Установка для очистки изделий

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистинеских

Республик

«i) 484906 (61) Дополнительное к авт. свид-ву(22) Заявлено 09.02.72 (21) 17 46703/22-2 с присоединением заявки № -. (23) Приоритет (5l) М, Кл. В 085

11/04

Гасударственный комитет

Совета Министров СССР оо делам нзооретеннй н открытий (53) УДК621.924..89 (088.8) (43) Опубликоваио25 09 75 Бюллетень №35 (45) Дата опубликования описання 2О.11.75 (72) АвтоРы А. Т, Мягков, Н. Г. Медведев, и P. В, Шербачев изобретения

rp 1; с» (71) Заявитель (54) УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ ИЗДЕЛИЙ

Изобретение может испольэовать ся в оборудовании электронной промышленности для жидкостной химической обработки, в частности, для химической обработки кремниевых . и ситалловых пластин.

- Известна установка для очистки изделий, содержащая предметный столик с приводом вращения, устройство для подачи и слива жидкости и щеточный узел, включающий механизм вращения и подачи щетки., Однако в известной установке наблюдается стекание капель со щеток на обрабатываемые изделия, размазывание продуктов реакции и эатирание их B микронеров-. ности обрабатываемых иэделий, Цель изобретения - повышение качества очистки плоских хрупких изделий.

Это достигается за счет того, что предметный столик снабжен углублениями под изделия, ось вращения щетки смещена относительно оси вращения предметного

I столика, а ось механизма подачи щетки перпендикулярна к поверхности предметно-, го столика и наклонена относительно оси

4 его вращения. Это повышает качество очистки плоских хрупких изделий.

На фиг. 1 изображена предлагаемая установка, общий вид, на фиг, 2 — раэ5 рез А-А на фиг. 1; на фиг. 3 вЂ, ;вид по стрелке Б на фиг. 1.

Установка имеет предметный столик 1, установленный на вертикальном валу 2 привода вращения 3..:Hs поверхности пред10 метного столика l имеются радиальные пазы 4 и отверстия 5 для слива жидкости и углубления под изделия 6. Устройство

7 для подачи жидкости на иэделия 6 содержит кольцевую полость 8 с отверстия

16 ми 9, Жидкость на щетку 10 подается перфорированной трубкой 11. клеточный узел 12 содержит механизм во@щения 13 ти механизм подачи 14. Механизм враще ния 13 состоит из привода 15 со щкиворо ременной передачей 16 и валика 17, на котором закреплена щетка 10, ось вращения которой смещена относительно оси вращения предметного столика 1. Валик

17 размещен в поворотном стакане 18, связанном реечной передачей 19 с порш 484906

3 4 невым приводом 20 механизма подачи 14, .влаги с,изделий 6 при аращении предмет причем ось механизма подачи щетки 10. " ного столика 1. перпендикулярна к поверхности предметного

Предмет изобретения; сто ика 1 и наклонена относительно оси . p д б р ! его вращения. Верхняя часть установки . б Установка для очистки иэделий, содер- . — I

: снабжена съемным колпаком 21, жашая предметный столик с приводом вращения, устройство для подачи и cnssa

После укладки изделий 6 включаются жидкости и шеточный узел, включающий последовательно привод вращении 3 пред- механизмы вращения и подачи щетки, метного столика 1, механизм вращения IQ о т л и ч à io щ а я с я тем, что, с де1

13 щетки 10 и подается жидкость на из-.: лью повышения качества очистки плоских делия 6 и щетки 10. Затем !49xaBHGMoM хрупких изделий,:,предметный столик снабподачи 14 подводят щетку 10 к изделиям:,жен углублениями дод изделия, ось враше6 и начинают продесс мойки изделий 6: ния щетки смещена относительно оси враразличными технологическими жидкостями, )5 щения предметного столика, а ось механизпосле чего щетку 10 отводят в сторону и ма подачи щетки перпендикулярна к поверхвключают ее вращение. Подача жидкост" ности предметного столика и наклонена от-, прекращается и ведется пропесс удаления носительно оси его вращения.

484906

В изб

Заказ ((H3rl, _#_ i453 ТиРаж 648

Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Ж-35 Раушская наб., д. 4/5

ППП „Патент" Москва, Г-59, Бережковская наб., 24

Составитель ц.й ц ьпев

Редактор Л Л „Техред Н.Хаиеева Корректор ЛЛзесова

Установка для очистки изделий Установка для очистки изделий Установка для очистки изделий Установка для очистки изделий Установка для очистки изделий 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к очистке изделий , а именно к способу удаления жидкостей с рулонных и листовых материалов, и позволяет повысить качество очистки и снизить расход моющей жидкости

Изобретение относится к просветляющим покрытиям на оптическое стекло. Технический результат изобретения - снижение коэффициента отражения от поверхности стекла и повышение механической прочности просветляющего покрытия. Способ нанесения просветляющего многослойного широкополосного покрытия на поверхность оптического стекла включает расчет толщины слоев покрытия по табличным значениям показателей преломления; чистку органическими растворителями поверхности стекла, очистку тлеющим разрядом и термообработку подложки; прокаливание и обезгаживание пленкообразующих материалов; нанесение материалов неравнотолщинными слоями в вакуумной установке и контроль коэффициента пропускания подложки по образцу-свидетелю. Слои выполняют из чередующихся материалов со средним и высоким показателем преломления, а внешний слой - из материала с самым низким из них показателем преломления. На каждом слое производят сканирующее по спектру определение показателя преломления и его зависимости от длины волны с использованием акустооптического спектрофотометра и подключенной к его выходу ЭВМ. Сравнивают полученную зависимость с заданной и производят корректировку режимов напыления покрытия. 1 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к электронным или ионным облучающим дегазаторам стеклопакетов. Устройство облучающего дегазатора стеклопакета содержит корпус вакуумной коробки, устройство удерживания стеклопакета, нижнюю пластину, обладающую электропроводностью, расположенную на устройстве удерживания стеклопакета, механизм транспортировки, механизм подъема и устройства облучения расположены внутри корпуса вакуумной коробки. Устройство облучения содержит источник питания, первый электрод, второй электрод и подвижный электрод. Подвижный электрод расположен между первым и вторым электродами. Второй электрод образован нижней пластиной. Первый и второй электроды соединены с положительным электродом источника питания, подвижный – с отрицательным. Нижняя поверхность стеклопакета расположена между подвижным электродом и первым, верхняя поверхность стеклопакета - между подвижным и вторым электродом. Между первым электродом и подвижным электродом, а также между вторым и подвижными электродами генерируются ионные или электронные потоки, обеспечивающие дегазирование стеклопакета. Технический результат – снижение степени вакуума стеклопакета. 21 з.п. ф-лы, 10 ил.

Изобретение относится к способу финишной планаризации поверхности оптической стеклокерамики. Обработку поверхности оптической стеклокерамики проводят в две стадии. На первой стадии осуществляется обработка поверхности оптической стеклокерамики пучками ускоренных кластерных ионов аргона. Далее на второй стадии проводится обработка пучками ускоренных нейтральных атомов аргона. При этом ускоряющее напряжение на обеих стадиях обработки находится в диапазоне 10-30 кВ, время обработки на каждой из стадий устанавливается не более 15 минут, при давлении остаточных газов не более 4×10-2 Па. Технический результат – упрощение технологического процесса планаризации поверхности при одновременном снижении среднеквадратичной шероховатости поверхности оптической стеклокерамики на 30% относительно их исходного состояния. 2 табл., 2 ил.
Наверх