Фототермопластический материал
Союз Советских
Социалистических
Республик
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИ ЕТЕЛЬСТВУ (u)89659f
Ф
l (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 210580 (21) 2927534/28-12 с присоединением заявки ¹(23) Приоритет
Опубликовано 070 1.82. Бюллетень 89 1
Дата опубликования описания 0 L0182 (51)М. Кл З
6 03 Я 5/08
Государственный комитет
СССР ио делам изобретениЯ и открытий (53) УДК 771.26 (088. 8) (72) Авторы изобретения
Л.И. Зеленина, A.Ï. Володина, A.A. Постнйков, .
А.В. Павлов и Г.M. Орлова
J
Всесоюзный государственный ордена Трудового Красного.
Знамени научно-исследовательокий и проеЫ щий институт химико-фотографической промышленности (71) Заявитель (54) ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ
Изобретение относится к несеребряным фотографическим материалам, а именно к фототермопластическому материалу, который может быть использован для быстрой регистрации и воспроизведения информации в обычной и голографической форме.
Известен фототермопластический материал, состоящий из электроизолирующей подложки, электропроводящего покрытия из никеля, инжекционного слоя иэ сплава селена с мышьяком фОтотермопластического слоя, содержащего поли-N-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом. Данный фототермопластический материал прозрачен, обладает высокой чувствительностью к видимой области спектра (11.
Недостатками этого материала являются низкая чувствительность к длинноволновой зоне спектра, а также недостаточно высокая термостабильность для обеспечения высокой цикличности при многократной записи и стирании информации.
Наиболее близким к предлагаемому является фототермопластический материал, состоящий иэ электроизолирующей подложки, электропроводящего покрытия из никеля, инжекционного слоя толщиной 0,1 мкм и стеклообразного сплава селена с мьааьяком и теллуром(селен-94%,кыиьяк - 1Ъ,теллур5Ъ) и фототермопластического слоя, содержащего поли-N-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом. Этот материал прозрачен,.обладает высокой чувствительностью к видимой области спектра и более высокой чувствительностью к длинноволновой области спектра по сравнению с другими материалами (2).
Однако этот материал обладает низкой термостабильностью и недостаточно высокой чувствительностью к длинноволновой зоне спектра для обеспечения работы в голографических устройствах при записи информации на длинах волн 441 и 633 нм.
20 Цель изобретения — повышение чувствительности к длинноволновой области спектра и термостабильности при сохранении прозрачности материала.
Указанная цель достигается тем, что фототермопластический материал, состоящий из электроизолирующей подложки, электропроводящего покрытия, инжекционного слоя иэ стеклообразно30 го сплава селена с мышьяком и теллу896591
1 (известный) 1 5
1,5
30
0 i 10
37
3,0
5 7 5
5 10
0,20
33
2,5
0i11
33
2,3
3 6
0,20
ФОрмула изобретения
ВНИИПИ Заказ 11695/36 Тираж488 Подписное
Филиал ППП "Патент", г. ужгород, ул.Проектная,4 ром и фототермопластического слоя, включающего поли-N-винилкарбазол и термопластический полимер, содержит инжекционный слой толщиной О,ll0,2 мкм при соотношении селена, мышьяка и теллура, масс.Ъ
Селен 85-91
Мышьяка 3-5
Теллур 6-10
Пример 1. На металлизированную никелем полиэтилентерефталатную основу напыляют инжекционный слой сплава следующего состава, Ъ: селен
94; мышьяк 1; теллур 5. Толщина слоя
0,1 мкм.
Затем методом купающего ролика из раствора в толуоле наносят фототермопластическую композицию состава: поли-N-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом в соотношении lsзl, Толщина полимерного покрытия составляет 2- 3 мкм.
Приготовленный материал высушивают в вакуумном сушильном шкафу при комнатной температуре в течение 2 ч.
Пример 2. Аналогично примеру 1 получают фототермопластический материал при использовании в качестве инжекционного слоя сплава следуюФототермопластический материал, состоящий из электроизолирующей подлОжки, электропроводящего покрытия, инжекционного слоя из стеклообразного сплава селена с мышьяком и теллуром и фототермопластического слоя, включающего поли-N-винилкарбазол и термопластический полимер, о т л ич а ю шийся тем, что, с целью повышения чувствительности к длинноволновой области спектра и,термостабильности при сохранении прозрачности, он содержит инжекционный слой толщиной 0„11-0,2 мкм при следующем щего состава, Ъ: селен 87, 5; мышьяк 5; теллур 7,5.
Толщина инжекционного слоя
0,20 мкм.
Пример 3. Аналогично примеру 1 готовят фототермопластический материал с применением хрома при получении электропроводящего покрытия и сплава следующего состава, Ъ: селен 85; мышьяк 5; теллур 10 в качестве инжекционного слоя толщиной
0 11 мкм.
Пример 4. Аналогично примеру 1 получают фототермопластический материал с применением в качестве термопластического полимера канифоли, 15 модифицированной диалином, а в качестве инжекционного слоя толщиной
0,2 мкм сплава, содержащего, Ъ: селен 91, мышьяк 3, теллур б.
В таблице приведены результаты щ Опытов
Из таблицы видно, что чувствительность материала, полученного по предлагаемому способу, к излучению с 1 =633 нм в 1,5-2 раза выше, чем у материала, полученного по известному способу, при этом термостабильность материала выше, а прозрачность сохраняется. соотношении селена, мышьяка и теллу4$ ра в сплаве, масс. Ъ:
Селен 85-91
Мышьяк 3-5
Теллур 6-10
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
1. Зеленина Л.И, и др. Неорганические фотопроводящие материалы для носителей фототермопластической записи. М., НИИТЭХИМ, 1980;
55 2. Недужий С.А. и др. Журнал научной и прикладной фотографии и кинематографии, 1979, т. 24, вып. б, с 404-406,(прототип).