Способ изготовления матриц

Авторы патента:

G03F1 - Подготовка оригиналов для фотомеханического изготовления рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком (фотомеханические процессы вообще G03F 7/00)

3189 00

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 08.11.1967 (№ 1131264/28-12) МПК G 0311/00 с присоединением заявки №

Приоритет 10.VIII.1966, № wp57d/119219, ГДР

Опубликовано 28.Х.1971. Бюллетень № 32

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 655.226 (088.8) Дата опубликования описания 23.XI I.1971

Автор изобретения

Заявитель

Иностранное предприятие

«Институт фюр графише Техник» (Германская Демократическая Республика) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАТРИЦ

Известны способы изготовления матриц для ручного фотонабора, заключающиеся в том, что на форму высокой печати наносят пластическое покрытие, после отделения которого и подрезки в полученные углубления очка матрицы наносится белая эмаль.

С целью меньшей подверженности матриц механическим повреждениям и возможности повторного изготовления матриц по предлагаемому спосооу после первичного изготовления пластмассовых матриц путем тиснения, производимого под давлением с нагревом, изготавливают гальваническим способом медное или никелевое клише, причем первичные матрицы сохр аняются в качестве оригинальных вместо свинцового набора. С полученных клише повторно из черной полиметакрилатовой пластмассы прессованием при температуре 140 вЂ” 160 C изготавливают вторичные матрицы с углубленным очком, которые и служат после заполнения очка белой краской и разрезки на отдельные литеры исходным материалом для фотонабора. Причем, после получения вторичной матрицы, она склеивается с прозрачной пластмассовой основой. Отдель5 ные литеры равняются по росту и на них наносятся сигнатуры.

Предмет изобретения

Способ изготовления матриц для ручного

10 фотонабора, заключающийся в том, что с формы высокой печати тиснением получают матрицу, углубления которой заполняют краской, отличающийся тем, что, с целью уменьшения механических повреждений мат15 риц и возможности повторного их изготовления, с матрицы изготавливают металлическое клише, с которого осуществляют тиснение второй матрицы из пластмассы, например полиметакрилата, и разрезают ее на отдель20 ные элементы, составляющие ручной фотонабор.

Похожие патенты:

Проекционный координатограф // 290489

Способ получения светочувствительных материалов // 289389

Способ изготовления цветных оригиналов для полиграфического воспроизведения // 283829

Способ изготовления фотош.лблонов для многослойных печатных пленочных плат // 280594

Способ воспроизведения чертежей // 276973

Способ изготовления трафаретов // 272407

Патент 271599 // 271599

Способ изготовления макетов для получения стереоскопических изображений // 270497

Крофотонаборное устройство для изготовления // 263414

Способ изготовления чертежей // 261397

Фотошаблонная заготовка // 2206115

Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к фотошаблонным заготовкам, являющимся исходным материалом для получения шаблонов

Фотошаблонная заготовка // 2206115

Способ получения фотошаблонных заготовок // 2319189

Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к фотошаблонным заготовкам, предназначенным для получения шаблонов с последующей передачей рисунка микроизображения на полупроводниковую пластину при изготовлении интегральных схем

Стеклянная подложка большого размера для фотошаблона и способ изготовления, считываемая компьютером среда записи и способ экспонирования материнского стекла // 2340037

Изобретение относится к стеклянным подложкам большого диаметра, пригодным для формирования подложек фотошаблонов стороны матрицы и стороны цветного фильтра в жидкокристаллических панелях на тонкопленочных транзисторах

Способ структурирования поверхности прессованного листа или бесконечной ленты // 2412814

Повторное использование крупноразмерной подложки фотошаблона // 2458378

Устройство для экспонирования // 2012917

Изобретение относится к электронной технике

Способ устранения дефектов в маскирующем покрытии фотошаблона // 2017190

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано для устранения прозрачных дефектов типа "прокол" в маскирующем покрытии фотошаблонов (ФШ) в производстве полупроводниковых приборов, интегральных микросхем и устройств функциональной электроники

Способ формирования маскирующего слоя фотошаблона // 2017191

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано для формирования маскирующего слоя и устранения прозрачных дефектов фотошаблонов в производстве полупроводниковых приборов, интегральных микросхем (ИМС) и устройств функциональной электроники (УФЭ) высокой степени интеграции