Светомодулирующее устройство

 

ОП ИСАЙ И

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Соки Советски

Социалистических

Респуолик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №вЂ”

Кл. 2lg, 4/07

Заявлено 08Х11.1968 (№ 1253291 26-25) с присоединением заявки %в

Приоритет—

Опубликовано 14.Х.1970. Бюллетень ¹ 32

Дата оп убли кова,нация о п иса.зия 15.III.1971

Комитет ио делам изобретений и открытий цри Совете 1йииистров

СССР

МПК G 02f 1/28

УДК 535.241.13 (088.8) Автор изобретения

А. С. Фомин

Заявитель

Ленинградский электротехнический институт связи им. проф. М. А. Бонч-Бруевича

С В ЕТОМОДУЛ И РУЮ ЩЕЕ УСТРО Й СТВО

Известны светомодулирующие устройства, применяемые для построчной записи изображений, образующие на поверхности фотослоя пишущее пятно прямоугольной формы, высога которого определяется линиатурой растра. Модулируют пишущее пятно одновременно по двум параметрам: по освещенности — для воспроизведения полутонов изображения, и в противофазе с ней (с меньшим коэффициента . модуляции) по высоте — для компенсации фотографического расширения строк.

Недостатком устройства является необходимость применения двух модуляторов, что усложняет конструкцию устройства и затрудняет его эксплуатацию.

Целью изобретения является устранение междустрочных полос при записи изображения в устройстве с одним модулятором. Предложенное устройство отличается от известных тем, что в плоскости оптического клина переменного пропускания установлена маска с вырезом клиновидной формы, наибольшая ширина которого расположена в области максимальной плотности клина. С целью одновременной модуляции пищущего пятна по высоте, независимо от коэффициента модуляции освещенности, боковые створки маски выполнены подвижными и механически связаны между собой.

Схема предложенного устройства изображена на фиг. 1; на фиг. 2 показана пр;гмерная форма маски и ее положение относительно оптического клина переменного пропускания; на фиг. 3 поясняепся апособ одновременной модуляции пишущего пятна по освещенности и ло высоте; на фиг. 4 приведена кинематичвская схема устройства, изменяющего форму выреза маски с целью изменения коэффициента модуляции пятна по вьвсоте.

10 Приведенная на фиг. 1 схема усгройства включает в себя эиапонирующу1о лампу 1, кондансор 2, оптический IKJIHH 8 переменного IIp0пускания, механическую ма ску 4, объектив 6, зеркальце 6 модулятора, диафрагму 7 с прямоугольнычм вырезом, коллектив 8, объектив 9 и барабан 10 устройства с закрепленным 13 нем фотоматериалом.

Светящееся тело лампы накаливания изображается конденсором 2 и объсктивом 5 на по20 верхности модуляционного зеркальца 6. Изображение нити лампы в плоском зеркальце 6 коллективом 8 переносится,во входное отверстие объектива 9. Вблизи:конденсатора ра сположен оптический клин 8,переменного пропу2) скания и маска 4. Совмещенные клин и маска объекти вом 5 проецируются е плоскость диафрагмы 7, образуя на ней оптическое изображение клиона, ограниченное вырезом маски т.

Распределение освещенности в этом пзображе30 нии определяется законом изменения плотпо3

284179 сти клина 8, а форма изображения повторяет форму выреза маски.

Прошедшие диафрагму 7 пучки лучей напр,авляюгся коллективом 8,в объектив 9. Объектив образует tHB повархности барабана пиш ущее .пятно постоянной ширины, которая определяется размером а,прямо тольного выреза диафрагмы 7 (см. фиг. 3). Освещонность лишущагО пят на зависит От плотности ТОГО участка кл ина, который проецируется в отверстие диафрапмы, а,высота .пятна определяется расстоянием В„между боковыми сторонами выреза маски на этом участке клина.

При поворотах зеркальца б 0под,воздейс"вием электрических сигналов) оптическое изображение:маски смещается в плоокоспи диафрагмы, поэтому,в отвер стие по|следней будут пр оецироваться различные участки из ображсния с,различной освеще нностью и разной ширины. При этом будет изменяться освещенность пишущего пятна,на поверхности фотослоя,и одновременно, в .зав ислмоcT И от формы маок|и, изменяться, высота, пятна.

Для усгранения меидустрочных полос, возникающих вследствие pBlciceHHHII авета в фотосл ое, Bbilcoòó пятна необходим о изменять в п ротивофазе с изменением освещенности. С этой целью маску располагают так, чтобы ширин1 ее выреза уменьшалась с уменьшением о птпческой плотности клина, как показано iB фиг. 2. На фиг. 3 пунктиром показаны два положения оптического изображения маски ч» поверхности диафрагмы 7. Положение 1 соответствует малой освещенности пятна при большей его.высоте, положение II — большей осв:щенност и при меньшей, высоте пятна.

Конфигурация боковых, сторон выреза;маски определяется законом, по которому измсняется оптическая, плотность клина. Если плотность клина по его длине меняется по линейному закону, боковые iczopoiII I выреза,маски должны быть выполнены:в форме логарифм ичеоиих кривых, как условно показа но на фиг. 2 и 3. В случае лога ряфмического,клипа боковые стороны маски вьптолняют прямолпнейньгми, как изображено на фиг. 4.

Для изменения коэффициента модуляции пятна по вы соте путем:изменения угла между

còBiîðêB ìH ма оки могут быть иапользова ны мсхан ические устройства, различных тынов. К;I5 нематичеокая.:схема одного из них показана на QlHii. 4, где 11 .и 12 — псдвижные cimoipiiu! маски, 13 — регул и ровочный кл ин, 14 и 15— плоские пружинны,,осуществляющие кинематпчаское замы канне,деталей ус11ройспва.

I0 Створки ма аки,вы(полнены качающимися вокруг осей, расположенных на концах створок. Расстояние между асями, а следовательно, и ширнина выреза ма аки .в этом месте прп поворотах стнорок остается неизменной. Pa=15,стояние между вторыми концами створок может изменятыся. Оно определяется положением подвижного клина, который имеет возм оин ость пере м ещатыся по н аяр а вления м, указанным стрелками. При движении клина .вниз

20 верхние концы творо!к ра сходятся и угол между ними уьменьшается. Коэффициант модуляции пятна по высоте при этом также уменьшается, Оп становится ра вным нулю, когда створки станут параллельны одна др угой.

Предмет изобретения

1. Светомодулирующее устройство для зап:иси,на светочу вствителыном матер нале методом

30 сканирования, содержащее экспонирующу,о лампу, оптичеокий клин переменного,проп;скания, зеркалыный модулятор и диафрагму с прямоугольным вырезом, Отличающееся там, что, с целью устранения междустрочных полос

35 при записи,изображения, в плоскости оптического клина, переменного пролускавия установлена маска с .вырезом клиновидной формы, наибольшая ширина которото:расположена в области маисимальн|ой плотности,клина.

40 2. Устройство по п. 1, отличающееся там, что, с целью изменения коэффициента модуляции высоты пишущего пятна, независимо от коэффициента модуляции освещенности того же пятна, боковые створки мааки выполнены

Is подвижными и механически авязаны между со бой, 284179

Фиг 3

4 г /

Фиг 9

Составитель И. Н. Крупенникова

Редактор Г. С. Антропова Техред T. П. Курилко

Корректор А, П. Васильева

Заказ 7947 Тираж 480 Подписное ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, К-35, Раушская наб., д. 4/5

Областная типография Костромского управления по печати