Устройство для нанесения тонких пленок на объектодержатель электронного микроскопа

Авторы патента:

C23C13/12 - Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом (металлизация текстильных изделий D06M 11/83; декоративная обработка текстильных изделий местной металлизацией D06Q 1/04); химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще (для специфических целей см. соответствующие классы, например для производства резисторов H01C 17/06); способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще (обработка металлических поверхностей или покрытие металлов электролитическим способом или способом электрофореза C25D,C25F)

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ОБЪЕКТОДЕРЖАТЕЛЬ ЭЛЕКТРОННОГО МИКРОСКОПА, содержащее нагреваемый электронной бомбарцрровкой источник наносимо'го материала,закрепленный в камере объектов электронного микроскопа, от_личаю-' ГЦ е е с я тем, что, с целью снижения уровня помех от источника и упрощения конструкции, источник испаряемого материала выполнен в виде слоя, нанесенного на сменную диафрагму, закрепленную в канале объектодержателя со стороны, обращенной к объек-' тодержателю.%4чч /^^i?rgс €(Лсел!UD ^00

СОНИ СОВЕТСНИХвЂ”

СОЦКАЛИСТИЧЕСНИХ

Эш С 23 С 13/12

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ABTOPCH0MV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

OCff+APGTBEHHblA KOMHTET CCCP

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 1912381/21 (22) 18.04.73 (4б) 30.06.83.. Бюл.924 (72) Г.С. Жданов (53) б21.793.14.002.51(088.8) (54)(57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ

ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ОБЪЕКТОДЕРЖАТЕЛЬ

ЭЛЕКТРОННОГО МИКРОСКОПА, содержащее нагреваемый электронной бомбарщировкой источник наносимого материала, закрепленный в камере объектов электронного микроскопа, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью снижения уровня помех от- источника и упрощения конструкции, источник испаряемого материала выполнен в виде слоя, нанесенного на сменную диафрагму, закрепленную в канале объектодержателя со стороны, обращенной к объекI тодержателю.

51097S

Редактор О. Юркова ТехредМ.Костик Корректор H. Ватрушкина

Заказ 6690/4 Тираж 1106 Подписное

ВИИИПИ Государственного комитета СССР по, делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относится к электронной микроскопии, преимущественно к, приборам просвечивающего типа.

Известно устройство для нанесения тонких пленок на объектодержатель электронного микроскопа, содержащеее 5 нагреваемый электронной бомбардировкой источник наносимого материала, закрепленный в камере объектов электронного микроскопа.

Однако такое устройство отличает- ц ся сяожностью конструкции и высоким уровнем помех от источника.

Цель изобретения - снижение уровня помех от источника и упрощение конструкции. 35

Это достигается тем, что в предлагаемом устройстве источник испаряе.мого материала выполнен в виде слоя, нанесенного на сменную диафрагму, закрепленную в канале объектодержателя со стороны, обращенной к объектодержателю.

Сущность изобретения поясняется

:чертежом.

Объект 1 расположен в патроне 2 и прижат к поверхности патрона.втулкой объектодержателя 3, в расширении канала объектодержателя помещена диафрагма 4, покрытая слоем испаряемого вещества 5 на части поверхности,. обращенной к объекту. Трубка 6препят- . М ствует перекосу диафрагмы при уста- . новке объектодержателя в прибор.

Испаряемое вещество наносят предварительно на несколько диафрагм

Во вспомогательной вакуумной установ-35 ке или другим путем, например электролитическим осаждением. Одну .из диафрагм устанавливают в канал объектодержателя так, чтобы слой испаряемого вещества находился на стороне, 4g обращенной к объекту.

Нагрев диафрагмы осуществляется электронным лучом микроскопа, часть которого проходит через отверстие в диафрагме и создает изображение объекта. Так как диафрагма прижимается к поверхности объектодержателя только за счет собственного веса, отвод тепла от диафрагмы мал. Если между диафрагмой и объектодержателем. находится теплоизолирующий слой, которым может, быть и естественная окисная пленка на поверхности металла, то мощности электронного луча достаточно для нагрева диафрагмы до 3000 С.

Температуру нагрева, а значит и скоФ рость напыпения, можно менять потенциометрами регулировки тока луча и тока конденсорной .линзы.

Смену диафрагмы после окончания испарения производят одновременно со сменой объекта. Для этого объектодержатель выводят из колонны микроскопа с помощью шлюзового устройства, имеющегося во всех современенных приборах. Промежуток времени между циклами напыления может быть таким путем уменьшен до нескольких минут.

Другим преимуществом установки испарителя в виде диафрагмы непосредственно в объектодержатель является уменьшение загрязнения колонны микроскопа испаряемым веществом.

Испарение электронным лучом может осуществляться с любой требуемой скоростью. Яркость иэображения, снижаю щаяся из-за расфокусировки луча, достаточна для наблюдения объекта при увеличении порядка 10 тыс. При напылении пленок на объект не происходит ухудшения -качества изображения или отклонения электронного луча, затрудняющего использование стандартных испарительных приспособлений.