Рельефная литографская пластина
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К ПАТЕНТУ
< >424372
Совз Советских
Социалистических
Республик (61) Зависимый от патента— (22) Заявлено 11.09.69 (21) 1364853/23-4
;51) М. К, 6 03с 1/68 (32) Приоритет 11.09.68 (31) 64952/68
05.11.68 80382/68 (33) Япония
Государственный комитет
Совета Министров СССР оо делам изобретений и открытий
Опубликовано,15.04.74. Бюллетень М 14
Дата опубликования описания 25.06.75 (53) УДК 773.92.776 (088.8) (72) Авторы изобретения
Иностранцы
Хисааки Фукуи, Такетоши Араки и Йошикане Фучи (Япония) Иностранная фирма
«Асахи Касеи Когио Кабусики Кайся» (Япония) (71) Заявитель (54) РЕЛЬЕФНАЯ ЛИТОГРАФСКАЯ ПЛАСТИНА
+В,— 0х содержащая
15
 — ) где
- -ICH2IW : 111зооретение от-IocIITcH к новым фотополимсриз1 iox Hм ся раствор» м, 11спользу с мы и д, I я изготовления печатных пластин, в частности рельефных литографских плаcTHí.
Известна пласт;1на, состоящая из подложки и фотополимеризующегося слоя, содержащего ненасыщенное этиленовое соединение, полиэфиракрилат, например диэтиленгликольдиакрилат, высокоплавкое термопластичное полимерное связующее, например поливиннлацеталь, инициатор фотополимеризации, ингибитор фотополимерлзации. Однако печатиые пластины с известным фотополимеризующимся слоем обладают небольшой прочностью сцепления:1 устойчивостью участков изоора>кения K соскабливанию. С одной Ii;IBcTHHbI можно получ;1ть в среднем 50 000—
60 000 оттисков.
Цель изооретенпя — получение рельефных литографских пластин, обладающих повышенной устойчивостью к истиранию и износу во время пе:атного процесса. С одной пластины можно получить более 300 000 оттисков.
Эта цель достигается при ис1пользовании пластины, состоящей из подложки и фотополимеризующегося cëoÿ, имеющего вязкость
5 — 150 спз при температуре 20 С и включа1ощего ненасыщенный сложный полиэфир с то1кой плавления выше 100 С, молекула которого включает:-:е eiiåå одного звена, состоящего пз звена фсрмулы где К1 — алкилсновая группа, 2 — 4 атома углерода, X — число от 2 до 100, и звена формулы или нафтиленовая -руппа, 25 Y — число 2 — 4, Z число 1 — 10, V — число 1 — 4, и звено, представляющее остаток ненасыщен:,ной дикарбоновой кислоты, ненасыщенный Мономер с этиленовыми связями в количестве
424372
10 †1 вес. ч., c«it7 Bя : а 100 ве-.. ч. пенасыше,:i:iolî .слож ioto !Полпэ<1)ира, инициатор
<))0ToHo7ItxIepI(3Bt;iIH в ко1пчестве 0,01 — 5 вес. ч., считая на 100 зсс. ч. непасышенного сложного полиэфира,:((с ме((ее одного органическоГО pBCTI30p! ITe,lH, а . аl<ТСрнзмемОГО ОТИОcHòcëüíой скорОстью выcûхапп)! 500 10 000 гири слое толщиной 1Π— 200 iiK.
Где Ri — алкплепозая ".pi пппроВка, и)lеlощая от 0 до 4 атомов у"лерода;
Х вЂ” целое чпс,1о 2 — 100, или «слож:(оэфпрпым диолом» формулы выбираемый пз Группы, где R, — члсп, состоящей из и нафтиленовой группы; Ъ" =- 2 — 4; 7 =- 1 — 10;
)Л = 1 — 4, ил((смеси п;; вторым реагентом с1ужит неиасыц(eнttаЯ д:1: Bpб)oпoзая к!(слота пли ее производное.
Указанные эфиро|дио Ihi !вкл(очают полиэтилснгликоли, имеющие от 2 to 100 — CH.— СН)О-гр), t(III(poBOK в основнои цени; полипропилеHãëèêîëè, имевшие от 2 да 100 — С1-1 СН (СНд) О-()р)"пп ipoao! Ил:, — CFI CI I,.
СН О-группировок в основнои дспи; по7ибhтенгликоли, имеющие от 2 до 50 — СН С1-1, СН СН 0-группировок в основной цепи и кополи- (оксиэтилеп - оксипропиле(() гликоли, имеющие от 2 до 50 — CH CH O — групп и
Рельефпыс:I: òoãðBôcK:Ip платины, соответствующие да((:(ому изооретеншо, являются нОВыъ(и печ с7тс(ы 1(и пл састпи а )I и. Они 00 1 ада ют Г(роме>куточп(.(м..l KBpB(< еристпка(11 между теми из них, которые относятся к л((тогзафским пластинам (к пласти:(ам для сухой офсетной печат((. Прп печатании с помощью таких пластин пр:.(:)(еняются обычные
ОфестНЫЕ ПЕЧсlТсlЮIЦIIP Мс(Ш:ШЫ.
Если то i(i(11(lit слоя на участке изображен !я составляет 150 — 200,(гк, TD возможно Itpèìeíc(нпс сухой офсетной испат:(.
Ненасыще) 1! (йЯВ 70.1иэфир голучают посредством проведен(я обычной реат<цпи кo.iденсации между эф.(рдиолом». пмеюШим формулу
I-I0 -- (К, -- О) — I-I, — СН)С11(СН;) Π— гРУпп соотвст=твен: о в Îcновной цепи.
С:io>1 i!hie эф!Гроднол(» стро получить путем peBK(illll конденсаи:(и между полимстиленглико.1ем. имеюшим форм\ лу, НΠ— (CI-! ) ) — ОН, где Y = 2 — 4,:! ароматической дпкарооновой:<пслотой пл,. :се
NCTII,70ÂÛ !(, с! Тсl КЖС ЭТПЛОВЫ М Эйиpo):, Ii )IOK)(О (ц(! )(фор )!у г(О 0
)! ч
1<;,— Π— С вЂ” 1< — С вЂ” Π— R.„, 15 где Яг — — означает члс«I, выо:IPBåìûé !(3 -РУИпы, состояШЕй:13
20 (СI-I- 25 и пафтплс:(овой группы; 1<) член, в((арлемый из группы, содержащей атом во(оро а, метильпую и этпльну!о групгы; )6 = 1 — 4.
i КЯЗа П П Ь(С <, 1 ожио )
Л вЂ” Г(роведенис реп к(гни взBI:)(оде) (стви(1
ЗIЕЖДгУ ПОЛИМЕТИЛЕНГЛ:(КО:IЕМ .!, Нап17:(МС,3, С Л 0 К Н Ы М Д И (С т И Л 0 В Ы М Э с() П Р 0 М с7 Р 0 . (с! Т: (с(Сской дикарбоповой кислоты 3 атмосфере инертного Газа Ipl температуре, вы<)праемо(! в пределах 150 — 300 С, взятым 3 TBх((х кол;(чествах, чтооы обеспеч(ггь получе:ше слож. оэфирного диола, имевшего требуему(о с-.епснь полимеризации или желаемы((молеку40 лярный вес. Образующийся в результате проведения pc(I! I:,iii! метанол oTTO:(я(от. Спосос Ь заключается 3 добавлен lt одно"0 itл:I оольшего числа молей полиметиле гликоля, например, к диметиловому эфиру аромат:.(ческой
45 .(икароо)(ово:;;<:(слоты В атмосфере iHepT:(ого газа пр(i. температуре, выоираемой в npege IB. < 150 200 С. Обрс)з, OLHl(I(CH отгоняют, !17ослс чего и зыша(от температуру оставшейся реакционной смеси Hî температу50 ры, iiaxoдящейся в пределах 200 — 300 С. 3 случае необходимости образующийся по1иметиленгликоль отгонгпот пр((умепьше;(пом 10оавлении с таким рас (етом, iToohl обес IPiKITh получение сложпоэфириого 11(ола, пме(0)пего
55 трсГ)уе)!у(0 степень по1имеризац(i» ил,i:желаемый молекуляр (ый вес.
V, числу полимет((ле((гл;11 олей относятся, например, этилснглико1h; 1 3-пропанд (о,1
1,4-бутаидиол.
50 Лроматичсские дикарбопозые кислоты ил:t их метиловый и этиловый сложные эфиры, примсняемыс для получения слож:- оэфирных диолов включают: терефталевую к;(слоту; гг, 22-дифснилд(п<арбоновую кислоту; бис- (и65 карбоксифснил) -пропан; 1,4-бис - (22-карбоксифепил) -бутан; 1,5-нафталиндикарбоновую кис424372 лоту; 1,2-нафталиндикарбоновуlo кислоту;
2,6-нафталиндикарбоновую кислоту; 2,7-нафтал)шдикарбоновую кислоту н их диметиловый и диэтиловый сложные эфиры.
Примерами ненасыщенных днкарбоиовых кислот и нх производных, применяемых для получения ненасыщенного сложного полиэфира, служат. малеиновая;кислота, фумаровая кислота, цитраконовая кислота, метаконовая кислота, итакоиовая кислота, глютакоиовая кислота, мукоиовал кислота, аконитовая кислота, их сложные эфиры, образованные низшим спиртом, в частности их диметиловый и диэтиловый сложные эфиры; малеииовый ангидрид, цитракоиовый ангидрид.
Для изменения твердости или гибкости слоя, спосооного полнмеризоваться при освещении, — свойств, приооретаемых после проведения фотополпмеризации посредством вариироваиил эквивалента двойной связи (молекулярного иа одну двойную связь) в составе сложного ненасыщенного полнэфнра, — часть звена, соответствующую ненасыщенной карбоновой кислоте или ес производного, можно заменить насыщенной дикарбоновой кислотой или производным этой кислоты. Если количество такой насыщенной дикарбоновой кислоты нли ее производного превышает 90 мол. по oT)ioшению к ненасыщенной дикарбоновой кислоте или ее производного, то химическая устойчивость и прочность на растяжение слоя, полнмеризующегося при освещении после прове дения фотополимер)!за ции, !будут,неблаго)прнятно малыми.
Такие насыщенные дикарбоновые кислоты я их производные включают, например, малоновую кислоту, метнлмалоновую кислоту, янтарную кислоту, метилянтарную кислоту, глутаровую кислоту, себациновую кислоту, фталевую кислоту, нзофталевую кислоту, терефталевую кислоту и Нх сложные эфиры, образова1)ные низшим спиртом, таким как диметиловый и диэтиловый сложные эфиры.
Ненасыщенные полиэфнры, соответствующие настоящему изобретению, получают путем проведения реакции между упомянутым эфирод!иолом или »помянуты!м сложноэфириым диолом или же смесью этих диолов 1) упомянутой ненасыщенной дикарбоновой кислотой нлн ее производным и в случае необходимости упомянутой насыщенной днкарбоновой кислотой нли ее производным, причем реакцию проводят в инертной атмосфере прн температуре 150 — 300 С. Полученные ненасыщенные полиэфиры имеют температуру плавле:)яя, превышающую 100 С.
Примерам:I мономеpов,,ненасыщенных под О 0:-! 0 э т:1 1 е и у, служат 3 K p H 7 3 ì ètä û, т 3 к и е к а к акряламид, метакриламид, Х-окснметилакрилам )д, Х-оксиметилметакриламнд, N-метаоксиметнлакриламид, N метоксимети7метакриламид, Х-этоксиметнлакриламид, LU-этокснметилметакриламид, Х-бутоксиметилакриламид, N-бутоксиметнлмстакрнламид, iV,IX - метилен5
65 бисакрилам;)д,,Х -метиленбисметакриламид, Х,; -гексаметиленбисакрил амид, N,Õ -гексаметиленбнсметакриламид, акриловая кислота и акрилаты, такие как пропилакрилат, бутилакрилат, 2-оксиэтилакрилат, 2-оксипропилакрилат, этиленгликольдиакрилат, пропиленгликольдиакрнлат, диэтилеигликольдиакрилат, триэтиленгликольдиакрилат, полиэтилснгликольдиакрилат (средний молекулярный вес полиэтилеигл!!ко IH является оолее низким чем 2000), полипропиленгликольдиакрилат (средннй молекулярный вес полипропиленгликоля является меньшим чем 2000), 1 4-бутилеиГ7ик01ьдиакрилат, трпа кри 13т Г11)цеpина, триакрилат триметилолироиана, аллилакрилат, глицидш)акрилат, циклогексилакрилат, тетрагидрофурфурилакрилат; метакриловая кислота или метакрилаты, такие как пропилметакрилат, бутилметакрил3т, 2-оксиэтнлметакри,13т, 2-Оксипропилметакри 1ат, этиленГли! Ольдимстакрилат, пропилеигликольдиметакри.чат. диэтиленгликольдиметакрилат, триэтиленгли1 ОЛЬДИ МЕТЯКРИ.13Т, П0.1ИЭТ)).1ЕИГЛИI ОЛЬДИМЕТакрилат (средшш молекулярный вес полиэтиленгликоля является более низким чем 2000), по 7klllpol)I)ëåíãëè êoëüë))»åò3êðk) 13Т (средний молекулярный вес полипропиленгликолл является более )низ ш)м чем 2000); 1,4-бутилецГликольдиметакри13T, Г1ицеринтриметакр)1лат, триметилолироиантриметакрилат, аллилметакрнлат, глициди,1метакрилат, циклогексилметакрилат, тетрагидрофурфурилметакрилат; а-замешенные акрилово)1 кислотой, такие как а-хлоракриловая кислота, а-бромакрнловая кислота; ст!)рол и его производные, ТЗКНЕ Ка) 1)-ВИН;)Л фЕНОЛ, ll-BIIH)).1 ОЕНЗойи а и кислота, дивиш!Лоензол; слож))ые виниловые эфиры, такие как винилстеарит и виш!Лбензоат, сложныe aлл11,10вые эфиры, такие к lк аллилметакрилат. диаллилфталат; \-фталимид и Х-винилимид янтарной кислоты.
Предпочтитель;)о приме:)лть такой мономер, ненасыщенный подооно этилену, в количествах,.примерно от 10 до 150 вес. ч., считая
ia 100 вес. ч. сложного ненасыщенного полиэфира. Если количество упомянутого ненасыщенного мономера составляет величину, меньшую 10 вес. ч., то скорость фотохимической реакции, приводящей к образованшо сетчат ы х. «сш и т ь) х» м е ж д i с 0 б О Й 51 0.7 0 ii b 7 i) p H HI x струI TI p, Оудет весьма невелика, 3 ме. аиическая прочность продукта после проведения указанной реакции Оудет слишком мала длл практического п1)))менения. Ec Ill 1 азаииый выше мономер Оудет присутствовать в количестве, превышающем 50 вес. ч., то это будет вредно отражаться kia гибкости (после реакции образования) сетчатых структур, кроме того, понижается i":)мическая устойчивость.
Примерами подходящих ишщиаторов для реакции фотопол:!меризации служат бензоины, такие как бензоин, а-мст! 7ocH30IIH, метнлбензоиновый эфир. этилбензоиновый эфир, а-фенилбензоин, ñ -аллилбе:)зо)н, феноны, такие как ацетофено:., бензофе:loki, о-бромаце424372
l2 эф))р, ))ìålîù:ш кислотное число 16 ратуру плавле и)я 110 С.
В примерах 2 — 4 неиасыщен))ые лолиэф )1)bl готззит тгкигм же обРазом, как в примере 1.
:I темпеC, EОИНЫР
Т 3 (>.) t! ii;i l.)икарбоиовяя кислота о х
o .—., lr >(ясы>нсиная,1икярооновая кис1
><1СЛОТ » (> о Х:— Сло>к((ыя вфнр лнол<1 3(1>)(р,1 иола »0 Оу)!ÿðîâàÿ >0>СЛ >13 8/)0. (".Ell CÍÎ"„ Я I;;: с.—. от я То ж0 То жc Л/Б 6, 8 104 ) Малс;шов() я к;.".л о та 1,4-Бутан)иlол а. Б 115 8 1) .-(:. И:;III >33 3 ; iIC,",E>-3 Тс жc А, Б То жс 6, 9 110 ()) (. cl ) . 03 3 Я : >(скот((Эти,1снглико1ьчст .лтс;)с— фталят Icp.;(O.i. все. )055) А, Б 184 )7,14 >) ((гь " >- (я и..- От<< A/Б То кс То кс 180 16/: 4 А,(Ь 1,3-Проиянг.l:I30 tb-El< ".-бисфеинллiï(àðáÎксил)яет.)л (ср.. .ол. (се. 2286) 1 -акопов (г лгс -ота 1(6 15, 13 7)нта) н>я Ь:С >ОТ(I г О )КС Т0 жс )74 1:./13 А Б 1,4-Бута нднолди ((стилтсрс(рталат Фу (аровая кпcлота Д н(эти лсигликоль 151 ) ., l4 А, Б r EEI. 3ItOEE3 EE i исл от<> То жс То же То же 148 11, 13 Л/Б 1 > () 1 )42 Глготяконовяя кислота Этиленг:и>кольнафталншовая кислота (cp. мо1. вес. 3015) То жс А, Б 0(а л своза я кислота 140 То же То же То жс ) 3/10 145 А/Б Лл:llc:иoвая и (слота Зтялснгликоль)>ст()лтерсфталат (ср. мол. все. 1055) Ф(паровая кисло.а 1 ), 14 Л/Б 11/12 Эт)(лен гликоль-!,3-бис-i!-33;:— бокс! t. (фснилатси 10 жс 139 ТО >к П )) I! ) е I а ll ll с: 1. -)1оляр((ое соотиошеit<)е .Ic 2. Мо)яриое (00TIlol!!Cн> е:яе I(AI афи)>О>I;i!Io . 3 cloжlli lч аф:fpoм;.иола 4; 6. 3..<101яр>(ое CÎOTIEOEI!CII!I(.. Ot!OI(:Irl:EECI .110:.! 77(и. (Ip OI:030 t I( 5 453 г этиленгликоля. B итоге получают бис-рокопэтилтерефталат,:Iмеющии степень полимеризации 3,2. Получение сложного эфира диола в примере 5 Получение сложного ненасыщенного ! 0 полиэфира в примере 5 К полученному сложному эфиру лола лоГ1олиэтилснг,.иколь (ср. )яол. вес 200) П0.1< > оксивтиленгликоль (СР. <0,—:. вес 600) Полипропи..снглико, ь (cp. мол. ве 400) I(824 г д))метилтерефталата и 789 г этиленгликоля 30бавляют 0,5 г уксуснoãо цинка са нагревают смесь при температуре 180— 200 С в атмосфере азота. Получа)огцийся метанол в количестве 271 г отгоняют,:E ооразовавшуюся смесь дополнительно нагревают при >:>. > г,,< <. < ..> 6(424372 пииозой кислоты и 3 г B-толуолсульфокислоты, причем температуру реакционной смес:! поддерживают па уровне 240 С. Через 30 !!ия дооавляют 523 г полиэтплеигликоля, имеюшего средний молекулярный вес б00, полученную смесь нагревают при температуре 240 С в течение 8 час в атмосфере азота, причем ооразуюшуюся в результате реакции воду отгоняют. В результате получают ненасышенный ! О полиэфир, ю1е!оШий кислотное число 21,4 и температуру плавления 145 С. В примерах 9 — 12 и 14 ненасыщенные сложные полиэфиры получаIот таким же ооразом, как указано в примере 13. Примеры 15 — 29. К 100 г ненасыщенного полиэфира, имеющего температуру плавления 142=С, полученного в результате проведения обычной реакции конденсации 0,5 ч. дипропилеигликоля, 0,5 ч. бис-1з-оксиэтиленметиленбисфе:п1лдикарбоксила, полученного в свою очередь путем реакции сложноэфирного ооме:!а между этилеигликолем и диметиловым эфиром 11,11-д:!фенилметандикарбоновой кислотьк 0,5 ч. фумаровой кислоты и 0,5 I. адипиновой кислоты, дооавляют 25 г мет1!лакр:!ламида, 25 г акрпловой кислоты, 1.0 г аллилоензоипа .! 0,02 г гидрохипона. 100 г полученной таким путем смеси растворяют в различнык растворителях, показанных в таб,1ице 2, с целью получения фоточувствительного раствора. бавляют 144 г фумаровой кислоты и 3 г и-толуолсульфокислоты, после чего смесь нагревают при температуре 240 С в течение 8 час в атмосфере азота при отгонке воды, образующейся в результате реакции.,Получается слож:!ый ненасыщенный полиэфир, имеющий кислотное число 16,5 и температуру плавления 184 С. В примерах б — 8 сложные ненасыщенные полиэфиры получают так же, как указано в примере 5. Получение сложного эфира диола в примере 13 К 789 г этиленгликоля добавляют 824 г диметилтерефтала и 0,5 г уксуснокислого цинка, после чего нагревают смесь при температуре 180 — 200 С в течение 80 яин в атмосфере азота, причем отгоняют метанол в количестве 271 г. Температуру реакции постепенно повышают до 220 — 240 С. Полученную смесь оставляют дополнительно реагировать, причем отгонялось дополнительно 45б г этиленгликоля. Получение ненасыщенного полиэфира в примере 13 К полученному сложному эфиру дпола добавляют 155 г фумарово!! кислоты, 1,5,5 г адиТаблица 2 с с с o:— х f с = с Б с \ v с с л Х Х с. с I д с л Раствopiитсль с 2 с Хлороформ Диклорэтан Д11бромэтилен 5!етилэтилкетон Диацетоновь151 снирт Диоксан Диоксолан П:1ридин Т;, иклорэ1илен-ацетон Пзобутил бромид-l,2-диклорэтан Метилэти.зкетон-дио саи Хлороформ-диоксан Хлороформ-диокса н Хлороформ-диоксан Дноксан-ацетон-.;:стаиол 1 95 1!5 ! О 8 ! О 94 99 ! O Рo 96 2 / 23 П1 с. Плоко:.! Пло ко!; ;О9ОШи0 Хорош и! Хорош!и:, Хорош;и! oоошин Хо;!ошин Хорош: . ХopoLLi 1Й Хо,OLLI«!L Плокой Плоко! Хорош Хороши.. l6 ! 7 ! l9 2! 29 23 24 26 27 28 99! 9280 26780! 690 5620! 280 9 80 5! 8i) 0 63!0 2с%1! 6840 l!. 0 ! 68 74 ! О ! 4 ! 1; !О l: 10 1: 20 1: 20 1: !5 1; !5 1: !5 1: !5 l: !0 1: !5 1: !4 1: l5 1: !5 ! . 1 ! ! ! 92 6 22 9! 2д 27 1 ! 3: 1: 1:5 6: 1: 1:6 5:1:! 1 о o Ллют!ин.!еву!о пласт!!ну толш1ной 0,5,!!.!! с показателем степен1! зернения поверка!ости 800 !!г!и, покрывают сроточувствительным p3:твором с почошью устройства с пакатны,i валиком. враша ошим-.я со скоростью 15 oo,!!ия, зысушиззют для получения фоточувствите 1ь11о11 и таст!11! II. Пла Tiiнм H3 . 12Ù 1!ОТ в в а кут м:!мю раму ii освешают ртутной лампой 35 "= .." ого !авления мощностью 500 вт на расстог:.:,:ii с0 с.!! в те !ение 70 свк через негативП р и м е ч а н и с !. В результате нсчатан:.-". Исслс-.oRR."o== --!:o: ". :.:оснрлк:ведение негат1,вно о изобраьксния. 424372 Та б I II II 3 3 C г Диокса и-ацетон (инолярное соотно!нснис) Относительная скорость Вязкость, С/73 То Iill! III P. сл 051, .,!к!!! Р с 31 32 ЗЗ 34 36 37 38 )0:2 )О;2 10:4 10:4 4: 10 4: 10 2: 10 10:2 10:2 10: 4 3 20 8)50 8)50 4680 2.1 24 22 22 21 76 )45 82 52 88 )68 91 66 22 80 .;0 I00 150 Таблица 4 С!.орость нра!цения, об, ьнин б! 1)о : ср I i I . : с н а То li. ;!!на слоя, .як 32 26 24 -! 0 д! 42 -3,=0 75! 100 ! 5:0 200 пую пленку с испытательной таблицеи, имеющей от 7 до 34 точек. Экспонпровац ую пластш)у проявляют в 0,6%-)iом водном растворе гпдрата окиси натрия, высушивают и покрывают каучуком с помощью целлюлозной губки вручпу)о. Таким путем получа)от рельефную литографскую пластину для офсетной печати. Примеры 30 — 39. 1 ч. полиэтиленгликоля, имеющего сред",)ий молекулярный вес 600; 10 О!5 ч. фумаровой кислоты и 0,5 ч. терефталевой кислоты подвергают реакции поликонденсации по обычному методу. Полученный ненасыщенный сложный полиэфир имеет температуру плавления 125 С. 100 г ненасыщенного сложного полиэфира, 30 г акрилампда, 20 г стпрола, 2 г метилового эфира бецзоина и 0,02 г р-нафтола тщательно перемешивают и 100 г получе!иной смеси растворяют в 1500 г Примеры 40 — 44. К 100 г ненасыщенного сложного полиэфира, имеющего температуру плавления 102 С,,полученного пз 1 ч. полиэтиленгликоля, имеющего средч)й молекулярный вес 600, 0,5 ч. фумаровой кислоты и О!5 г адиппновой кислоты добавляют 25 г метпленбпс«крпламида, 25 г итаконовой кислоты, 2 г беп=-оина и 0,01 г гидрохинона. 100 г !полученной смеси растворяют в 2000 г смеси трихлорэтилена с метилэтилкетоном в молярном сооТНошенпи 1: 2. Получен фоточувствительный рас- 30 Т3ор, имеющий !вязкость 10 сиз и относительную скорость высыхания 6280. Цинковую пластину толщиной 1 лл, имеющую показатель зер):åèèÿ поверхности 600 — 800 леи, покрывают фоточувствительным раствором в центрифуге вертикального типа при различных определенных скоростях вращения, приведенных в таблице 4. Таким образом, получают фоточувствительную пластину. Эту пластину помещают в вакуумную рамку для печати, покрывают контрольным негативом, имеющим от 7 до 34 точек, и освещают ртутной лампой на расстоянии 50 сл в течение 2 я)ин. Затем пластисмеси диоксапа с ацетоном В различных Выбранных молекулярных соотношениях, приведенных в табл;)це 3, с целью получения фоточувствительного раствора. Алюминиеву)о пластину толщиной 0,3 лл с показателем степе i;) зернения поверхност)i пластины 800 леси покрывают фоточувствительным раствором с помощью устройства для покрытия. Полученную фотосенсибилпзированпую пластину помешают з вакуумную рамку для печати, покрывают негат;)вной пленкой, имевшей растр 150 линий на 25,4 лл (1 дюйм) и освещают дуговой лампой, помещснной на расстоянии 1 л в течение 2 я)ин. Затем п )«стиву проявляют 0,5%-ным водным раствором гидрата окис;i:)атрия, высушивают и покрыза)от каучуком вручную, пользуясь губкой. В итоге получают рельефную литографску)о пластпну для офсетной печати. О!!ьек! иола- Скорость нерснаегяой жи, к<о:Tll,,м!е!цсння iëþ-!! IlfJii кнIIIIISI ЛьинН ну проявляют 0,5Яо-пым водным раствором гидрата окисл натрия, высушивают;) покрывают каучуком вруч;)ую, с помощью целлюлозной гуоки. В итоге получают рельефную литографскую .-Iëàñòèíó для офсетной печати. С применением каждой из полученных пластин можно отпечатать более чем 300000 оттисков. Пример 45. 100 г )енасыщенного полиэфира, полученно"o в примере 40, 15 г этилакрилата, 30 г стирола, 2 г дифенилдисульфида;) д,1 г $-пафтола тщательно перемешивают, и 100 г смеси растворяют в 1500 г смес;) 1,2-ди424372 17! Предмет изобретения 40 г 0 1 Составите пь О. Зеленова Техред Л. Акимова Редактор Н. оелявская Корректор О. Тгорииа Заказ 767)77 Иод. 1386 Тирагк 506 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР ио делам изобретений и открытии Москва, К-35, Раушская наб., д. 4/5 Тип. Харьк, фил. пред. «Патент» хлорэтана, диоксапа и метанола в моляр .пм соотношении 4:4: 1. Получают фоточувствительный раствор, имеющий вязкость 27 сгтз и относительную скорость высыхания 3620. Алюминиевую пласт;шу толщиной 0,3 лглг покры- 5 вают фотосенсибилизирующим раствором с помощью роликс вого прислособления, причем скорость вращения роликов составляла 10 об/дгин. Полученная фоточувствительная пластина имела слой толщиной 25 дгк. Пла- 10 стину помещают в вакуумную раму для печати и освещают дуговой лампой мощностью 2 квт на расстоянии 1 л в течение 3 дгин через негатив с раствором 150 линий на 25,4 лм (1 дюйм). После,проявления 0,5%-ным водным раствором гидрата окиси натрия пластину высушивают и покрывают каучуком вручную целлюлоз ной губкой. Получена литографская,пласт на с рельефным рисунком для офсет ной печати. С полученной пластины печатают оттиски на тисненой бумаге со скоростью 10 000 копий в час. 1. Рельефная литографская пластгша, состоящая из подложки и фотополимеризующегося слоя толщиной 10,0 — 200 лк, включающего ненасыщенный мономер с этиленовыми связями, инициатор фотополимеризации, ингибитор и не менее одного органического растворителя, отличающаяся тем, что, с целью получения пластины, обладающей повышенной устойчивостью к истиранию и износу во врегмя печатного процесса, в состав фотополимеризующегося слоя введен ненасыщенный сложный полиэфир с точкой плавления свыше 100 С, молекула которого включает не менее одного звена, состоящего из звена формулы где Кг — алкиленовая группа, содержащая от 2 до 4 атомов углерода, Х вЂ” число от 2 до 100, и звена формулы или нафтиленовая гр ппа г — число от 2 до 4: Z — число от 1 до 10; Ь вЂ” число от 1 до 4, и звено, представляющее остаток ненасыщенной дикарбогновой гсислоты, а фотополимеризуюшггггся слой, имеет вязкость 5 — 150 сггз при температуре 20 С. 2. Пластина по п. 1, отлtl÷àIoöàÿc÷ Tã÷, что ненасыщенный мономер с этиленовыми связями введен B количестве 10 — 150 вес. ч., считая на 100 вес. и. ненасыщенного сложного полиэфира. 3. Пластина по п. 1, от.шт>ощачся тем, что инициатор фотополимеризации введен в количестве 0,01 — 5 вес. ч., считая на 100 вес. ч. ненасыщенного сложного полиэфира. 4. Пластина по п. 1, от.гичаюшаяся тем, что органический растворитель имеет относительную скорость высыхания 500 — 10 000 при слое толщиной 10 — 200 гнк. 5. Пластина по п. 1, от.гичагоща Icч тем, что в качестве органического растворителя применены хлорированные алифатгические углеводороды, бромированные алифатические углеводороды, кетоны, циклические простые эфиры пди пиридин. 6. Пластина по п. 1, от.гггчаюцаяся тем, что применен шггибитор термической полимериз "IIII!I в количестве 0,01 — 2 вес. ч.. считая на 100 вес. ч. ненасыщенного сложного полиэфира. 7. Пластина по п. 1, от.гггчагощпяся тем, что весовое соотношение смеси ненасыщенного сложного полиэфира и мономера с этилепговыхгги связями и органическим растворителем составляет от 1: 5 до 1: 25. 8. Пластина по п. 1, от.шчагощаяся тем, что в качестве подложки применены бумага, металл, сплав, п,пастмасса или сложный эфир целлюлозы. 9. Пластина по п. 1, от.гггчаюигаяся тем, что в качестве;подложки применена алюм.Iниевая пластина толщиной 0,3 — 0,5 дгдь 10. Пластина по и. 1, ог.гггиаюгггаяся тем, что в качестве подложки применена цинковая пл а сти и а тол щи ной 0,3 — 1,0 дгдг. Приоритет по пунктам: 11.09.68 по пп. 1, 2, 3, 5, 6, 7, 8, 9, 10; 05 11 68 по п. 4.
