Способ изготовления антистатической основы для кинофотоматериалов
35659
Кл. G 03c f/82 из
К 771.521.35(088.8) Авторы изобретения
E. К. Подгородецкий, P. А. Сорокина, А. Б. Алишоева, Л. М. Богданов и Н. П. Колотилова
Всесоюзный государственный научно-исследовательский и проектный институт химико-фотографической промышленности
Заявитель
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ АНТИСТАТИЧЕСКОЙ ОСНОВЫ
ДЛЯ КИНОФОТОМАТЕРИАЛОВ
Известен способ обеспечения антистатической защиты кинопленок путем нанесения на обратную сторону фотоматериала лакового слоя, содержащего натриевую соль продукта конденсации п-крезилгликоля с а-оксибензойной кислотой (лак «ОК») или натриевую соль сополимера метилметакрилата и метакриловой кислоты.
Однако при нанесении эмульсионного слоя на обе стороны подложки (например, в случае изготовления рентгеновских, фототехнических и других пленок) антистатический лак применять нельзя, так как на обе стороны подложки наносится подслой для,скрепления эмульсионного слоя с подложкой. В этом случае подслой должен не только обеспечивать скренление подложки с эмульсионным слоем, но и обладать антистатическими свойствами, чтобы исключить возникновение зарядов при поливе эмульсионного слоя.
Отсутствие подслоя с антистатическими свойствами делает практически невозможным полив эмульсио нн ых слоев H B высокоскоростных машинах с интенсивной сушкой эмульсионного слоя.
С целью обеспечения универсальной антистатической защиты кинофотоматериалов по предлагаемому способу полимерную основу с подслоем, содержащим вещества с кислыми группамп, пропускают через кн вет со спиртовым раствором щелочи. После обработки пленку высуш ив а ют,п р и 70 — 75 С.
Полимерная подслоированная основа, обработанная таким образом, имеет хорошую
5 адгезию к эмульсионному слою; поверхност»ое сопротивление основы после обработки
1 ° 10 ом — 1 ° 10 ом при относительной влажности 65%. Такая основа имеет хорошую прозрачную поверхность. Основа, обработанl0 ная 0,01 — 0,06 н. раствором щелочи, после высушива ния при смотке в рулон не слипается.
П,р и м еу 1. Подслоированную триацетатную основу обрабатывают в кювете с по15 мощью купающего валика 0,045 н. раствором
КОН в метиловом спирте и высушивают при
70 — 75 С. Затем на а нтистатический подслой наносят обычным методом фотографический эмульсионный слой. Удельное ловерхностное
20 сопротивление антистатического подслоя при влажности 65% 0,2 10 ом.
Контрольный образец без обработки: удельное поверхностное сопротивление при относительной влажности 65% 0,4 10 4 ол.
Пример 2, Двухосноориентированную и термофиксирован ную подслоированную полиэтилентерефталатную основу обрабатывают, как в примере 1, 0,04 н. раствором КОН в
30 этиловом спирте и высушивают при 70 — 75 С, 335659
Предмет изобретения
Составитель )К. Дубовик
Техред 3. Тараненко Корректор Л. Царькова
Редактор 3. Горбунова
Заказ 1340/10 Изд. № 555 Тираж 448 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, 7К-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 после чего наносят эмуль сионный слой;Злектропроводность подслоя при относительной влажности 65% 0,9 10 ом.
Контрольный образец без обработки: электропроводность .подслоя при относительной влажности 65% 0,1 10 4 ом, Способ изготовления антистатической основы для кияофотоматериало|в, отличающийся
5 тем, что, с целью обеспечения универсальной антистатической защиты кинофотоматериалов, полимерную основу с подслоем, содержащим вещества с кислыми.группами, обрабатывают раствором щелочи.
