Способ изготовления основы кинофотоматериалов

 

Союз Советских

Социалистических

Республик (< >) 602909 (6l) Дополнительное к авт. саид-ву (22} Заявлено 13.05.76 (21) 2361925/23-04 с прнсоелиненнем заявки № (23) Приоритет(43) Опубликовано 15.04.78. Бюллетень №14 (45) Дата опубликования описания",29.03.78

2 (51) М. Кл.

Cr 03 С 1/80

Гасударственный камнтет

Совета етнннатраа СССР аа делам изабретеннй и открытий (53) УДК 771 5 (088.8) (72) Авторы изобретения

P. А. Сорокина, Е. H. Мороз, H. В. Беляева и H. Л, береговская (7! ) Заявитель

Всесоюзный государственный научно-исследовательский н проектный институт химико-фотографической промышленности (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОСНОВЫ

К ИНОФО ТОМА ЧЕРИ А ЛОВ

Изобретвнне относится к способам изготовления основы кинофотоматерналов, нрнменяемых для улучшения адгезнн основы к гвдрофильным .фотографическим слоям.

Известен способ )изготовления t основы и кинофотоматврналов путем нанесення на полиэтнлентерефталатную подложку адгезнонного полимерного подслоя, включающего органический растворнтель, смесь: бутаднена н сополнмвра внннлнден - нлн виннлхлорнда, 19 гндрофильного монемера с этнленовымн связямн (например Я -вннилпнрролндона, нтаконовой, метнлметакрнлатовой н др. кис лоты и гндрофобного мономера с этнлвновыми связями(например эфиры акрнловой,метакри- N ловой, маленковой кислот, )а -алкнлмаленннмнд н др.)душки и специальной обработки полученной основы коронным разрядом (1) .

Однако, полученная таким способом осно ва имеет недостаточную адгеэню к наноси- М мому на нее светочувствительному желатинс вому слою. Для проведения известного способа требуется специальная сложная установ;,ка, состоящая sa несколькнх преобразовательно расположенных коронагоров с источнтт- 25 камн высокого нанряження. Кроме того, на обработанную основу следует немедленно полнвагь светочувсгвнтельный слой, гак как по истечения не более 24 ч, обработка коронным разрядом не дает улучшения адге эни.

Для повышения адгезнонных свойств основы и упрощения технологического процесса, по предлагаемому способу наносимый на полнэгнлентерефгалатную подложку адгеэнонный полимерный слой в качестве полимера содержнт смесь полнуретанового каучука н блокированного дяиэоцнаната обшей- формулы

Ц -(м-сС)

1, % где тт — фенилен, голунлен, гексаметнлен;

Р— остаток фенола, днэтнламнна; или

С -С„ алифатнческого спирта,: взятых в

2 соотношении or 9: 1 до 1: 9 соответственно, а специальную обработку проводят путем .нагревания полученной основы до 100-180 1

Образующийся после обработки основы нагреванием до 100-180 С адгеэионный о.602ЕОЕ

3 слой, являющийся продуктом взаимодейсг( вия полиуретанового каучука и диизоцианага, имеет хорошую адгезию к полиэтиленте» рефталатыой подложке и к светочувствитель ному желатиновому слою.

li

Изготовление основы кииофотоматериалов предложенным способом позволяет значитель но упростить технологический процесс.

Полиуретан овый каучук и блокированный диизоцианат растворяют в подходящем раст 1Î ворителе, например (ацетоне, метиленхлориде, дихлоратане, этилацетате и др., наносят на ПЭТФ-пленку, высушивают при температуре 50-70 С и пропускают через термо камеру при температуре 100-180 С. Ко личество блокированного дииэоцианата по отношению к полиуретановому каучуку составляет 50 - 100 вес.%. Далее наПЭТФпленку с подслоем наносят обычным способом галогенсеребряную эмульсию. Адгвзия фотографического жвлатинового слоя к . основе хорошая, как s сухом, тах и во влажном состоянии фотографического слоя, Подслой не оказывает вредного влияния на фотографические свойства(эмульсионного слоя.

Пример 1, На двухосноориентирс ванную и закристаллизованную ПЭТФ-пленку наносят из кюветы с помощью купаю щего или огружного валика подслой сле. дующего состава;

Полиуретан овый каучук СКУ 8ГП 40 r

2,4- толуилендии зоциана тфе í on 20 r

Ацетон 800 мл

Дихлорэтан 200 мл

Пленку высушивают при 60-65 С и зао

Q тем подвергают термообработке при 180 С в течение 5 мин.:На обработанную основу наносят обычным способом фотографический эмульсионный слой, Держание эмульсионного слоя до и после фотообработки оценивает ся баллом 4 +.

Прочность эмульсионного эадубленного

45 слоя, определяемая на приборе ПИЭС-2 составляет 400 г до фотообработки и 170г после фотообработки.

П р и м в р 2, На дьухосноориентирован о ную и закристаллиэованную ПЭТФ-пленку наносит следующий подслой:

Полиуретановый каучук

СКУ 8 ГП 40 г

5-Хлор-2,4-толуиле ндии з о55 цианатфен ол 30 г

Метиленхлорид 700 мл, Дихлорэтан ЗОО мл

Пленку со слоем высушивают при

50-60 С и подвергают термообработке при 105->10 С в течение 2 мин. После

30 г

700 мл

300 мл

Пленку высушивают при 60-70оС и про о пускают через термокамеру при 120-140 в течение 5 мин. Адгеэия эмулы.ионного слоя 4 балла до и после обработки, прочность эмульсионного слоя 350 г до обработки и 170 г после обработки.

П р и м в р 5. На двухосноориентироваи ную и .захристаллизованную i ПЭТФ-пленку наносят из кюветы с помощью купающего или погружного валика подслой следующего состава:

Полиуретановый каучук,8 ГП 10 г

2,4-Толуиле ндииэоцианатфвног 90 г

Ацетон 400 мл

Дихлорэтан 100 мл о

Пленку высушивают при 60-65 С, а эао тем погeepramr термообработке при 180 С в течение 5 мин..

На обработанчую основу наносят обычным способом фотографический эмульсионный слой. Держание эмульсиониого слоя до и после фотообработки оценивается баллом

3+.

Прочность эмульсионного эадубленного слоя, определяемого на приборе ПИЭС-2, составляет 350 г до фотообработки и 160г после фотоабработки..

Пример 6,. На двухосноориентчрованную и закристаллизовв ., у1о ПЭТФ-пленку наносят следующий подслой:

4 нанесени(эмульсионного слоя, содержащего дубитель, адгеэия до и после обработки

4 балла..

Прочность задубленного эмульсионного слоя до фотообработки 420 г, после фотообработки 180 г.

Пример 3. На двухосноориентированную и закристаллизованную ПЭТФ-пленку наносят следующий подслой:

Полиязе тановый каучук

СКУ 8 ГП 30 г

2,4-Толуилендиизопианатдиэтиламин 30 г

Мвтиленхлорид . 700мр

Дихлорэтан ЗОО мл

Пленку высушивают при 50-60оС и под« о вергают термообработкв при 160 С. Адгеэия эмульсионного слоя 4 — до и после фотЬобработки. Прочность эмульсионного слоя

ЗОО r до и 130 r после фотообработки.

Пример 4. На ориентированную и эакрис талли зов анную ПЭТФ-пленку нан сят следующий подслой:

Полиуретановый каучук 30 г

Гвксаметилендиизоцианат бутанол

Ме тиленхлорид

Дихл орэ тан

602909

90 г

Полиуретановый каучук

2,4-Толуилендиизоцианатфенол

Ацетон

Дихлоратан

10 г

600 мл зоомл

170 г

120 г

400 г

240 г

Предлагаемому

Известному

Составитель А. Круглов

Редактор Л. Емельянова Техред Н, Бабурка Корректор Н. Йцемирсквя

Заказ 1846/43 ;Тираж 564 Подпксное

БНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж»35, Рвушсквя нвб., д. 4/5

Фнливл ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Пленку со слоем высушивают при 70-80%: о и подвергают термообработке при 180 С в течение 5 мнн. На обработанную основу наносят обычным способом фотографический

Из таблицы следует, что основа, наготовленная предложенным способом, имеет более прочное скрепленне желатинового светочувствительного слоя с полиэтилентерефтвлатной подложкой и, кроме того, предложенный способ отличается простотой технологыческотъ Ьформления и обслуживания.

Формула изобретения

Способ изготовления основы кинофотоматериалов путем нанесения на поли,этилвнтерефтвлатную подложку адгезионного полимерного подслоя в виде раствора в органическом растворителе, сушки и специальной обработки полученной основы, о т л н ч а ю ш н и с я тем, что с целью повышения адгезионных свойств основы и амульсионный слой. Держание амульсионнб=го слоя до и после фотообрвботки оценивается баллом 4 -,.

Прочность амульсионного звдубленного слоя, определяемая нв приборе ПИЭС, составляет 390 г до фотообработкн и 170 г после фотообработки., Результаты испытаний образцов основы, изготовленной предложенным и известным способами, сведены в таблицу, упрощения технологического процесса, адгезионный подслой в качестве полимера содержит смесь полиуретанового каучука и блокнрованного днизоцнаната общей формуща

la- (z — co), .I

Н ОИ где Й -фенилен, толунлен, гексаметнлен, R - остаток фенола, диэтнламина, нли

Сй- С4 алифатического спирта, взятых и соотношении от 9:1 до 1:9 соответственно, в специальную обработку проводят путем нагревания основы до 100-180 С.

Источники информации, принятые во внимание. прн акспертизе:

1. Патент СССР Ив 398051, кл. Q ОЗС 1/80 1969.