Патент ссср 357547

 

О Л И С А H И Е 357547

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Сеюа Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №. 1. Кл. 6 03f 7/08

11 051 3/00

G 05с 1/52

Заявлено 02.Х11.1970 (№ 1607392/26-9) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 31.Х.1972. Бюллетень № 33

Дата опубпиковагн(я описания 1.XII.1972

Комитет ло делам изобретений и открытий лри Сове(е Министров

СССР

Уг1К 771.531(088.8) Авторы

;(зобретения H. В. Макаров, В, Г. Никольский, Н. Д. Тимерова и Д. Д. Мозжухин

Заявитель

gpi=- СНОЗНА

": (з . : *-" 1(!" т

ФОТОРЕЗИСТ

Предмет изобретения ю, ю

- - "СНО - СООН

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано при изготовлении .печатных плат, твердых схем, пленочных пассивных элементов и т. д.

Известны фоторезисты, состоящие из пленкообразующсй основы, светочувствительной компоненты и растворителя.

Цель изобретения — получение негативного изобра>кения наряду с позитивным и упрощение технологии изготовления фоторсзиста.

Цель достигастсrI тем, что в качестве светочувствительной компоненп фоторсзнста использован! а1>имат((чес кис ортонитроальдсгиды.

Известно фотохимическое превращение аромати«сских ортонитроальдегидов г, нитрозокарбоновыс кислоты.

При проявлении фоторезистов, содер>кащ>1х ароматические ортонитроальдегиды, орга:(ическими ароматическими растворителями получают негативное изображение вследствие

5 нерастворимости нитрозокислот в органических растворителях. В случае обраоотки щелочнымн проявителями получают позитивное нзобра>кение.

Фоторезист, состоящий из пленкообразую15 щей основы, светочувствительной компоненты и растворителя, отлп (аюп(п((ся тем, что, с целью получения негативного изображения наряду с позитивным и упрощения технологии изготовления фоторезиста, в качестве све20 точувствительной компоненты использованы ароматические ортонитроальдегиды,

Патент ссср 357547 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к фторполимеризующимся композициям для сухих пленочных фоторезистов водно-щелочного проявления, находящих применение для получения рисунка при изготовлении печатных плат в радиоэлектронной промышленности
Изобретение относится к фоточувствительным материалам на основе оксидов цинка и/или титана в связующем
Изобретение относится к термопроявляемым фотографическим материалам на основе водопроницаемых полимеров с добавками солей металлов и может быть использовано в системах записи оптической информации

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Изобретение относится к способам получения фоточувствительных слоев сульфида свинца, которые применяют при изготовлении полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению
Изобретение относится к фоторефрактивному полимерному материалу с высокой дифракционной эффективностью в ближней инфракрасной области электромагнитного спектра и может быть использовано в оптоэлектронных устройствах, в процессах записи динамических голограмм в реальном масштабе времени и других фотонных технологиях

Изобретение относится к составу для светочувствительного слоя фотоматериалов, которые могут быть использованы в системах записи информации, для получения изображения в фотографии и полиграфии

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности
Изобретение относится к нанотехнологии и направлено на создание нанокомпозиционных материалов с эффективно управляемыми оптическими свойствами, которые могут быть использованы в нелинейной оптике, информационной технике, при разработке средств оптической памяти и т.д
Наверх