Устройство для закрепления подложек в вакуумных установках

 

О П И С А Н И Е 316762

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

C0IG3 Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 09.1.1969 (¹ 1295635/22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 07.Х.1971. Бюллетень № 30

Дата опубликования описания ОЗ.XI.1971

МПК С 23с 13/08

Комитет по делам иаобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.793.14.002.51 (088.8) Автор изобретения

Ю. А. Шепрут

Заявитель

УСТРОИСТВО ДЛЯ ЗАКРЕПЛЕНИЯ ПОДЛОЖЕК

В ВАКУУМНЫХ УСТАНОВКАХ

Предмет изобретения

Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий.

Известно устройство для закрепления подложек в вакуумных установках, содержащее подложкодержатель, контактные элементы и термопару. Однако в известном устройстве для фиксации подложкодержателя требуется отдельный крепеж, что усложняет схему подложкодерж ателя.

Предлагаемое устройство отличается тем, что контактные элементы и термопара закреплены на одном основании и выполнены в верхней части в виде штырей, на которые опирается подложкодержатель. Это обеспечивает удобство смены подложкодержателя, На фиг. 1 представлено предлагаемое устройство, вид спереди; на фиг. 2 — то же, вид сбоку.

Устройство состоит из подложкодержателя

1, контактных элементов 2 и термопары 3, Контактные элементы 2 и термопара 8 закреплены на одном основании 4 и выполнены в верхней части в виде штырей, на которые опирается подложкодержатель. Контактные элементы и термопара служат опорами для устанавливаемого на них подложкодержателя, в котором имеются два контактных элемента 5, соединенных со свидетелем б, и углубление для размещения спая 7 термопары.

Контактные усилия составляют примерно одну треть от веса подложкодержателя, т. е. величину порядка 30 — 50 г, что является

I0 достаточным для получения надежного контакта.

1s Устройство для закрепления подложек в вакуумных установках, содержащее подложкодержатель, контактные элементы и термопару, отличающееся тем, что, с целью обеспечения удобства смены подложкодержателя, 20 контактные элементы и термопара закреплены на одном основании и выполнены в верхней части в виде штырей, на которые опирается подложкодержатель.

2 6

Составитель А. Резник

Редактор T. Фадеева Техред 3. Н. Тараненко Корректор Е. Н. Миронова

Заказ 3099/8 Изд. № 1298 Тираж 473 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений л открытий при Совете Министров СССР

Москва, 7К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Устройство для закрепления подложек в вакуумных установках Устройство для закрепления подложек в вакуумных установках 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к нанесению тонкопленочных покрытий в вакууме, в частности защитных, износостойких и декоративных покрытий на изделия из различных материалов

Изобретение относится к машиностроению, в частности к нанесению покрытий в вакууме, и может быть использовано при нанесении покрытий на режущий инструмент, изготовленный из сталей, твердых сплавов и керамических материалов

Изобретение относится к микроэлектронике и направлено на обеспечение минимальной неравномерности покрытия подложки тонкой пленкой распыляемого материала

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом ультрадисперсных порошков и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия

Изобретение относится к области получения высокотемпературных материалов, используемых для защиты от окисления и газовой коррозии и в качестве защитных покрытий термонагруженных деталей газовых турбин и двигателей внутреннего сгорания

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано для получения толстых пленок металлов при изготовлении, например, разводки коммутационных плат

Изобретение относится к материаловедению, а именно к способам изготовления преимущественно износостойких, прочных и жаропрочных материалов на металлической, металлокерамической или полимерной основе, а также изделий из этих материалов

Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах

Изобретение относится к устройствам взрывного испарения с резистивным нагревом для испарения металлов
Наверх