Разрядная камера вче плазмотрона

 

- ехал б.,блиет, -=нал е;:а 1 +

Союз Советски а

Социалистических

Респубпии

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-.ау (22) Заявлено 09.10.78 (21) 2676894/24-07 с присоединением, эаявк» .% (23) Приоритет— (51) М. Кл.

Н 05 В 7/18 тееуиретваикык камитат

CCCP йо девам изааратаиий и вткрмтий

Опубликовано 05.06.80. Бюллетень Рй 21 (53) УДК

621.365.29 (088.8) Дата опубликования описания 06.06.80

Н. Й. Гончар, А. В, Звягинцев и P. В. Митин (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) РАЗРЯДНАЯ КАМЕРА ВЧЕ ПЛАЗМАТРОНА

Изобретение относится к электротехнике, . в частности к генераторам низкотемпературной плазмы, 1сеторые используются для обработки дисперсных,материалов. (1звестна, разрядная камера высркочастотногр емкодтнаго (ВЧЕ) плаэматрряа„охваченная коЛьцевыми электродами, подеоединенными к высокочастотному генератору. На одием тор-. це камеры, под острым углом к ее внутрен- ней поверхности, установлец по краййей мере один -патрубок подачи жидкости, на другом торце камеры — патрубок отвода жидкости.

Такая конструкция позволяет значительно: увеличить однородность обработанного дисперсного матерйала благодаря тому, что в выходной патрубок попадают лишь дисперсные частицы, прошедшие сковозь зону разряда (1). Известна также разрядная камера ВЧЕ плазматрона для обработки дисперсного материала, содержащая патрубки ввода и вывода плазмообразуюшего газа и материала, установленные в торцовых крышках камеры, и штуцеры ввода н вывода транспортирующего газа, присоединенные тангенциально к стенке камеры l2l

Недостатком известной разрядной камеры является то, что часть обрабатываемого дисперсного материала прохрдит вдоль стенок камеры мимо эРны разряда. При этом обработанный и йеобработанный дисперсный материал, поступает в обшнй сборник, что снижает качеqrso получаемого; материала. Целью изобретения является повышение качества получаемрго материала путем умень,тпения содержания в нем необработанного материала.Поставленная цель достигается тем, что патрубок. вывода заитубпен в камеру и образует с ее стенками кольцевую полость, штуцер вы- . вода размещен в зоне кольцевой полости, а штуцер ввода установлен встречно штуцеру вывода и вьаи него по:ходу подачи материала.

На фиг. 1 изображена раэрядная камера ВЧЕ плазматрона; на фиг. 2 — разрез камеры по штуцеру ввода транспортирующего наэа.

Разрядная камера 1 с патрубками подачи 2 и вывода 3 плазмообраэующего газа н дисперсного материала охвачЕна кольцевыми

739756 4

if, Ь, движения газа, эффективно захна1ывающего и выводящего необработанные, дисперсные частицы, Яля транспортировки частиц, попавших в кольцевую щель 6, может быть использована жидкость, если по условиям технологического процесса в камере допустимо наличие. ее пар0в.

Описанная конструкция позволяет обраба1О тьгвать более широкий класс веществ, в том числе активных и требующих особо чистых условий обработки. Это обьясняется возмож ностью создания и поддеракания газовой атмосферы строго контролируемого состава в рабочей камере.

Кроме того, повышено качество получаемого материала благодаря тому, что в нем содержится в 5 — 6 раз меньше необработанных частиц, чем при использовании известных кон20 струкций.

Разрядная камера ВЧЕ плазматрона для обработки дисперсного материала, содержащая патрубки ввода и вывода плазмообразующего газа и материала, установленные в торцовых крышках камеры, и штуцеры ввода и вывода транспортирующего газа, просоединенные тангенциально к стенке камеры, о т л и ч а ющ а я с я тем, что, с целью повышения качества материала путем уменьшЕния содержания в нем необработанного материала, патрубок вывода заглублен в камеру и образует с ее стенками кольцевую полость, штуцер вывода размещен в зоне кольцевой полости, а штуцер ввода установлен встречно штуцеру вывода и выше него по ходу подачи мате40 риала. электродами 4,-подключенными к ВЧ генератору 5. Патрубок вывода 3 углублен внутрь камеры 1 и закреплен. Образованная внутренней поверхностью камеры 1 и патрубком 3 глухая кольцевая щель 6 снабжена двумя штуцерами 7 и 8 подачи транспортирующего газа и вывода его вместе с необработанным дисперсным материалом. Штуцеры 7 и 8 располагают по касательной к внутренней поверхности камеры 1 на разных уровнях и во встречных направлениях. Штуцер вывода транспортирующего газа расположен ниже штуцера подачи по ходу движения рабочего газа и обрабатываемых частиц, Камера работает следующим образом.

Плазмообразующий газ и обрабатываемые дисперсные частицы подаются через патрубок

2 в зону емкостного разряда, создаваемого внешними электродами 4. Частицы, прошедшие через одну зону разряда, попадают в патрубок

3. Те частицы, которые вследствие расширения потока рабочего газа, выходящего из патрубка

2, движутся вдоль стенки разрядной камеры, остаются либо необработанными, либо обраь ботанными в меньшей степени, чем частицы движущиеся через разряд. Эти частицы попадают в глухую кольцевую щель 6 и выносятся в штуцер 8 потоком транспортирующего газа, который подается в штуцер 7, Таким образом, в патрубок 3 попадают лишь хорошо обработанные частицы, прошедшие всю зону разряда, Этим достигается высокая степень однородности получаемого дисперсного материала. Ра ° бочий и транспортирующий газы могут быль различными, либо может использоваться один и тот же газ.При этом может быть подобрана газовая среда с восстановительными, окислительными, нейтральными и другими свойствами по отношению к обрабатываемому материалу. При использовании чистых газов может быть достигнута высокая степень"чистоты. получаемого дисперсно го материала. Располо- жение штуцеров транспортирующего газа по касательной к внутренней поверхности камеры во встречных направлениях на разных уров- 45 нях по ходу движения частиц способствует .4 созданию в щели 6 винтового поступательного

Формула изобретения

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР N 596125, кл. Н 05 В 7/18, 28.06.1976.

2. Авторское свидетельство СССР N 544348, кл. Н 05 В 7/18, 28.09.1976 (прототип).

739756

Составитель Л. Сорокин

Техред Ж.Кастелевич Корректор lO.Ìàêàðåíêî

Редактор О. Филиппова

Заказ 2960!51

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Тираж 885 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий !!3035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Разрядная камера вче плазмотрона Разрядная камера вче плазмотрона Разрядная камера вче плазмотрона 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электротехнике, а именно к электродуговым генераторам газа, и может найти применение в металлургии, плазмохимии и т.д

Изобретение относится к способам формирования дугового разряда в плазмотроне и плазмотрон для их осуществления

Изобретение относится к энергетике и может быть использовано для растопки энергетических и водогрейных котлов и стабилизации горения пылеугольного факела

Изобретение относится к электротехнике, а именно к устройствам преобразования электрической энергии в тепловую с помощью электродугового разряда и может быть использовано для производства плавленных огнеупорных материалов, а также в металлургии

Изобретение относится к средствам дезинсекции и дезинфекции продуктов зернового происхождения перед их хранением, использованием для переработки или в качестве предпосевной обработки

Изобретение относится к микроволновым (СВЧ) плазменным реакторам с увеличенным объемом плазмы
Изобретение относится к электротермии, в частности к способам управления плазмотронов

Изобретение относится к электротермии, в частности к конструкциям вакуумных дуговых электропечей для выплавки слитков тугоплавких, высокореакционных металлов и сплавов, например титановых
Наверх