Плазменный реактор для напыления


H05H1 - Плазменная техника (термоядерные реакторы G21B; ионно-лучевые трубки H01J 27/00; магнитогидродинамические генераторы H02K 44/08; получение рентгеновского излучения с формированием плазмы H05G 2/00); получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов (получение нейтронов от радиоактивных источников G21, например G21B,G21C, G21G); получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов (атомные часы G04F 5/14; устройства со стимулированным излучением H01S; регулирование частоты путем сравнения с эталонной частотой, определяемой энергетическими уровнями молекул, атомов или субатомных частиц H03L 7/26)

 

Плазменный реактор для напыления, содержащий камеру, по крайней мере два плазмотрона, установленные в стенке камеры, систему подачи напыляемого материала, отличающийся тем, что, с целью повышения качества напыления и экономичности процесса, камера выполнена сферической формы, а точка пересечения осей плазмотронов совпадает с центром камеры.



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к вакуумной технике и может найти применение в нанесении высококачественных покрытий простого и сложного составов

Изобретение относится к области вакуумного напыления и может быть использовано при создании технологического оборудования для производства изделий электронной техники, радиотехники, приборостроения, в частности установок вакуумного напыления с использованием дугового разряда

Изобретение относится к технологии получения вакуумных покрытий и может быть использовано при нанесении защитных, износостойких и декоративных покрытий, в частности на керамические и стеклянные облицовочные плитки
Наверх