причем структуры 3aa-3dd сформированы как структуры решетки, которые ахроматически отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет. В частности, структуры решетки представляют собой линейные структуры решетки, которые предпочтительно имеют подобный профилированной решетке (эшелетту) профиль решетки.

Ахроматически отклоняющие структуры решетки в одном или нескольких пикселях из элементов 2aa-2dd изображения предпочтительно по меньшей мере в одной матрице 2 пикселей перекрываются с дополнительными микроструктурами и/или наноструктурами, в частности, линейными структурами решетки, более предпочтительно структурами крестообразных решеток, более предпочтительно структурами субволновых решеток.

Возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd, которые выполнены как ахроматически отклоняющие структуры решетки, предпочтительно как профилированные решетки, в частности, имеют период решетки более 3 мкм, предпочтительно более 5 мкм, и/или, в частности, каждый пиксель из элементов 2aa-2dd изображения включает по меньшей мере два периода решетки ахроматически отклоняющих структур.

Фигура 6 представляет показанную в Фигуре 2 матрицу 2 пикселей в таком виде, что каждому из элементов 2aa-2dd изображения придана соответствующая структура 3aa-3dd, соответственно, что каждый пиксель из элементов 2aa-2dd изображения включает соответствующую структуру 3aa-3dd, причем структуры 3aa-3dd сформированы как структуры микролинз Френеля и/или участки, соответственно, секторы микролинз Френеля, причем, в частности, линии решетки структуры микролинз Френеля сформированы как изогнутые линии решетки, и/или линии решетки имеют переменные периоды решетки, и/или причем, в частности, каждый пиксель из двух или нескольких пикселей, предпочтительно по меньшей мере по одному пространственному направлению, включает по меньшей мере два периода решетки.

Возможно, что структуры микролинз Френеля сформированы как профилированные решетки (эшелетты), причем линии решетки, в частности, изогнуты, и/или причем периоды решетки предпочтительно варьируют.

В частности, одна или многие, или все структуры менее предпочтительно выполнены как микрозеркала и/или микропризмы, в частности, менее предпочтительно выполнены как ахроматически рефрактивно отображающие микроструктуры.

Кроме того, возможно, что более 70% пикселей, в частности, более 90% пикселей, из элементов 2aa-2dd изображения по меньшей мере в одной матрице 2 пикселей имеют одну или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd, которые имеют выступы числом по меньшей мере 2, в частности, по меньшей мере 3 выступа, предпочтительно по меньшей мере 4 на пиксель.

Одна или несколько структур из одной или нескольких структур более предпочтительно имеют выступы числом по меньшей мере 2, в частности, по меньшей мере 3 выступа, предпочтительно по меньшей мере 4 выступа на пиксель.

По меньшей мере в одном пикселе имеются по меньшей мере два периода решетки сформированных в виде профилированной решетки и/или структур микролинз Френеля структур, причем в данном случае периоды решетки предпочтительно являются меньшими, чем половина максимального бокового размера каждого пикселя.

Также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd сформированы как хроматические структуры решетки, в частности, как линейные решетки, предпочтительно как линейные решетки с синусоидальным профилем, и/или как нанотекст, и/или как зеркальные поверхности. Тем самым, в частности, можно встроить цветные элементы декора и/или скрытые признаки в кажущуюся ахроматической матрицу пикселей.

Фигура 7 представляет показанную в Фигуре 2 матрицу 2 пикселей в таком виде, что элементы 2aa-2dd изображения в каждом случае имеют линейную решетку 30aa, 30ad, соответственно, 30сс, в частности, включающую синусоидальный профиль.

Можно расширить ахроматические эффекты одной или нескольких структур 3aa-3dd применением, соответственно, нанесением или формированием дополнительных структур посредством дополнительных оптических эффектов, и при этом благоприятным образом дополнительно повысить защищенность от подделок.

Кроме того, возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd, предпочтительно в одном или нескольких пикселях из элементов 2aa-2dd изображения, выполнены как субволновые решетки, в частности, как линейные субволновые решетки, причем предпочтительно период решетки субволновых решеток, в частности, линейных субволновых решеток, составляет менее 450 нм, и/или причем, в частности, по меньшей мере одна подобная матрица пикселей создает для наблюдателя регистрируемый оптически переменный эффект при наклоне и/или повороте оптически переменного элемента и/или по меньшей мере одной матрицы пикселей. В частности, в отношении подобного оптически переменного эффекта речь идет об одном или нескольких регистрируемых наблюдателем и/или датчиком пиктограмм, логотипов, изображений и/или дополнительных мотивов, которые предпочтительно высвечиваются при сильном наклоне оптически переменного элемента 1а.

Кроме того, также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd, в частности, по меньшей мере частично, снабжены металлическим слоем, и/или поглощают падающее электромагнитное излучение, причем предпочтительно один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей регистрируемы в отражении, предпочтительно в прямом отражении, для наблюдателя в оттенке от темно-серого до черного.

Фигура 8 представляет показанную в Фигуре 2 матрицу 2 пикселей в таком виде, что элементы 2aa, 2ad и 2cc изображения в каждом случае имеют поглощающую свет, в частности, поглощающую падающий свет, микроструктуру 31aa, 31ad, соответственно, 31cc, причем эти поглощающие микроструктуры 31aa, 31ad, соответственно, 31cc, регистрируются наблюдателем и/или датчиком предпочтительно как оттенки от темно-серого до черного. В частности, поглощающие микроструктуры 31aa, 31ad, соответственно, 31cc, сформированы как субволновые перекрестные решетки, в частности, с периодом решетки, меньшим или равным 450 нм, предпочтительно меньшим или равным 350 нм. Подобные пиксели с микроструктурами, которые выглядят как оттенки от темно-серого до черного, позволяют повысить, в частности, контраст внешнего вида матрицы пикселей и, например, создавать иллюзию отбрасываемых теней.

Также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd сформированы как микроструктуры, которые поглощают свет, в частности, поглощают падающий свет, и/или при нормальном рассматривании, соответственно, в прямом отражении, выглядят для наблюдателя и/или датчика цветными.

Можно расширить дополнительные структуры посредством дополнительных оптических эффектов, и при этом благоприятным образом дополнительно повысить защищенность от подделок.

Кроме того, можно дополнить ахроматические эффекты одной или нескольких структур 3aa-3dd применением, соответственно, нанесением или формированием поглощающих свет микроструктур в одном или нескольких пикселях из элементов 2aa-2dd изображения по меньшей мере одной матрицы 2 пикселей вокруг контрастных линий или контрастных поверхностей в одном варианте исполнения. При этом, например, можно генерировать визуально бросающийся в глаза для наблюдателя и/или выразительный для датчика 3D-объект, например, такой как портрет, который создается направленно отображающими, отклоняющими и/или рассеивающими падающий свет структурами 3aa-3dd в соответствующих пикселях из элементов 2aa-2dd изображения, посредством которого достигаются регистрируемые для наблюдателя и/или датчика регистрируемые более контрастно как оттенки от темного до черного пиксели, включающие поглощающие свет микроструктуры. В частности, возможно, что кажущиеся темными пиксели, например, обеспечивают ожидаемую наблюдателем высококонтрастную отбрасываемую тень.

В частности, одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd имеют HRI-слой, причем, в частности, пиксели, которые имеют один или несколько слоев, регистрируются наблюдателем и/или датчиком в отражении как цветные.

В одном из предварительно определенного в варианте исполнения числа пикселей из элементов 2aa-2dd изображения предпочтительно могут быть предусмотрены микроструктуры, которые, в частности, при по меньшей мере частичном нанесении покрытия по меньшей мере из одного высокопреломляющего диэлектрического слоя, в частности, по меньшей мере одного HRI-слоя, предпочтительно при нормальном рассматривании, соответственно, в прямом отражении, регистрируются наблюдателем и/или датчиком цветными, например, красными или зелеными. Подобные микроструктуры предпочтительно выполнены как линейные субволновые решетки, причем цветные пиксели, включающие подобные микроструктуры, например, в портрете, создают для наблюдателя и/или датчика регистрируемые зелеными зрачки.

Фигура 9 показывает фрагмент матрицы 2 пикселей, включающей шестнадцать элементов 2aa-2dd изображения в перспективном виде, причем матрица пикселей является протяженной по пролегающей через направления x или y плоскости. Кроме того, в Фигуре 9 показаны направление поступления падающего света 6 и направления выхода исходящего света 20aa-20dd для соответствующих элементов 2aa-2dd изображения. В частности, исходящий свет 20aa-20dd излучается в полупространство, которое, в частности, определяется плоскостью матрицы пикселей, причем падающий свет 6 предпочтительно поступает из одного направления в этом полупространстве. В частности, падающий свет 6 ахроматически отклоняется по соответствующим направлениям исходящего света 20aa-20dd как исходящий свет 20aa-20dd. При этом падающий свет 6 ахроматически отображается, отклоняется и/или рассеивается, в частности, псевдослучайно, по произвольным пространственным направлениям как исходящий свет 20aa-20dd, в и/или на каждом элементе 2aa-2dd изображения, предпочтительно индивидуально в и/или на каждом элементе 2aa-2dd изображения, включающем данную структуру 3aa-3dd.

Возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур 3aa-3dd, предпочтительно в соответствующих пикселях из элементов 2aa-2dd изображения, отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение, в частности, падающий свет 6, псевдослучайно или случайно по всем пространственным направлениям таким образом, что один или несколько пикселей матрицы 2 пикселей в отражении регистрируемы наблюдателем и/или датчиком предпочтительно изотропно белыми, предпочтительно изотропно ахроматическими.

Фигура 10 показывает увеличенный вид фрагмента указанной в Фигуре 9 матрицы 2 пикселей, которая включает, например, пиксель 2аd, включающий отображающие, отклоняющие и/или рассеивающие свет структуры 3аd, который отображает, отклоняет и/или рассеивает падающий свет, соответственно, падающее электромагнитное излучение, как исходящий свет 20аd в предварительно определенном направлении и/или в предварительно определенном телесном угле. При этом траектории и/или направления распространения исходящего света 20аd предпочтительно параллельны друг другу.

Также возможно, что падающий на матрицу 2 пикселей свет, соответственно, падающее электромагнитное излучение, псевдослучайно или случайно отображается, отклоняется и/или рассеивается только по меньшей мере в одной области, в частности, одной или нескольких по меньшей мере частично примыкающих или не примыкающих друг к другу, и/или по меньшей мере частично перекрывающихся или не перекрывающихся областях, одного или нескольких предварительно определенных телесных углов. В результате этого благоприятным образом в этих областях и/или предварительно определенных телесных углах повышается яркость и/или интенсивность исходящего света, соответственно, исходящего электромагнитного излучения, причем, в частности, регистрируемый наблюдателем и/или датчиком эффект, предпочтительно визуальный эффект, регистрируется лучше в условиях низкой освещенности.

Кроме того, при сильном ограничении, в частности, один или многие углы раствора, один или несколько предварительно определенных телесных углов по меньшей мере по одному направлению также могут создавать асимметричный и/или динамический эффект белого цвета. При этом углы раствора предварительно определенных телесных углов предпочтительно ограничены на величину менее +/-10°, предпочтительно менее +/-5°, более предпочтительно +/-3°, в частности, по меньшей мере по одному направлению.

Обобщение важнейших структурных параметров, а также диапазонов значений этих параметров, приведено в Таблице 1.

Структурный параметр	Диапазоны	Предпочтительные диапазоны	Особенно предпочтительные диапазоны
Боковые размеры пикселя и/или ΔX и/или ΔY	от 5 мкм до 500 мкм	от 10 мкм до 300 мкм	от 20 мкм до 150 мкм
Ограниченная максимальная глубина структуры	≤15 мкм	≤4 мкм	≤2 мкм
Расстояние между смежными виртуальными источниками поля	от 0,001 м до 100 м	от 0,1 м до 5 м	от 0,25 до 2 м
Фокусное расстояние микролинз	от 0,04 мм до 5 мм	от 0,06 мм до 3 мм	от 0,1 мм до 2 мм
Число выступов на пиксель	≥2	≥3	≥4

Фигура 11 представляет увеличенный вид фрагмента показанной в Фигуре 6 матрицы 2 пикселей, включающей пиксель 2da, в котором по меньшей мере одна структура 3da сформирована как структура микролинз Френеля, причем падающий свет, соответственно, падающее электромагнитное излучение, отображается, отклоняется и/или рассеивается структурой 3da на одной или нескольких точках и/или одной или нескольких поверхностях в пространство перпендикулярно пролегающей через матрицу 2 пикселей плоскости, и/или протяженной через направления x или y плоскости, в частности, фокусируется. Фигура 11 является только схематической и выполненной не в масштабе.

Кроме того, также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур образованы как микролинзы, в частности, микролинзы Френеля, причем, в частности, фокусное расстояние одной или нескольких структур составляет между 0,04 мм до 5 мм, в частности, от 0,06 мм до 3 мм, предпочтительно от 0,1 мм до 2 мм, и/или причем, в частности, фокусное расстояние по направлению x и/или y определяется уравнением

,

причем Δ_{x, y} предпочтительно представляет данный боковой размер одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей по направлению x, соответственно, по направлению y, и ɸ_{x, y} представляет данный телесный угол по направлению x, соответственно, по направлению y, в котором одна или несколько структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение, в частности, падающий свет.

Кроме того, возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур образованы как цилиндрические линзы, причем, в частности, фокусное расстояние одной или нескольких структур является бесконечно большим.

В частности, соответствующие фокусные расстояния определяются величинами и/или боковыми размерами пикселей и/или соотнесенных телесных углов.

Фигура 12 показывает увеличенный вид фрагмента показанной в Фигуре 6 матрицы 2 пикселей, включающей пиксель 2da, в котором по меньшей мере одна структура 3da сформирована как структура микролинз Френеля, причем падающий свет, соответственно, падающее электромагнитное излучение, отображается, отклоняется и/или рассеивается структурой 3da на одной или нескольких точках и/или одной или нескольких поверхностях в пространстве, в частности, не перпендикулярно пролегающей через матрицу 2 пикселей плоскости, и/или протяженной через направления x или y плоскости, а под углом α относительно нормали f к поверхности вышеуказанных плоскостей по направлению R, в частности, фокусируется.

При этом радиус сферы Е, в частности, равен высоте f фокуса. Структуру микролинз Френеля предпочтительно рассчитывают и, соответственно, определяют для длины волны 550 нм, в частности, для диапазона длин волн от 450 нм до 650 нм, падающего света.

Фигура 12а показывает увеличенный вид фрагмента показанной в Фигуре 6 матрицы 2 пикселей, включающей пиксель 2da, в котором по меньшей мере одна структура 3da сформирована как структура микролинз Френеля, причем падающий свет, соответственно, падающее электромагнитное излучение, отображается, отклоняется и/или рассеивается структурой 3da на одной или нескольких точках и/или одной или нескольких поверхностях в пространстве, в частности, не перпендикулярно пролегающей через матрицу 2 пикселей плоскости, и/или протяженной через направления x или y плоскости, а под углом α относительно нормали f к поверхности вышеуказанных плоскостей по направлению R, в частности, фокусируется.

В частности, в и/или на показанных в Фигурах 11, 12 и 12а сегментах S получается по меньшей мере одна виртуальная матрица пикселей, включающая два или несколько виртуальных пикселей, причем предпочтительно каждому из одного или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей предназначен по меньшей мере один телесный угол. Половины угла раствора показанного в Фигуре 11 соотнесенного телесного угла, который ограничен линиями 20da, составляют, например, θ/2 и φ/2. В Фигурах 11, 12 и 12а предпочтительно в каждом случае предназначен один виртуальный пиксель из данных пикселей 2da.

Кроме того, один или несколько виртуальных источников поля предпочтительно размещены в и/или на показанных в Фигурах 11, 12 и 12а сегментах S, причем, в частности, показанные в Фигурах 11, 12 и 12а сегменты S в каждом случае находятся на первых расстояниях относительно данных виртуальных пикселей, причем положение и/или ориентация данного виртуального пикселя в Фигурах 11, 12, соответственно, 12а, в каждом случае предпочтительно соответствует положению и/или ориентации показанного в Фигурах 11, 12 и 12а виртуального пикселя 2da .

Одно или многие виртуальные электромагнитные поля, исходящие из одного или нескольких виртуальных источников поля, в частности, размещенных в показанных в Фигурах 11, 12 и 12а сегментах S, предпочтительно рассчитывают на предварительно определенной расстояния от одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости.

Одну или многие фазовые портреты для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей предпочтительно рассчитывают из виртуального электромагнитного результирующего поля, состоящего из суперпозиции одного или нескольких виртуальных электромагнитных полей в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности, плоскости, причем данные плоскости в Фигурах 11, 12 и 12а, в частности, соответствуют протяженным через данные пиксели 2da плоскостям.

Кроме того, виртуальные структурные профили предпочтительно рассчитывают для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей из одного или нескольких фазовых портретов.

В частности, виртуальные структурные профили двух или нескольких виртуальных пикселей по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей предпочтительно формируют в и/или на подложке в качестве по меньшей мере одной матрицы пикселей, включающей два или несколько пикселей, причем данные показанные в Фигурах 11, 12 и 12а пиксели 2da по меньшей мере одной матрицы пикселей имеют одну или несколько структур 3da, для создания оптически переменного элемента.

Фигура 13 показывает в качестве примера дизайн, включающий 3D-модель портрета 9 математика и физика Карла Фридриха Гаусса. Шесть вариантов в верхней части Фигуры в каждом случае имеют один возрастающий слева направо угол раствора телесного угла, в котором соответствующие микроструктуры базовой матрицы пикселей все более расширенно отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет, соответственно, падающее электромагнитное излучение в пределах предварительно определенного в каждом случае телесного угла. В частности, углы раствора данных соотнесенных телесных углов, в которых соответствующие структуры расширенно отображают падающий свет, составляют слева направо: 0,5°, 1,25°, 2,5°, 5°, 7,5°, 10°.

В частности, малый и/или меньший угол раствора предварительно определенных телесных углов создает регистрируемый для наблюдателя и/или датчика 3D-эффект с кажущейся гладкой поверхностью портрета, соответственно, мотива. Большой и/или больший угол раствора телесных углов создает регистрируемый для наблюдателя и/или датчика 3D-эффект с кажущейся весьма матовой поверхностью портрета, соответственно, мотива. Эта регулируемая матовость может быть использована как элемент дизайна, например, чтобы обеспечить возможность изобразить вершину представляемой как 3D-эффект горы покрытой снегом.

Угол раствора предпочтительно составляет величину в диапазоне между 0,5° и 70°, и предпочтительно между 1° и 60°.

Верхняя часть Фигуры 13b показывает пять фрагментов 91, 92, 93, 94, 95 3D-модели льва, причем, в частности, слева направо угол раствора возрастает от 1° до 60°. Все пиксели отклоняют падающий свет, в частности, с примерно одинаковым углом раствора в предусмотренном для пикселей направлении. Крайний левый фрагмент 91 льва имеет зеркально отражающую виртуальную поверхность, самый правый фрагмент 95 льва имеет шелковисто-матовую поверхность. Три фрагмента 92, 93, 94 льва между ними показывают промежуточные значения матовости.

Кроме того, участок 3D-эффекта может проявляться с другой матовостью. Нижняя часть Фигуры 13b показывает это посредством 3D-модели 96, 97 льва, причем слева на К-образном участке льва 96 матовость является большей, чем в остальном льве, и в правом льве 97 на К-образном участке матовость является меньшей, чем в остальном льве. Угол раствора в левом льве 96 в областях без К-образного участка составляет 1°, и в правом льве 97 угол раствора составляет 15°. К-образный участок в левом льве 96 имеет угол раствора 60°, и К-образный участок в правом льве 97 имеет угол раствора 1°.

Нижние части Фигуры 13 показывают микрофотографии фрагментов базовых матриц пикселей в изображенных в верхней части Фигуры 13 портретах с различными увеличениями данных областей. В частности, регистрируемы структуры пикселей, находящихся в матрицах пикселей.

В частности, увеличение предварительно определенного телесного угла, в котором пиксели отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет, предпочтительно приводит к явному изменению основополагающих структур, и при увеличивающихся углах раствора, в частности, к явному рассогласованию упорядоченных, соответственно, периодических структур.

Фигура 14 показывает в качестве примера подобное изменение структуры выбранного пикселя в показанном в Фигуре 13 дизайне, причем структура слева направо изменяется с увеличением угла раствора.

Кроме того, 3D-эффект, в частности, как описано выше, можно частично, или комплексно, или полностью, сделать видимым, соответственно, регистрируемым в одном предварительно определенном направлении. Для этого структуры в пикселях предпочтительно выбирают таким образом, что они отображают, и/или отклоняют, и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение в предварительно определенной области 3D-эффекта, предпочтительно по предварительно определенному направлению. Угол раствора при этом, в частности, выбирают в зависимости от направления.

Левая часть 98 Фигуры 13с показывает вариант исполнения, включающий 3D-модель портрета математика и физика Карла Фридриха Гаусса, причем при нормальном рассматривании лицо отображает, и/или отклоняет, и/или рассеивает падающее электромагнитное излучение по существу предпочтительно по направлению к наблюдателю. Эта область портрета кажется, в частности, 3D-выпуклой и матово-светлой. Напротив, другие области портрета предпочтительно кажутся темными до едва регистрируемых. В частности, после поворота оптически переменного элемента на 90° по часовой стрелке, как показано в правой части 99 Фигуры 13с, лицо, напротив, кажется темным до едва различимого, и остальные области портрета проявляются, в частности, как 3D-выпуклые и матово-светлые. Угол раствора при этом предпочтительно составляет величину в диапазоне между 0,5° и 70°, более предпочтительно между 1° и 60°.

Возможно, что структуры, образованные как ахроматические микроструктуры, в одном или нескольких, или во всех пикселях из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей перекрываются с дополнительными микроструктурами и/или наноструктурами. Примерами подобных дополнительных микроструктур и/или наноструктур являются структуры линейных решеток, структуры перекрестных решеток, в частности, структуры субволновых решеток. При этом может быть достигнута комбинация создаваеомго ахроматической структурой ахроматического эффекта с генерируемым структурами субволновых решеток цветовым эффектом, в частности, так называемым цветовым эффектом дифракции нулевого порядка. Примерами подобного цветового эффекта дифракции нулевого порядка являются, в частности, так называемые резонансные решетки в случае нанесения HRI-покрытия, или решетки с эффектами на основе плазмонного резонанса в случае металлических покрытий, в частности, алюминиевого покрытия. В обоих указанных случаях возникает оптический эффект по меньшей мере одной матрицы пикселей, в частности, в цвете наложенного эффекта структур субволновых решеток. Период решетки для резонансных решеток, которые покрыты HRI-слоем, предпочтительно составляет величину в диапазоне от 200 нм до 500 нм. Кроме того, структуры субволновых решеток резонансных решеток предпочтительно представляют собой линейные решетки.

Кроме того, альтернативно подразделению по меньшей мере одной матрицы пикселей и одной поверхности в пикселе на по-разному соотнесенные и/или предварительно определенные телесные углы, поверхности или смежные пиксели, в частности, могут быть оснащены идентичными или почти идентичными структурами и/или микроструктурами.

Фигура 15 показывает порядок размещения пикселей матрицы 2 пикселей, включающей соответствующие структуры, которые, в частности, сформированы так, что создается регистрируемое наблюдателем и/или датчиком движение тонких линий («движение узких или тонких линий»), причем ширина регистрируемых линий предпочтительно зависит от величины и/или боковых размеров пикселей.

В показанном в Фигуре 15 оптически переменном элементе структуры в отдельных размещенных в форме линий группах пикселей G выполнены таким образом, что, в частности, они отображают падающий свет по различным пространственным направлениям и/или в различных предварительно определенных телесных углах, причем предпочтительно в результате наклона подобного оптически переменного элемента в зависимости от условий рассматривания, и/или направления рассматривания, и/или падающего света, и/или направления поступления падающего света, в каждом случае поочередно высвечиваются смежные размещенные в форме линий группы пикселей G, в частности, в зависимости от направления наклона, в частности, ахроматически.

Также возможно, что одна или многие размещенные в форме линий группы пикселей не проявляются и/или высвечиваются под одним случайным углом, причем высвечивание размещенных в форме линий групп пикселей предпочтительно генерируется в произвольной последовательности. В частности, может создаваться также ахроматический эффект морфинга тонких линий («движение и/или изменение формы узких или тонких линий»), который предпочтительно является регистрируемым для наблюдателя и/или датчика.

Кроме того, могут быть созданы также один или несколько эффектов следующих регистрируемых наблюдателем и/или датчиком эффектов: кажущиеся выступающими к наблюдателю и/или датчику или углубленными свободные формы; кажущиеся парящими перед протяженной через оптически переменный элемент плоскостью или позади нее; ахроматическое движение и трансформация тонких линий; ахроматическое движение, в частности, линейное и/или радиальное ахроматическое движение; ахроматическое переворачивание изображения, в частности, двукратные, трехкратные или многократные переворачивания, и/или предпочтительно анимации, включающие несколько мотивов, предпочтительно изображения; одна или многие регистрируемые наблюдателем и/или датчиком как изотропно матовые поверхности; одна или многие регистрируемые наблюдателем и/или датчиком как анизотропно матовые поверхности; один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, включающие скрытые эффекты, например, такие как нанотекст; скрытый мотив (скрытый, соответственно, тайный для наблюдателя и/или датчика на предварительно определенном расстоянии и/или в одном или нескольких предварительно определенных диапазонах длин волн мотив), в частности, скрытый текст (скрытый, соответственно, тайный для наблюдателя и/или датчика на предварительно определенном расстоянии и/или в одном или нескольких предварительно определенных диапазонах длин волн текст), и/или скрытая изображение (скрытая, соответственно, тайные для наблюдателя и/или датчика на предварительно определенном расстоянии и/или в одном или нескольких предварительно определенных диапазонах длин волн изображения), в одной или нескольких предварительно определенных плоскостях отображения, соответственно, под одним или несколькими предварительно определенными телесными углами, и/или на расстояниях до оптически переменного элемента.

Возможно, что для создания двукратного переворачивания в первой группе пикселей матрицы пикселей формируют первую группу структур, которые отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет, в частности, ахроматически, например, образованные компьютерной графикой голографические структуры, причем эти структуры первой группы структур ахроматически отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет при первом угле наклона примерно на 30° к поверхности протяженной через оптически переменный элемент плоскости. Пиксели первой группы пикселей при этом предпочтительно отображают первый мотив.

Кроме того, возможно, что для создания двукратного переворачивания во второй группе пикселей матрицы пикселей формируют вторую группу структур, которые отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет, в частности, ахроматически, например, образованные компьютерной графикой голографические структуры, причем эти структуры второй группы структур ахроматически отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет при втором угле наклона примерно на 5° к поверхности протяженной через оптически переменный элемент плоскости. Пиксели второй группы пикселей при этом предпочтительно отображают второй мотив.

Также возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур и/или соотнесенные с одним пикселем из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей структуры отображают, отклоняют и/или рассеивают электромагнитное излучение, в частности, падающее электромагнитное излучение, под одним телесном углом, в частности, в одном точечном телесном угле.

Одна или несколько структур из одной или нескольких структур и/или один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей, включающие одну или несколько соотнесенных структур одной или нескольких соотнесенных структур, предпочтительно предназначены двум или нескольким группам структур и/или двум или нескольким группам пикселей, в частности, причем группы из двух или нескольких групп структур и/или группы двух или нескольких групп пикселей отличаются друг от друга.

Возможно, что две или многие группы структур из двух или нескольких групп структур, и/или две или многие группы пикселей из двух или нескольких групп пикселей, отображают, отклоняют и/или рассеивают электромагнитное излучение, в частности, падающее электромагнитное излучение, в одинаковых или различных телесных углах и/или в предварительно определенных телесных углах, в частности, в точечных телесных углах и/или в предварительно определенных телесных углах, предпочтительно в телесных углах различный формы и/или предварительно определенных телесных углах.

Кроме того, возможно, что две или многие группы структур из двух или нескольких групп структур, и/или две или многие группы пикселей из двух или нескольких групп пикселей, создают оптически переменную информацию, включающую 3D-эффект.

Кроме того, при этом возможно, что первый мотив кажется светлым, и второй мотив кажется темным, если оптически переменный элемент, в частности, из того, для которого предварительно определен соответствующий угол наклона, включает телесный угол. Кроме того, возможно, что оптически переменный элемент после наклона относительно наблюдателя и/или датчика ориентирован так, что оптически переменный элемент, в частности, из того, который является регистрируемым при втором угле наклона соответствующего предварительно определенного второго угла наклона, причем предпочтительно второй мотив кажется светлым, и первый мотив кажется темным. Подобный эффект предпочтительно также называется эффектом переворачивания изображения.

Предпочтительно является возможным, что структуры отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет в трех или нескольких предварительно определенных телесных углах, причем каждому из предварительно определенных телесных углов, в частности, в каждом случае предназначен отличающийся мотив, в частности, изображение. Например, здесь возможно создание переворачивания между тремя или несколькими мотивами в зависимости от направления рассматривания и/или в одном из соответствующих предварительно определенным телесным углам направлений рассматривания. В частности, для наблюдателя и/или датчика создается иллюзия непрерывного и/или скачкообразного движения мотива, которая, в частности, возникает при соответствующем перемещении, повороте и/или наклоне оптически переменного элемента. Базовую матрицу пикселей предпочтительно разделяют на части, которые создают данный мотив, и/или один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей матрицы пикселей в каждом случае разделяют на части или субпиксели, которые в каждом случае имеют различные структуры, которые отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет в предварительно определенном телесном угле для создания соответствующего мотива.

Один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей в каждом случае разделяют на три, в частности, на четыре, более предпочтительно на пять, частей или субпикселей, причем части или субпиксели, в частности, предпочтительно в каждом случае, имеют различные структуры.

Возможно, что один или многие регистрируемые наблюдателем телесные углы из одного или нескольких телесных углов или предварительно определенных телесных углов из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, в которых один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение, соответствуют одной функции, причем функция сформулирована таким образом, что наблюдатель регистрирует телесные углы или предварительно определенные телесные углы как волнообразно двигающиеся полосы яркости, предпочтительно синусоидально двигающиеся полосы яркости.

Кроме того, возможно генерирование изменяющейся формы мотива, например, трансформации мотива, например, буквенной последовательности «СН», на другой мотив, например, швейцарский крест, который является регистрируемым для наблюдателя и/или датчика, причем, в частности, возможны визуально увеличенные или уменьшенные линии контура мотива.

Кроме того, также возможно, что один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей отображают, отклоняют и/или рассеивают по меньшей мере два вида одного мотива в различные предварительно определенные телесные углы, причем, в частности, наблюдателем и/или датчиком по меньшей мере с одного предварительно определенного расстояния регистрируется по меньшей мере одно стереоизображение мотива.

Фигура 16 показывает на левой стороне изображенный в Фигуре 1 полосовидный элемент 1b’ защиты, причем наблюдатель и/или датчик при рассматривании элемента 1b’ защиты в падающем свете и/или в проходящем свете различает эффект движения и/или визуально по направлению рассматривания кажущиеся выступающими и/или вне направления рассматривания кажущиеся вдавленными 3D-элементы.

Возможно, что защищенный документ 1d в полосовидной области 1b’ или вне ее имеет один или несколько дополнительных оптически переменных элементов.

Кроме того, полосовидный элемент 1b защиты включает два оптически переменных элемента 1а, которые, в частности, в каждом случае имеют по меньшей мере одну матрицу пикселей, включающую два или несколько пикселей, и показаны на правой стороне Фигуры 16 в увеличенном виде.

Кроме того, полосовидный элемент 1b’ защиты включает многие элементы 8 защиты, которые выполнены как последовательности чисел «45», два облачных мотива, мотив в форме самолета, и перечеркнутая двумя горизонтальными линиями последовательность букв «UT».

Показанный в Фигуре 16 вверху справа оптически переменный элемент 1а в виде солнца создает, в частности, оптический эффект таким образом, что падающий свет кажется для наблюдателя и/или датчика предпочтительно как отраженный от выпуклой поверхности солнца 9а. По внешнему виду, солнце 9а предпочтительно ощущается как выступающее, в частности, для наблюдателя как ощутимое, соответственно, как ожидаемое регистрируемым на ощупь, из протяженной через оптически переменный элемент плоскости и/или поверхности, хотя элемент защиты при этом предпочтительно является практически гладким и/или плоским. Показанный в Фигуре 16 внизу справа оптически переменный элемент включает матрицу пикселей, которая, в частности, создает для наблюдателя и/или датчика иллюзию, в частности, оптическую иллюзию, волнообразно движущейся воды 9b. При наклоне оптически переменного элемента 1а для наблюдателя и/или датчика предпочтительно возникает яркая полоса, которая движется слева направо и/или в противоположном направлении.

Возможно, что одна или несколько структур из одной или нескольких структур при изгибании элемента и/или по меньшей мере одной матрицы пикселей создают оптически переменный эффект, причем, в частности, в неизогнутом состоянии элемента и/или по меньшей мере одной матрицы пикселей является регистрируемым первый мотив, и в изогнутом состоянии элемента и/или по меньшей мере одной матрицы пикселей является регистрируемым второй мотив.

Также возможно, что переворот изображения регистрируется наблюдателем и/или датчиком таким образом, что, в частности, в неизогнутом состоянии регистрируется первый мотив, и в изогнутом состоянии регистрируется второй мотив. В частности, виртуальную матрицу пикселей для расчета соответствующих структур в виртуальных пикселях создают в изогнутом состоянии, и виртуальные электромагнитные поля, которые предпочтительно излучаются из одного или нескольких виртуальных точечных источников поля, предпочтительно рассчитывают на изогнутую виртуальную матрицу пикселей. Тем самым, в частности, достигают того, что один или несколько предварительно определенных телесных углов, в которых структуры отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет, компенсируются соответственно локальному изгибу оптически переменного элемента, предпочтительно в изогнутом состоянии. Если падающий свет попадает на плоскую матрицу пикселей, пиксели которой, в частности, рассчитаны на изогнутое состояние, то мотив предпочтительно отображается, отклоняется и/или рассеивается в один или несколько предварительно определенных телесных углов таким образом, что для наблюдателя и/или датчика мотив предпочтительно является регистрируемым не полностью и/или только визуально искаженным.

Возможно, что наблюдатель и/или датчик различает один или многие из следующих создаваемых одним или несколькими оптически переменными элементами эффектов, в частности, следующие создаваемые одним или несколькими оптически переменными элементами эффекты: один или несколько эффектов отражения; один или несколько эффектов пропускания; комбинацию вышеуказанных эффектов отражения и пропускания, например, такую как различные эффекты движения при отражении и пропускании, причем, в частности, используются 50% пикселей и/или субпикселей по меньшей мере одной матрицы пикселей для данного эффекта при отражении, соответственно, пропускании; один или несколько эффектов для изогнутого или неизогнутого состояния одного или нескольких оптически переменных элементов из одного или нескольких оптически переменных элементов.

Также возможно формирование одной или нескольких структур из одной или нескольких структур таким образом, что возникают скачки фаз на 2×180° в отражении и 1×360° в пропускании. Подобный скачок фаз предпочтительно является точным только для одной длины волны, причем соответствующий эффект предпочтительно является цветоселективным около этой длины волны. Тем самым эффект проявляется для наблюдателя и/или датчика, в частности, в четко определенном цвете. Все вышеуказанные эффекты, в частности, все вышеуказанные оптические эффекты, например, могут быть преобразованы подобным образом с соответствующим определенным цветом.

Фигура 17 показывает в качестве примера ахроматичекую дугу, включающую многочисленные световые точки 200, которые движутся вверх и/или вниз вдоль направления R’, в частности, при наклоне вперед и/или наклоне назад, соответственно, при наклоне вдоль направления R’, оптически переменного элемента вверх и/или вниз, соответственно, вдоль направления R’, в пролегающей через направления x и y плоскости фигуры. Структуры в пикселях базовой матрицы пикселей, в частности, выполнены таким образом, что падающий свет при наклоне оптически переменного элемента из пролегающей через направления x и y плоскости фигуры на величину от -30° до +30° для наблюдателя и/или датчика предпочтительно создает иллюзию движущейся светлой дуги.

Фигура 18 показывает в верхней части первый увеличенный участок, и в нижней части второй, в частности, еще больше увеличенный участок базовой матрицы пикселей, включающей пиксель с соответствующими структурами. Окантованный пиксель 2е, содержащий структуру 3е, имеет по направлению x и y в каждом случае боковой размер 50 мкм.

Фигура 19 показывает в схематическом перспективном изображении регистрируемый для наблюдателя В и/или датчика S процесс движения ахроматического дугообразного мотива 9с, который перемещается в протяженной через оптический элемент 1а плоскости, в частности, вдоль направления R”, причем структуры, содержащиеся в оптически переменном элементе 1а матрицы 2 пикселей, отображают, отклоняют и/или рассеивают падающий свет по направлению к наблюдателю В и/или датчику S.

Фигура 20 показывает ахроматически выступающий для наблюдателя и/или датчика из плоскости фигуры, в частности, из протяженной через направления x и y плоскости, 3D-объект в форме раковины 9d гастроподы. В частности, структуры в пикселях базовой матрицы пикселей выполнены так, что падающий свет создает иллюзию 3D-объекта. При наклоне вперед и назад, а также влево и вправо свет и тени движутся для наблюдателя и/или датчика по винтовой поверхности.

Фигура 21 показывает в верхней части первый увеличенный участок, и в нижней части второй, в частности, еще больше увеличенный участок базовой матрицы пикселей в показанной в Фигуре 20 раковины 9d гастроподы, включающей пиксели с соответствующими структурами. Окантованный пиксель 2f, содержащий структуру 3f, имеет по направлению x и y в каждом случае боковой размер 50 мкм.

Фигура 22 показывает дизайн, включающий 3D-модель портрета 9е математика и физика Карла Фридриха Гаусса в 28 различных вариантах, и Фигура 23 показывает увеличенный участок Фигуры 22, причем структуры в пикселях базовой матрицы пикселей при этом, в частности, сформированы как структуры микролинз Френеля, которые были использованы для создания вариантов. В частности, портреты показывают в первой строке слева направо усиленную вариацию регистрируемой для наблюдателя и/или датчика силы 3D-эффекта. Первые в каждом случае четыре портрета в следующей строке показывают слева направо в каждом случае эффект посредством соответствующего портрета, основанный на структурах с глубиной структур 2 мкм, и в каждом случае последние три портрета в следующей строке показывают слева направо в каждом случае эффект посредством соответствующего портрета, основанный на структурах с глубиной структур около 1 мкм глубины структур.

Список ссылочных позиций:

1a оптически переменный элемент

1b элемент защиты

1b’ полосовидный элемент защиты

1c элемент декора

1d защищенный документ

10 подложка

2 матрица пикселей

2aa-2dd, 2e-2f пиксель

20aa-20dd падающий свет

200 световые точки

3aa-3dd, 3e-3f структура

30aa, 30ad, 30cc микроструктура

31aa, 31ad, 31cc микроструктура

4 виртуальная матрица пикселей

4aa-4dd виртуальный пиксель

6 падающий свет

9, 9a, 9b, 9c, 9d, 9e мотив

91, 92, 93, 94, 95 мотив

96, 97 мотив

98, 99 мотив

Δx, Δy боковой размер

Δz глубина структуры

P точка фокусировки

F фокальная плоскость

f расстояние

θ, φ, α, Ω угол

S сегмент

R, R’, R’’ направление

G группа пикселей

B наблюдатель

S датчик

L источник света

GF базовая поверхность

EF поверхность элемента.

1. Оптически переменный элемент (1а), в частности элемент (1b) защиты и/или элемент (1с) декора, предпочтительно для защищенных документов (1d),

отличающийся тем,

что оптически переменный элемент (1а) имеет по меньшей мере одну матрицу (2) пикселей, включающую два или несколько пикселей (2aa-2dd, 2e-2f), причем один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей имеют одну или несколько структур (3aa-3dd, 3e-3f), и причем одна или несколько структур одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение (6) под одним или несколькими телесными углами,

и причем один, или несколько, или все телесные углы из одного или нескольких телесных углов и/или один, или несколько, или все предварительно определенные телесные углы из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов по меньшей мере в одном направлении составляют до 70°, и при этом угол раствора одного, или нескольких, или всех телесных углов составляет максимально 20°, так что генерируемый при этом визуальный внешний вид может регистрироваться наблюдателем и/или датчиком как высокоглянцевый или шелковисто-матовый или как частично высокоглянцевый и частично шелковисто-матовый.

2. Оптически переменный элемент (1а) по п. 1,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) ахроматически отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение (6) под одним или несколькими телесными углами.

3. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что оптически переменный элемент (1а) включает один или несколько слоев, причем, в частности, по меньшей мере упомянутая одна матрица (2) пикселей размещена на или в по меньшей мере одном слое одного или нескольких слоев, и причем предпочтительно один или несколько слоев из одного или нескольких слоев выбраны из: HRI-слоя, в частности слоя, включающего HRI и/или лаковый LRI-слой, металлического слоя, интерференционного слоя, в частности последовательностей интерференционных слоев, предпочтительно HLH или HLHLH, более предпочтительно трехслойной системы или многослойной системы Фабри-Перо, жидкокристаллического слоя, красочного слоя, в частности просвечивающего красочного слоя.

4. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что с каждым пикселем (2aa-2dd, 2e-2f) из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей соотнесены одна или несколько структур одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f), причем соотнесенные с одним пикселем (2aa-2dd, 2e-2f) одна или несколько структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение (6) под одним или несколькими предварительно определенными телесными углами, причем, в частности, с одним или несколькими предварительно определенными телесными углами в каждом случае соотнесено одно направление, предпочтительно предварительно определенное направление.

5. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) и/или одна или несколько соотнесенных структур одной или нескольких соотнесенных структур отображают, отклоняют и/или рассеивают под одним или несколькими телесными углами из одного или нескольких телесных углов и/или под одним или несколькими предварительно определенными телесными углами из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, которые, в частности, отличаются друг от друга, причем один или несколько проецируемых на находящуюся вокруг пикселя (2aa-2dd, 2e-2f) сферу, в частности единичную сферу, соответственно, с единичным радиусом 1, телесных углов из одного или нескольких телесных углов и/или предварительно определенных телесных углов из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов образуют одну или несколько, в частности, одинаковых или разнообразных, форм, которые предпочтительно в каждом случае выбраны из: круглой поверхности, эллиптической поверхности, треугольной поверхности, квадратной поверхности, прямоугольной поверхности, многоугольной поверхности, кольцеобразной поверхности.

6. Оптически переменный элемент (1а) по п. 5,

отличающийся тем,

что одна или несколько форм из одной или нескольких форм являются открытыми или замкнутыми и/или состоят из одной или нескольких частичных форм, причем, в частности, по меньшей мере две частичных формы соединены друг с другом или перекрываются между собой.

7. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что один или несколько из регистрируемых, в частности, наблюдателем и/или датчиком телесных углов из одного или нескольких телесных углов или предварительно определенных телесных углов из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов, в которых один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение (6), соответствуют одной функции, причем функция образована так, что наблюдатель регистрирует телесный угол или предварительно определенный телесный угол как волнообразно двигающиеся полосы яркости, предпочтительно синусообразно двигающиеся полосы яркости.

8. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что один, или несколько, или все телесные углы из одного или нескольких телесных углов и/или один, или несколько, или все предварительно определенные телесные углы из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов по меньшей мере в одном направлении составляют предпочтительно до 50°, более предпочтительно до 40°, и что угол раствора одного, или нескольких, или всех телесных углов предпочтительно составляет максимально 15°, в частности предпочтительно максимально 10°.

9. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что один, или несколько, или все телесные углы из одного или нескольких телесных углов и/или один, или несколько, или все предварительно определенные телесные углы из одного или нескольких предварительно определенных телесных углов по меньшей мере в одном направлении составляют до 70°, предпочтительно до 50°, более предпочтительно до 40°.

10. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) и/или соотнесенные с одним пикселем из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей структуры выполнены так, что они выдают оптически переменную информацию, в частности один или многие 3D-эффекты и/или эффекты движения, предпочтительно создают ахроматические или монохроматические 3D-эффекты и/или эффекты движения.

11. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур и/или соотнесенные с одним пикселем из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей структуры из соотнесенных структур (3aa-3dd, 3e-3f) отображают, отклоняют и/или рассеивают электромагнитное излучение, в частности падающее электромагнитное излучение (6), под одним телесном углом, в частности под точечным телесном углом.

12. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) и/или один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей, включающей одну или несколько соотнесенных структур из одной или нескольких соотнесенных структур, соотнесены с двумя или несколькими группами структур и/или двумя или несколькими группами пикселей, в частности, причем группы из двух или нескольких групп структур и/или группы из двух или нескольких групп пикселей отличаются друг от друга.

13. Оптически переменный элемент (1а) по п. 12,

отличающийся тем,

что две или несколько групп структур из двух или нескольких групп структур и/или две или несколько групп пикселей из двух или нескольких групп пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) отображают, отклоняют и/или рассеивают электромагнитное излучение, в частности падающее электромагнитное излучение (6), под одинаковыми или различными телесными углами и/или предварительно определенными телесными углами, в частности точечными телесными углами, предпочтительно с близким к 0° углом раствора, и/или предварительно определенными телесными углами, предпочтительно телесными углами с различной формой и/или предварительно определенными телесными углами.

14. Оптически переменный элемент (1а) по п. 12 или 13,

отличающийся тем,

что две или несколько групп структур из двух или нескольких групп структур и/или две или несколько групп пикселей из двух или нескольких групп пикселей создают оптически переменную информацию, включающую 3D-эффект.

15. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна, или несколько, или все структуры (3aa-3dd, 3e-3f) и/или одна, или несколько, или все соотнесенные структуры дифракционно отображают, отклоняют и/или рассеивают электромагнитное излучение, в частности падающее электромагнитное излучение (6).

16. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что по меньшей мере одна матрица (2) пикселей по меньшей мере в одном направлении, по меньшей мере на отдельных участках, имеет отличную от нулевой кривизну.

17. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что по меньшей мере один боковой размер одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей составляет между 5 мкм и 500 мкм, предпочтительно между 10 мкм и 300 мкм, более предпочтительно между 20 мкм и 150 мкм.

18. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что один или несколько боковых размеров одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) в упомянутой по меньшей мере одной матрице (2) пикселей варьируются в одном или нескольких направлениях в пространстве в матрице (2) пикселей, в частности, по меньшей мере на отдельных участках, периодически, непериодически, псевдослучайно и/или случайно.

19. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что один или несколько боковых размеров одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) в упомянутой по меньшей мере одной матрице (2) пикселей варьируются вокруг среднего значения в одном или нескольких пространственных направлениях в упомянутой по меньшей мере одной матрице (2) пикселей, в частности, по меньшей мере на отдельных участках, максимально на ±70%, предпочтительно максимально на ±50%.

20. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что один или несколько пикселей из одного или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) в упомянутой по меньшей мере одной матрице (2) пикселей, в частности, по меньшей мере на отдельных участках, размещены периодически, непериодически, случайно и/или псевдослучайно в упомянутой по меньшей мере одной матрице (2) пикселей.

21. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) имеют период решетки, в частности, меньший, чем половина, предпочтительно меньший, чем треть, более предпочтительно меньший, чем четверть, максимального бокового размера двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f), предпочтительно каждого из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f), упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей.

22. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) имеют ограниченную максимальную глубину структуры, причем ограниченная максимальная глубина структуры, в частности, составляет менее 15 мкм, предпочтительно менее 10 мкм, более предпочтительно величину, меньшую или равную 7 мкм, еще более предпочтительно меньшую или равную 4 мкм, в частности, предпочтительно меньшую или равную 2 мкм.

23. Оптически переменный элемент (1а) по п. 22,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) сформированы таким образом, что ограниченная максимальная глубина одной или нескольких структур для более чем 50% пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) , в частности для более чем 70% пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) , предпочтительно для более чем 90% пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) , упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей меньше или равна 15 мкм, в частности, меньше или равна 7 мкм, предпочтительно меньше или равна 2 мкм.

24. Оптически переменный элемент (1а) по п. 22 или 23,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) сформированы таким образом, что ограниченная максимальная глубина одной или нескольких структур для всех пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) меньше или равна 15 мкм, в частности меньше или равна 7 мкм, предпочтительно меньше или равна 2 мкм.

25. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) отличаются друг от друга, или подобны друг другу, или одинаковы, или идентичны.

26. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) выполнены как ахроматически отклоняющие структуры, предпочтительно как эшелетт, в частности линейный эшелетт, причем, в частности, период решетки ахроматически отклоняющих структур составляет более 3 мкм, предпочтительно более 5 мкм, и/или причем, в частности, более 70% пикселей, более предпочтительно свыше 90% пикселей, в частности, предпочтительно каждый пиксель (2aa-2dd, 2e-2f) из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей включает по меньшей мере два периода решетки.

27. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что на ахроматически отклоняющие структуры в одном или нескольких пикселях из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) в упомянутой по меньшей мере одной матрице (2) пикселей накладываются дополнительные микроструктуры и/или наноструктуры, в частности структуры линейных решеток, предпочтительно структуры крестообразных решеток, более предпочтительно структуры субволновых решеток.

28. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур (3aa-3dd, 3e-3f) из одной или нескольких структур выполнены действующими как выпуклые или вогнутые микролинзы и/или участки микролинз, в частности как микролинзы с отражательным действием и/или участки микролинз, причем, в частности, фокусное расстояние одной или нескольких структур составляет между 0,04 мм до 5 мм, в частности от 0,06 мм до 3 мм, предпочтительно от 0,1 мм до 2 мм, и/или причем, в частности, фокусное расстояние в направлении X и/или Y определяется уравнением

,

причем предпочтительно Δ_X,Y представляет соответствующий боковой размер одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей в направлении X или соответственно в направлении Y и представляет соответствующий телесный угол в направлении X или соответственно в направлении Y, в котором одна или несколько структур отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение.

29. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) выполнены как цилиндрические линзы, причем, в частности, фокусное расстояние одной или нескольких структур является бесконечно большим.

30. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) выполнены как структуры микролинз Френеля, в частности, действующие как отражательные структуры микролинз Френеля, причем, в частности, линии решетки структур микролинз Френеля сформированы как изогнутые линии решетки и/или линии решетки имеют переменные периоды решетки, и/или причем, в частности, каждый пиксель (2aa-2dd, 2e-2f) из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей, предпочтительно по меньшей мере в одном пространственном направлении, включает по меньшей мере два периода решетки.

31. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) имеют выступы числом по меньшей мере 2, в частности по меньшей мере 3 выступа, предпочтительно по меньшей мере 4 выступа, предпочтительно на один пиксель (2aa-2dd, 2e-2f).

32. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что более 70% пикселей, в частности более 90% пикселей, из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) в упомянутой по меньшей мере одной матрице (2) пикселей имеют одну или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f), которые имеют выступы числом по меньшей мере 2, в частности по меньшей мере 3 выступа, предпочтительно по меньшей мере 4, предпочтительно на один пиксель (2aa-2dd, 2e-2f).

33. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) сформированы как хроматические структуры решетки, в частности как линейные решетки, предпочтительно как линейные решетки с синусоидальным профилем, и/или с нанотекстом, и/или с зеркальными поверхностями.

34. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) выполнены как субволновые решетки, в частности как линейные субволновые решетки, и/или как фасеточные структуры, причем предпочтительно период решетки субволновых решеток, в частности линейных субволновых решеток и/или фасеточных структур, составляет менее 450 нм, и/или причем, в частности, по меньшей мере одна подобная матрица (2) пикселей создает регистрируемый наблюдателем оптически переменный эффект, в частности регистрируемый наблюдателем дополнительный оптически переменный эффект, при наклоне оптически переменного элемента и/или упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей.

35. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) снабжены металлическим слоем и/или поглощают падающее электромагнитное излучение, причем, в частности, один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей могут регистрироваться наблюдателем в отражении как темно-серые до черного.

36. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) имеют HRI-слой, причем, в частности, один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей могут регистрироваться наблюдателем в отражении как цветные.

37. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) отображают, отклоняют и/или рассеивают падающее электромагнитное излучение псевдослучайным или случайным образом во всех пространственных направлениях, причем, в частности, один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей могут регистрироваться наблюдателем в отражении изотропно белыми, предпочтительно изотропно ахроматическими.

38. Оптически переменный элемент (1а) по одному из предшествующих пунктов,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур из одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) при изгибании элемента и/или упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей создают оптически переменный эффект, причем, в частности, в неизогнутом состоянии элемента и/или упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей может регистрироваться первый мотив и второй мотив может регистрироваться в изогнутом состоянии элемента и/или упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей.

39. Защищенный документ (1d), в частности, включающий один или несколько оптически переменных элементов (1а), в частности, по одному из предшествующих пунктов.

40. Защищенный документ (1d) по п. 39,

отличающийся тем,

что защищенный документ (1d) в одной или нескольких областях, в частности в одной или нескольких полосовидных областях, предпочтительно в одной или нескольких нитевидных областях, предпочтительно имеет один или несколько оптически переменных элементов (1а).

41. Защищенный документ (1d) по п. 39 или 40,

отличающийся тем,

что одна или несколько областей из одной или нескольких областей, в каждом случае включающие один или несколько оптически переменных элементов (1а), выполнены в форме полосы и/или в форме патча.

42. Защищенный документ (1d) по одному из пп. 39-41,

отличающийся тем,

что один или несколько оптически переменных элементов (1а) при рассматривании защищенного документа (1d) вдоль протяженного через защищенный документ (1d) вектора нормали к плоскости предпочтительно размещены по меньшей мере частично перекрывающимися.

43. Способ получения оптически переменного элемента (1а), в частности, по одному из пп. 1-38, предпочтительно элемента (1b) защиты и/или элемента (1с) декора, предпочтительно для защищенного документа (1d), в частности, по одному из пп. 39-42,

отличающийся тем,

что выполняют

создание по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей, включающей два или несколько виртуальных пикселей (4aa-4dd),

соотнесение по меньшей мере одного телесного угла с одним или несколькими виртуальными пикселями из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей,

размещение одного или нескольких виртуальных источников поля по меньшей мере в одной и/или на одной области или по меньшей мере одном сегменте по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, причем по меньшей мере одна область или по меньшей мере один сегмент по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла находится на первом расстоянии от одного или нескольких виртуальных элементов из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей,

расчет одного или нескольких виртуальных электромагнитных полей, исходящих из одного или нескольких источников поля на предварительно определенном расстоянии от одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу (4) пикселей поверхности, в частности плоскости,

расчет одного или нескольких фазовых портретов для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей из виртуального электромагнитного результирующего поля, состоящего из суперпозиции одного или нескольких виртуальных электромагнитных полей в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу пикселей поверхности, в частности плоскости,

расчет виртуальных структурных профилей для одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей из одного или нескольких фазовых портретов,

формирование виртуальных структурных профилей одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей в и/или на подложке в качестве по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей, включающей два или несколько пикселей (2aa-2dd, 2e-2f), причем один или несколько пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей имеют одну или несколько структур (3aa-3dd, 3e-3f), для создания оптически переменного элемента (1а).

44. Способ по п. 43,

отличающийся тем,

что по меньшей мере один соотнесенный телесный угол и/или по меньшей мере одна область по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла стягивает по меньшей мере один сегмент, причем, в частности, упомянутый по меньшей мере один сегмент соответствует по меньшей мере одному сегменту сферы, предпочтительно по меньшей мере одному коническому сегменту, причем половина угла раствора упомянутого по меньшей мере одного сегмента составляет менее 20°, предпочтительно менее 15°, более предпочтительно менее 10°.

45. Способ по п. 43 или 44,

отличающийся тем,

что виртуальные источники поля, которые, в частности, размещены в и/или на одном или нескольких участках по меньшей мере одного сегмента и/или по меньшей мере на одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, по меньшей мере в одном направлении периодически, и/или псевдослучайно, и/или случайно размещены на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков упомянутого по меньшей мере одного сегмента и/или упомянутой по меньшей мере одной области упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

46. Способ по одному из пп. 43-45,

отличающийся тем,

что расстояния между соседними виртуальными источниками поля составляют величину между 0,01 мм и 100 мм, в частности между 0,1 мм и 50 мм, предпочтительно между 0,25 мм и 20 мм, в и/или на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков упомянутого по меньшей мере одного сегмента и/или упомянутой по меньшей мере одной области упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла и/или что расстояния между соседними виртуальными источниками поля, в частности, составляют величину в среднем между 0,01 мм и 100 мм, в частности между 0,1 мм и 50 мм, предпочтительно между 0,25 мм и 20 мм, в и/или на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков упомянутого по меньшей мере одного сегмента и/или упомянутой по меньшей мере одной области упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

47. Способ по одному из пп. 43-46,

отличающийся тем,

что размещение виртуальных источников поля, в частности виртуальных точечных источников поля, осуществляют как крестовидный растр, предпочтительно эквидистантный крестовидный растр, в и/или на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков упомянутого по меньшей мере одного сегмента и/или упомянутой по меньшей мере одной области по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, причем расстояние между соседними виртуальными источниками поля относительно друг друга составляет между 0,01 мм и 100 мм, в частности между 0,1 мм и 50 мм, и/или причем угол между двумя смежными виртуальными источниками поля относительно друг друга, в частности относительно положения одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей, составляет менее 1°, предпочтительно менее 0,5°.

48. Способ по одному из пп. 43-47,

отличающийся тем,

что один или несколько виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля предпочтительно имеют форму микросимволов, в частности, выбранных из: букв, портрета, изображения, буквенно-цифровых знаков, шрифтовых символов, произвольных геометрических форм, квадрата, треугольника, круга, изогнутой линии, контура.

49. Способ по п. 48,

отличающийся тем,

что боковые размеры микросимволов на одном или нескольких участках из одного или нескольких участков упомянутого по меньшей мере одного сегмента составляют величину между 0,1° и 10°, в частности между 0,2° и 5°.

50. Способ по одному из пп. 43-49,

отличающийся тем,

что первая группа одного или нескольких виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля не может проецироваться на экран с расстояния 0,3 м, в частности от 0,15 до 0,45 м, и/или вторая группа одного или нескольких виртуальных источников поля из одного или нескольких виртуальных источников поля может проецироваться на экран с расстояния 1,0 м, в частности от 0,8 до 1,2 м.

51. Способ по одному из пп. 43-50,

отличающийся тем,

что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из одного или нескольких виртуальных источников поля, в частности из всех виртуальных источников поля, имеет одинаковую интенсивность и/или одинаковое распределение интенсивности в пределах упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла и/или в пределах упомянутой по меньшей мере одной области упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

52. Способ по одному из пп. 43-51,

отличающийся тем,

что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности от всех виртуальных источников поля, имеет распределение интенсивности в пределах упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла и/или в пределах упомянутого по меньшей мере одного сегмента и/или упомянутой по меньшей мере одной области упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла, которое проявляет гауссовское или супергауссовское распределение.

53. Способ по одному из пп. 43-50,

отличающийся тем,

что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности от всех виртуальных источников поля, имеет различные интенсивности и/или различные распределения интенсивности в пределах упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла и/или в пределах упомянутого по меньшей мере одного сегмента и/или по меньшей мере упомянутой одной области упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

54. Способ по одному из пп. 43-53,

отличающийся тем,

что виртуальное электромагнитное поле, которое исходит из двух или нескольких виртуальных источников поля, в частности от всех виртуальных источников поля, имеет изотропное или анизотропное распределение интенсивности в пределах упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла и/или в пределах упомянутого по меньшей мере одного сегмента и/или упомянутой по меньшей мере одной области упомянутого по меньшей мере одного соотнесенного телесного угла.

55. Способ по одному из пп. 43-54,

отличающийся тем,

что один или несколько виртуальных источников поля, в частности все из виртуальных источников поля, образуют виртуальные точечные источники поля, причем виртуальные точечные источники поля предпочтительно излучают виртуальные сферические волны.

56. Способ по одному из пп. 43-55,

отличающийся тем,

что виртуальное электромагнитное поле U_i, исходящее из i-х виртуальных точечных источников поля в месте (x_i, y_i, z_i), рассчитывают по меньшей мере по одной координате (x_h, y_h, z_h), в частности координате (x_h, y_h, z_h=0)=(x_h, y_h), в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей, и/или в и/или на протяженной по меньшей мере через одну виртуальную матрицу (4) пикселей поверхности, в частности плоскости, с помощью уравнения

.

57. Способ по п. 56,

отличающийся тем,

что виртуальное электромагнитное поле U_i включает одну или несколько длин волн, которые, в частности, находятся в видимой области спектра от 380 до 780 нм, предпочтительно от 430 до 690 нм, причем одна или несколько, в каждом случае смежные длины волн из одной или нескольких длин волн, предпочтительно в видимой области спектра, предпочтительно являются эквидистантно отстоящими друг от друга.

58. Способ по одному из пп. 56, 57,

отличающийся тем,

что виртуальное электромагнитное поле U_i включает одну или несколько длин волн, которые, в частности, находятся в инфракрасной, видимой и/или ультрафиолетовой области спектра, причем одна или несколько, в каждом случае соседние, длины волн из одной или нескольких длин волн, предпочтительно в инфракрасной, видимой и/или ультрафиолетовой области спектра, предпочтительно являются эквидистантно отстоящими друг от друга.

59. Способ по одному из пп. 56-58,

отличающийся тем,

что виртуальное электромагнитное результирующее поле U_p в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей и/или в и/или на протяженной через по меньшей мере одну виртуальную матрицу (4) пикселей поверхности, в частности плоскости, рассчитывают по уравнению

,

причем, в частности, рассчитывают виртуальные электромагнитные поля U_i, исходящие из i=1, ..., N_p виртуальных точечных источников поля, по меньшей мере на одной координате (x_p, y_p, z_p=0)=(x_p, y_p), и/или, в частности, опциональные опорные волны U_r*, предпочтительно по меньшей мере одну опциональную опорную волну U_r*, в по меньшей мере одной точке, или для параметра (x_p, y_p) в и/или на одном или нескольких виртуальных пикселях из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей, и/или в и/или на поверхности, в частности плоскости, протяженной через по меньшей мере одну виртуальную матрицу (4) пикселей.

60. Способ по одному из пп. 43-59,

отличающийся тем,

что одну или несколько фазовых портретов из одного или нескольких фазовых портретов преобразуют в виртуальный структурный профиль, причем фазовое значение 0 соответствует минимальной глубине и фазовое значение 2π соответствует максимальной глубине сформированных одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) упомянутой по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей.

61. Способ по одному из пп. 43-60,

отличающийся тем,

что виртуальный структурный профиль одного или нескольких виртуальных пикселей из двух или нескольких виртуальных пикселей (4aa-4dd) упомянутой по меньшей мере одной виртуальной матрицы (4) пикселей формируют посредством облучения лазером и проявлением на покрытой фоторезистом пластине, или с помощью электронно-лучевой литографии, в виде одной или нескольких структур (3aa-3dd, 3e-3f) одного или нескольких пикселей из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей.

62. Способ по одному из пп. 43-61,

отличающийся тем,

что одна или несколько структур (3aa-3dd, 3e-3f), сформированных в одном или нескольких пикселях из двух или нескольких пикселей (2aa-2dd, 2e-2f) по меньшей мере одной матрицы (2) пикселей, имеют оптическую глубину, в частности оптическую глубину в воздухе, от половины средней длины волны виртуального электромагнитного поля и/или виртуального электромагнитного результирующего поля.

63. Способ получения защищенного документа (1d), в частности, по одному из пп. 39-42, предпочтительно включающего один или несколько слоев, предпочтительно включающего один или несколько оптически переменных элементов (1а), в частности, по одному из пп. 1-39, и/или, в частности, полученные по одному из пп. 43-62,

отличающийся тем,

что один или несколько оптически переменных элементов (1а) нанесены как пленки для ламинирования и/или как пленки для тиснения на защищенный документ (1d) и/или на один или несколько слоев защищенного документа (1d) и/или внедрены в защищенный документ (1d) и/или в один или несколько слоев из одного или нескольких слоев защищенного документа (1d).