Патенты автора Сидоров Ю.Г.

СПОСОБ ОЧИСТКИ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ ОТ КИСЛОРОДА И ЛЕТУЧИХ КИСЛОРОДСОДЕРЖАЩИХ СОЕДИНЕНИЙ В РЕАКЦИОННОЙ ЗОНЕ ПРИ ВЫРАЩИВАНИИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ ПОЛУПРОВОДНИКОВ И ДИЭЛЕКТРИКОВ // 524492

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ N+-СЛОЕВ НА КРИСТАЛЛАХ И ПЛЕНКАХ АРСЕНИДА ГАЛЛИЯ // 511755

СПОСОБ СБОРА РТУТИ В ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ КАМЕРЕ УСТАНОВКИ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ И УСТАНОВКА ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ // 2071985

Изобретение относится к электронной технике, преимущественно к устройствам для вакуумного нанесения покрытий, и может быть использовано в технологии получения тонкопленочных многослойных покрытий

СПОСОБ ЛИСТОВОЙ ШТАМПОВКИ С НАГРЕВОМ // 2212969

Изобретение относится к горячей штамповке деталей из листовых заготовок труднодеформируемых сплавов

СПОСОБ БЕСКОНТАКТНОГО ИЗМЕРЕНИЯ ТЕМПЕРАТУРЫ // 2149366

ИСТОЧНИК АТОМАРНОГО ВОДОРОДА ДЛЯ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ // 2148871

Изобретение относится к области полупроводниковой техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) как для предэпитаксиальной подготовки подложек (очистка поверхности от кислорода, углерода и других загрязнений), так и в процессе выращивания тех или иных слоев

ИСПАРИТЕЛЬНЫЙ ТИГЕЛЬ // 2133308

Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах

УСТРОЙСТВО ДЛЯ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ // 2111291

Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано в технологии получения тонкопленочных многослойных покрытий