Электролит для осаждения меди

 

Союз Советски к

Социалистических

Реслублик

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ ()846602 (61 ) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 26.05.78 (21) 2619876/22-02 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет— (51) М. Кл.з

С 25 D 3/38

Гееударстееииый комитет (53) УДК 621.357:

:669.38 (088.8) Опубликовано 15.07.81. Бюллетень №26

Дата опубликования описания 25.07.81 по делам изобретеиий и открытий! нХ (72) Авторы изобретения

В. О. Кисилевич, В. Ф. Мальцев, Э. Н. Пащен и Л. Г. Шейхетова (7!) Заявитель (54) ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ МЕДИ

Сернокислая медь

Триполифосфат натрия

Натрий фосфорнокислый двузамещенный

Молочная кислота

30 — 40

130 †1

30 — 50

20 — 24

Изобретение относится к нанесению гальванических покрытий, в частности медных, и может быть использовано в машиностроении и приборостроении.

Известен электролит для осаждения меди, содержащий сернокислую медь, триполифосфат натрия и соль ортофосфорной кислоты, например фосфорнокислый аммоний.

Из данного электролита осаждаются мелкокристиллические, беспористые и светлые покрытия (1J.

Недостатком этого электролита является низкий выход по току — 65%.

Цель изобретения — интенсификация процесса.

Указанная цель достигается тем, что раствор дополнительно содержит молочную кислоту при следующем соотношении компонентов, г/л:

Плотность тока 0,4 — 2 А/дм без перемешивания и 2 — 4 А/дм с перемешиванием.

Значение рН лежит в пределах 7,15 — 7,20.

Молочную кислоту вводят в электролит с целью воспрепятствовать разложению триполифосфатного комплекса меди, что способствует увеличению стабильности электролита и интенсификации процесса меднения.

Электролит готовят следующим образом.

Триполифосфат натрия растворяют в щ 300 мл горячей воды, от;:льно растворяют сернокислую медь в 150 мл воды. К раствору триполифосфата натрия приливают раствор натрия фосфорнокислого двузамещенного в 200 мл воды и молочную кислоту.

Затем доливают водой до 1 л.

1S Оса(ждение покрытий осуществляют при температуре электролита 25 С на образцах нз стали марки СТ20 размером 40 Х 40 X 1 с получением покрытия толщиной 15 мкм из электролитов следующего состава, г/л:

Сернокислая медь 30 35 40

Триполифосфат натрия 130 140 150

Натрий фосфорнокислый двуза мещенны и

Молочная кислота

846602

Формула изобретения

20

Составитель М. Щербакова

Редактор М. Дылын Техред А. Бойкас Корректор М. Шароши

Заказ 5383/38 Тираж 704 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП <Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Прочность сцепления медного покрытия с основным металлом соответствует требованиям ГОСТа № 16875-71, т. е. на пересечении нанесенных под углом царапин глубиной до основного металла отслаивания покрытий не наблюдается. Медное покрытие практически беспористое при толщине 15—

20 мкм. Выход по току для данного электролита составляет 90 /о.

Рассеивающая способность электролитов определенная с помощью ячейки Хулла составляет 66 — 70о/о. Скорость осаждения покрытия при плотности тока 0,5 А/дм 5 мкм/ч при 1 А/дм 15 мкм/ч при 4 А/дм 50 мкм/ч.

Удельную электропроводность электролитов определяют с помощью моста переменного тока P-568, генератора сигналов ГЗ-33 и индикатора нуля Ф-550, она составляет

0,0586 Ом см . Покрытия хорошего качества получают при длительной работе электролита (при прохождении через электролит количества электричества не менее 40 А ч/л

Предлагаемый электролит может быть использован вместо цианистого, этилендиаминового, аммиачного и пирофосфатного электролитов для меднения изделий из углеродистой стали с целью получения подслоя перед никелированием и для нанесения специальных видов покрытия, в его состав входят более дешевые и недифицитные компоненты по сравнению с известными.

Электролит для осаждения меди, содержащий сернокислую медь, триполифосфат натрия и соль ортофосфорной кислоты, преимущественно натрий фосфорнокислый двузамещенный, отличающийся тем, что, с целью интенсификации процесса, он дополнительно содержит молочную кислоту при следующем соотношении компонентов, г/л:

Сернокислая медь 30 — 40

Триполифосфат натрия 130 — 150

Натрий фосфорнокислый двуза мешен ный 30 — 50

Молочная кислота 20 — 24

Источники информации, Принятые во внимание при экспертизе

1. Реферативный журнал «Технология неорганических веществ», № 9, 1965, с. 282.

Электролит для осаждения меди Электролит для осаждения меди 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области гальваностегии, в частности к нанесению медных покрытий на сталь без промежуточного подслоя и может быть применено в машиностроении и приборостроении для получения пластических медных покрытий с минимальным наводораживанием стальной основы

Изобретение относится к области гальванотехники, в частности получению электролитических компактных гладких и блестящих или матовых покрытий медью и ее сплавами, а также гальванопластических изделий из них

Изобретение относится к области цветной металлургии, в частности, к электролитическому способу получения медных фосфорсодержащих анодов из отходов меди (вторичного сырья)

Изобретение относится к области гальваностегии, в частности, к электролитическому осаждению медных покрытий

Изобретение относится к области нанесения металлических покрытий, в частности к составам растворов для контактного меднения тугоплавких металлов, например циркония и его сплавов, и может быть использовано для нанесения технологической подсмазки при волочении

Изобретение относится к гальваностегии, в частности к нанесению блестящих медных покрытий на сталь без промежуточного подслоя

Изобретение относится к гальваностегии, в частности к нанесению блестящих медных покрытий на сталь без нанесения промежуточного слоя

Изобретение относится к гальваностегии, в частности к нанесению медных покрытий, и может найти применение в различных отраслях промышленности

Изобретение относится к гальваностегии, в частности к нанесению медных покрытий на сталь без применения промежуточного слоя

Изобретение относится к гальваностегии, в частности к нанесению блестящих медных покрытий на сталь без промежуточного подслоя
Наверх