Питатель для подачи абразивной суспензии

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ к втоеском свидетельств (61) Дополнительное к авт. свнд-ву № 288588 (22) Заявлено 22.09.75 (21) 2176508/08 с присоединением заявки № (23) Приоритет (43) Опубликовано25. 10.7 6.Бюллетень № 39 (45) Дата опубликования описания 28.12.76

Союз Советских

Социапистицеских

Республик (и) 532514 (51) М. Кл.е

В 24 B 57/00

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изооретений и отнрытий (Я) УДК 621.923..56(088.8) (72) Автор изобретения

В. В. Алексеев (71) Заявитель (54) ПИТАТЕЛЬ ДЛЯ ПОДАЧИ АБРАЗИВНОЙ СУСПЕНЗИИ

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано в радиоэлектронной, оптической и светотехнической промышленности, например, на предприятиях, обрабатывающих стекло и кристаллы свободным абразивом.

B основном авт. св. № 288588 описан питатель для подачи абразивной суспензйи к обрабатывающему станку, обеспечивающий постоянную концентрацию подаваемой суспензии. Это достигается тем, что резервуар и насадок выполнены сферическими, а оси перфорации в насадке расположены под ра..щичными углами к поверхности дна резервуара. Питатель имеет сферическую насадку, помещенную в резервуар с крышкой, на которую установлен электродвигатель, соединенный с импеллер-ным насосом. На валу привода расположены лопасти для гашения пены и стабилизации температурного режима. Имеются трубопроводы к станку.

В процессе обработки при трении инструмента об обрабатываемую деталь выделяется тепло, причем большая часть тепла уносится суспензией в резервуар. Вследствие этого суспензия нагревается, и в резервуаре интенсивно образуется пена, чем продолжительней работает станок, тем больше нагрев суспензии. Это тепло, передающееся окружающей среде (воздуху) с поверхностей дна и крышки резервуара, меньше притока тепла, и, как правило, перепад температур между суспензией и окружающей

10 средой постоянно растет. Кроме того, под действием температуры происходит деформация инструмента, которую часто приходится исправлять, подрезая инструмент.

В предложенном питателе с целью стабилизации температурного режима суспензии охлаждающей жидкостью дно резервуара выполнено в виде двух концентрично расположенных одна относительно другой полусфер.

В образованной полусферами герметической полости циркулирует охлаждающая жидкость, омывая всю полусферу дна, это способствует интенсивному уносу тепла и стабилизирует температурный режим суспензии.

На чертеже изображен предлагаемый питатель. Дно резервуара состоит из полусфер 1 и 2, края которых в верхней части соединены кольцевой пластиной 3 наглухо. Подвод и отвод охлаждающей жидкости из полости 4 производится соответственно по патрубкам 5 и 6. В качестве охлаждающей жидкости может быть использована вода.

Предлагаемый питатель полностью стабилизирует температурный режим суспензии,снижает пенообразование, устраняет деформацию инструмента и, следовательно, увеличивает его долговечность. Кроме того, питатель позволяет эффективно исполь14

4 зовать абразивный материал и интенсифицировать процесс обработки, Формула изобретения

Питатель для подачи абразивной суспензии к станкам при обработке материалов свободным абразивом по авт. св. № 288588, отличающийся тем, что, с целью стабилизации температурного режима суспензии циркулирующей охлаждающей жидкостью, например водой, дно резервуара выполнено в виде полусфер, концентрично расположенных одна относительно другой.

Составитель Н Ермакова

Редактор В. Дибобес Техред М. Левицкая Корректор E К)гас

Заказ 5458/181 Тираж 1068 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4