Устройство для измерения концентрации носителей тока в полупроводниках

 

О П И С А-4 -И E

ИЗОБРЕТЕНИЯ-.

-(1))/ 619876

Союз Советскик

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 16.0276 (21) 2324652/18-25 с присоединением заявки ¹ (23) Приоритет (43) Опубликовано 150878. Бюллетень № 30 (45) Лата опубликования описания060778 (51) М. Кл. 011(31/26

С, 01% 21/00

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК

621.382(088.8) (72) Авторы изобретения

E. К. Галанов, Г, Н. Лотихонов, О. М. Мешин и И. Д. Костров (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ КОНЦЕНТРАЦИИ

НОСИТЕЛЕЙ ТОКА В ПОЛУПРОВОДНИКАХ

Изобретение относится к технике измерений свойств полупроводниковых материалов и может быть использовано в электронной промышленности, а также для научных исследований.

Известно устройство для контроля примесей в полупроводниковых материалах, основанное на эффекте Фарадея и содержащее оптический излучатель, исследуемый образец с электромагнитом, фотоприемник и индикатор «1)

Однако при помощи известного устройства невозМожно произвести контроль во всем объеме полупроводникового образца значительной толщины.

Известно устройство (2j для бесконтактного измерения концентрации носителей тока в полупроводниках, которое содержит источник оптического иэлучения, оптическую систему, измерительный электромагнит, анализатор, приемник оптического излучения, фазовый детектор, генератор и индикатор.

Исследуемый образец помещают внутри измерительного электромагнита, вследствие чего изменяется ориентация плоскости поляризации излучения, прошедшего через исследуемый образец.

Весконтактное устройство позволяет определить поворот плоскости поляризации с точностью 0,1 и, следовательФ но, измерить концентрацию носителей тока в ограниченных пределах (.10

l5

10 см в случае образца изб з А&) . К тому же измерения проводятся на образцах, имеющих большие размеры (2х2 мм), вследствие невозможности высокой локализации излучения, выходящего из оптического монохроматора.

10 Целью настоящего изобретения явля" ется повышение точности измерений.

Для достижения этой цели в предлагаемое устройство введен магнитооптический кристалл, расположенный на пу15 ти луча и помещенный в обмотку электромагнита, соединенную через фаэосдвигающую цепь с источником питания.

На чертеже представлена принципиальная схема устройства„ содержащего источник оптического излучения с блоком питания (ЛГ-23 лазер на СО т

Л.= 10,6 мкм), оптическую систему 2 (линзы из3а Г ), измерительный электромагнит 3 с исследуемым образцом (Н 3 кЭ), магнитооптический кристалл

4 (Drt> bc M=10 см ), помещенный в обмотку электромагнита 5 (Й ъ 0 -1003>, анализатор 6 (дифракциоиная решетка

1200 шейр/мм из HKC-25), приемник оп)тичеСкого излучения 7 (OAII-5), фазо

Устройство для измерения концентрации носителей тока в полупроводниках Устройство для измерения концентрации носителей тока в полупроводниках 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх