Композиция адгезионного подслоя для фотоматериалов

 

Композиция адгезионного подслоя для фотоматериалов, состоящих из стеклянной подложки и желатинового галогенсеребряного слоя, включающая желатину, привитой сополимер желатины с бутилметакрилатом, хромокалиевые квасцы и воду, отличающаяся тем, что, с целью увеличения адгезии галогенсеребряного слоя к стеклянной подложке и повышения выхода годной продукции, она дополнительно содержит гидроксид калия или гидроксид натрия, или гидроксид аммония, или фенолят натрия, или их смесь при следующем соотношении компонентов, г/л: Желатина - 2 - 10 Привитой сополимер желатины с бутилметакрилатом - 0,7 - 10 Хромокалиевые квасцы - 2 - 10 Гидроксид калия или гидроксид натрия, или гидроксид аммония, или фенолят натрия, или их смесь - 0,6 - 13 (до pH 4,5 - 6,0) Вода - До 1 л&

Изобретение относится к композициям адгезионных подслоев для фотоматериалов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности. Известна композиция адгезионного подслоя для фотоматериалов, состоящих из стеклянной подложки и желатинового галогенсеребряного слоя, включающая протеиновый коллоид, кремнийорганическое соединение, например винилтриацетоксисилан, дубитель, например формальдегид, и воду [1]. Недостатком указанной композиции является то, что приготовленные из нее адгезионные слои резко уменьшают держание галогенсеребряного слоя на стеклянной подложке после химико-фотографической обработки фотопластины, что недопустимо при изготовлении фотошаблонов в микроэлектронной промышленности. Наиболее близкой к предложенной композиции по технической сущности является композиция адгезионного подслоя для фотоматериалов, состоящих из стеклянной подложки и желатинового галогенсеребряного слоя, включающая желатину, привитой сополимер желатины с бутилметакрилатом, хромокалиевые квасцы и воду [2] . Кислотность приготовленного из этой композиции подслоя составляет pH 4,0 0,2. Недостатком указанной композиции является то, что приготовленный из нее подслой неудовлетворительно слабо удерживает галогенсеребряный слой на стеклянной подложке. Разброс по адгезии фотослоев к подложке может быть уменьшен при термообработке стекла с нанесенным подслоем в условиях сравнительно высоких температур (170oC). Это, однако, не устраняет полностью нестабильность результатов. Кроме того, вследствие высокой температуры и большого ее градиента может происходить разложение красителей в фотослоях и образование механических и оптических дефектов стекла и фотослоя, что приводит к снижению качества фотоматериалов (фотошаблонов) и, следовательно, уменьшению выхода годной продукции в фотолитографических процессах. Целью изобретения является увеличение адгезии галогенсеребряного слоя к стеклянной подложке и повышение выхода годной продукции. Поставленная цель достигается тем, что композиция адгезионного подслоя для фотоматериалов, состоящих из стеклянной подложки и желатинового галогенсеребряного слоя, включающая желатину, привитой сополимер желатины с бутилметакрилатом, хромокалиевые квасцы и воду, дополнительно содержит гидроксид калия или гидроксид натрия, или гидроксид аммония, или фенолят натрия, или их смесь при следующем соотношении компонентов, г/л: Желатина - 2 - 10 Привитой сополимер желатины (ПСЖ) с бутилметакрилатом - 0,7 - 10 Хромокалиевые квасцы - 2 - 10 Гидроксид калия или гидроксид натрия, или гидроксид аммония, или фенолят натрия, или их смесь - 0,6 - 13 (до pH 4,5 - 6,0)
Вода - До 1 л
Существенное отличие предлагаемой композиции подслоя от известной композиции [2] состоит в том, что дополнительно введенные в предлагаемую композицию подслоя добавки со свойствами оснований изменяют кислотность раствора, вследствие чего увеличивается степень задубленности подслоя при его термообработке. Высокая степень задубленности подслоя препятствует его набуханию во время химико-фотографической обработки фотоматериалов и отрыву фотослоев от стеклянной подложки. Содержание ПСЖ с бутилметакрилатом в предлагаемой композиции подслоя по сравнению с известной может быть уменьшено в 10 раз без снижения адгезии фотослоев к подложке. Сушку нанесенной на стекло композиции подслоя проводят при температурах 60 - 170oC, преимущественно при температуре 90oC. Время сушки подслоированного предлагаемым составом стекла при температурах 60 - 170oC составляет 1 - 10 мин, преимущественно 2 мин. Пример 1. Листовое стекло промывают 10 мин водным раствором моющего препарата "Кристалл" (5 г/л) при температуре 70oC, 5 мин водопроводной водой при температуре 70oC, 2 мин дистиллированной водой при 70oC и 2 мин обессоленной водой при 20oC. Стекла сушат нагретым до 40oC воздухом. Активированные поверхности стеклянных пластин осуществляют погружением их на 2 мин в водный раствор (50 г/л) пантагидрата тетрахлорида олова (IV) при 20oC. Пластины ополаскивают в водном растворе ацетона (100 г/л) при 20oC, затем в дистиллированной воде при 20oC и сушат нагретым до 40oC воздухом. Подслой готовят смешиванием нагретых до 40oC трех водных растворов в объемном соотношении 3 : 3 : 2, раствора желатины с концентрацией 20 г/л, раствора ПСЖ с бутилметакрилатом с концентрацией 20 г/л и раствора хромокалиевых квасцов с концентрацией 20 г/л. Готовый раствор (композиция известного состава) содержит, г/л: желатина 7,5, ПСЖ с бутилметакрилатом 7,5, хромокалиевые квасцы 5,0. Кислотность раствора составляет pH 4,0 0,2. В этом и последующих примерах композицию известного подслоя используют для приготовления контрольных образцов фотоматериалов (см. в таблице строку "контрольный опыт"). В композицию известного подслоя дополнительно вводят 4,8 г/л гидроксида калия. Кислотность раствора тем самым доводят до pH 5,5 0,1, контроль осуществляют с помощью pH-метра типа "pH-673". Стеклянные пластины погружают на 0,2 мин в раствор для подслоирования и после извлечения помещают на 4 мин в термокамеру, нагретую до 170oC. На охлажденные пластины наносят желатиновый галогенсеребряный слой, подвергают его студенению, сушке и созреванию для достижения требуемых фотографических характеристик. После экспонирования фотоматериала, проявления, ополаскивания водой, фиксирования и водной промывки пластины с влажным фотослоем испытывают на адгезию слоя к подложке. С этой целью на фотослое острым скальпелем делают ряд надрезов, затем в течение 0,3 мин фотослой подвергают истиранию и исследуют повреждения слоя вдоль надрезов, относя дефекты к различным классам. Пластины, на которых имеются повреждения фотослоя прямоугольной формы между линиями надрезов, считаются не прошедшими контроль. Для партии из 20 пластин адгезию прошедших контроль фотопластин выражают в процентах. Одновременно исследуют фотографические свойства фотоматериалов, а также наличие оптических дефектов фотослоя. Не прошедшими контроль по дефектности считаются фотопластины, содержащие более 1,5 дефектов (белых или черных точек) размером более 1,5 мкм на 1 см2. Для партии из 20 фотопластин долю прошедших контроль по дефектности пластин выражают в процентах. Результаты испытаний представлены в таблице. Из них видно, что предлагаемая композиция подслоя обеспечивает более высокую адгезию фотослоя к стеклянной подложке и не влияет на фотографические характеристики материалов. Аналогичные результаты получают, если в предлагаемую композицию подслоя вместо гидроксида калия вводят 3,4 г/л гидроксида натрия или 3,0 г/л гидроксида аммония, или 10,0 г/л фенолята натрия, или различные комбинации смесей гидроксидов калия, натрия и аммония и фенолята натрия, взятых в таком количестве, чтобы общая щелочность смеси добавок сохранялась, например в композицию подслоя вводят одновременно 1,2 г/л гидроксида калия, 0,85 г/л гидроксида натрия, 0,75 г/л гидроксида аммония и 2,5 г/л фенолята натрия. Пример 2. Готовят композицию адгезионного подслоя следующего состава, г/л: желатина 2, ПСЖ с бутилметакрилатом 0,7, хромокалиевые квасцы 2, гидроксид калия 1,0, вода до 1000 мл. Кислотность раствора pH 4,5. В отличие от примера 1 термообработку подслоированного стекла как в случае предлагаемой, так и в случае известной (см. пример 1) композиций подслоя проводят в течение 2 мин при температуре 130oC. Результаты испытаний приведены в таблице. Из данных видно, что предлагаемая композиция подслоя позволяет достичь более высокой адгезии, чем известная. Фотографические характеристики фотоматериалов не изменяются. Аналогичные результаты получают, если в предлагаемую композицию подслоя вместо гидроксида калия вводят 1 г/л гидроксида натрия или 0,6 г/л гидроксида аммония, или 2 г/л фенолята натрия, или различные комбинации смесей гидроксидов калия, натрия и аммония и фенолята натрия, взятых в таких количествах, чтобы общая щелочность смеси добавок была равна щелочности используемого индивидуально (без других добавок) гидроксида калия; например, в композицию подслоя вводят одновременно 0,3 г/л гидроксида калия, 0,2 г/л гидроксида натрия, 0,15 г/л гидроксида аммония и 0,5 г/л фенолята натрия. Пример 3. Готовят композицию адгезионного подслоя следующего состава, г/л: желатина 10, ПСЖ с бутилметакрилатом 10, хромокалиевые квасцы 10, гидроксид натрия 5, вода до 1000 мл. Кислотность раствора pH 6,0. В отличие от примера 1 термообработку подслоированного стекла проводят при температуре 110oC в течение 2 мин. В остальном поступают так, как описано в примере 1. Результаты испытаний приведены в таблице. Данные показывают, что предлагаемая композиция подслоя дает более высокую адгезию фотослоя к подложке, чем известная композиция. Фотографические свойства материалов одинаковы. Аналогичные результаты получают, если в предлагаемую композицию подслоя вместо гидроксида натрия вводят 6 г/л гидроксида калия или 4 г/л гидроксида аммония, или 13 г/л фенолята натрия, или различные комбинации смесей гидроксидов калия, натрия и аммония и фенолята натрия, взятых в таких количествах, чтобы общая щелочность смеси добавок была равна щелочности используемого индивидуально (без других добавок) гидроксида натрия, например в композицию подслоя одновременно вводят 1,2 г/л гидроксида натрия, 1,5 г/л гидроксида калия, 1 г/л гидроксида аммония и 3,2 г/л фенолята натрия. Содержание смеси добавок в подслое не должно превышать 13 г/л. Пример 4. Готовят композицию адгезионного подслоя следующего состава, г/л: желатина 10, ПСЖ с бутилметакрилатом 0,7, хромокалиевые квасцы 10, гидроксид аммония 0,6, вода до 1000 мл. Кислотность раствора pH 4,5. В отличие от примера 1 термообработку стекла с нанесенным подслоем проводят в течение 2 мин при температуре 90oC. Все остальные операции по изготовлению и испытанию фотоматериалов осуществляют так, как описано в примере 1. Результаты испытаний приведены в таблице. Из них видно, что предлагаемая композиция подслоя дает высокую адгезию фотослоя к подложке в сочетании с требуемыми фотографическими характеристиками материалов. Аналогичные результаты получают, если в предлагаемую композицию подслоя вместо гидроксида аммония вводят 1 г/л гидроксида калия или 1 г/л гидроксида натрия, или 2 г/л фенолята натрия, или различные комбинации смесей гидроксидов калия, натрия и аммония и фенолята натрия, взятых в таких количествах, чтобы щелочность смеси добавок была равна щелочности используемого индивидуально гидроксида аммония, например в композицию подслоя одновременно вводят 0,5 г/л гидроксида калия и 1 г/л фенолята натрия. Общее содержание смеси добавок с основными свойствами в подслое не должно быть меньше 0,6 г/л. Пример 5. Готовят композицию адгезионного подслоя следующего состава, г/л: желатина 2, ПСЖ с бутилметакрилатом 10, хромокалиевые квасцы 10, фенолят натрия 13, вода до 1000 мл. Кислотность раствора рН 5,8. В отличие от примера 1 термообработку подслоированного стекла проводят в течение 4 мин при температуре 60oC. В дальнейшем поступают так, как описано в примере 1. Результаты исследования приготовленных фотоматериалов приведены в таблице. Из этих данных следует, что предлагаемая композиция позволяет получить более высокую адгезию фотослоя к подложке, чем известная композиция подслоя. Аналогичные результаты получают при изменении содержания желатины в подслое от 2 до 10 г/л, а также при замене фенолята натрия на 6 г/л гидроксида калия или на 5 г/л гидроксида натрия, или на 4 г/л гидроксида аммония, или на смесь 3 г/л гидроксида калия и 2 г/л гидроксида аммония, или на смесь 2,5 г/л гидроксида натрия, 1 г/л гидроксида аммония и 3,2 г/л фенолята натрия. Из данных таблицы видно, что во всех приведенных примерах предлагаемая композиция подслоя обеспечивает более высокую адгезию фотослоев к подложке, чем известная композиция подслоя; преимущество более очевидно при низких температурах термообработки подслоированного стекла. Как следует из таблицы, использование предлагаемой композиции адгезионного подслоя обеспечивает по сравнению с существующими композициями стабильную высокую адгезию фотослоев к стеклянной подложке, что уменьшает процент брака в готовой продукции (повысит выход продукции).


Формула изобретения

Композиция адгезионного подслоя для фотоматериалов, состоящих из стеклянной подложки и желатинового галогенсеребряного слоя, включающая желатину, привитой сополимер желатины с бутилметакрилатом, хромокалиевые квасцы и воду, отличающаяся тем, что, с целью увеличения адгезии галогенсеребряного слоя к стеклянной подложке и повышения выхода годной продукции, она дополнительно содержит гидроксид калия или гидроксид натрия, или гидроксид аммония, или фенолят натрия, или их смесь при следующем соотношении компонентов, г/л:
Желатина - 2 - 10
Привитой сополимер желатины с бутилметакрилатом - 0,7 - 10
Хромокалиевые квасцы - 2 - 10
Гидроксид калия или гидроксид натрия, или гидроксид аммония, или фенолят натрия, или их смесь - 0,6 - 13 (до pH от 4,5 до 6,0)
Вода - До 1 лР

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способам изготовления галогенсеребряных фотографических эмульсий, конкретно к способу получения фотографической эмульсии, чувствительной к кварцевой УФ-области спектра, которая может быть использована при производстве фотоматериалов, применяемых в астрономии и спектроскопии

Изобретение относится к способам изготовления галогенсеребряных фотографических эмульсий, конкретно к способу получения фотографической эмульсии, чувствительной к кварцевой УФ-области спектра, которая может быть использована при производстве фотоматериалов, применяемых в астрономии и спектроскопии

Изобретение относится к способам спектральной сенсибилизации галогенсеребряных фотографических эмульсий к зоне спектра 500-790 нм и может быть использовано в химико-фотографической промышленности

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к фотографической промышленности, а именно к способам нанесения фотографических слоев на подложку, например, светочувствительной фотоэмульсии на бумагу; причем решающим качеством нанесения является их равномерность

Изобретение относится к технологии изготовления светочувствительной эмульсии на основе галогенида серебра

Изобретение относится к способам подготовки к поливу галогенсеребряных фотографических эмульсий и может быть использовано в химико - фотографической промышленности при изготовлении высокочувствительных инфрахроматических фотоматериалов, используемых для измерения лазерных параметров, исследования плазмы, съемки теплового рельефа, дефектоскопии, астрофизики, при реставрации произведений искусства

Изобретение относится к фотографической промышленности, в частности к технологии изготовления фотографической эмульсии

Изобретение относится к области изготовления светочувствительных материалов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности, а также в картографии

Изобретение относится к синтезу светочувствительных материалов для регистрации информации и может быть использовано в химико-фотографической промышленности, медицинской и промышленной радиографии

Изобретение относится к фотографической химии, а именно к способам изготовления бромиод- или бромхлориодсеребряной фотографической эмульсии с таблитчатыми микрокристаллами (Т-МК), и может быть использовано в процессах изготовления черно-белых, рентгенографических, цветных фотоматериалов различного назначения

Изобретение относится к бессеребряным светочувствительным составам, которые могут быть использованы для получения изображений на различных типах поверхностей
Наверх