Устройство для контактной фотолитографии

 

УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТАКТНОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ, содержащее гибкий фотошаблон, источник актиничного излучения , механизм совмещения фотошаблона и подложки в виде вакуумной камеры с. держателем фотошаблона и держателем подложки, о т л и ч а .tout е е с я тем, что/ с целью пов зИ1зения качества и зделия,- держатель фотошаблона снабжен камерой избыточ:ного давления. (Л

„.Я0„„14 А

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК.

3(59 Н 05 К Э/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

flO ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (54) (57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТАКТНОЙ

ФОТОЛИТОГРАФИИ, содержащее гибкий фотошаблон, источник актиничного излучения, механизм совмещения фотошаблона и подложки в виде вакуумной камеры с. держателем Фотошаблона и держателем подложки, о т л и ч а ящ е е с я тем, что, с целью повышения качества изделия,. держатель фотошаблона снабжен камерой избыточного давления. (21) 3478.079/18.-21. (22) 28.07.82 (4.6) 23.10.83. Бюл.- 9 39 (72)..Г.Н.Березин, A.B.Êàáàêîâ, П.Е. Кандыба, И.И. Кошелев и A.Â..Ñàìîõèí, (53). 621.3.049 ° 75 776(088.8) ,(56): 1.Федотов Я. и Поль Г.Фотолито.-. графия и оптика, М., Советское радис .,, Берлин, .Техника, 1979. ,2. АСЕЕВ Тгапв, 1975., V,Е0-22, р. 496 (прототий);

Й ф

1050140

-10

Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам экспонирования для контактной фотолитографии с использованием гибкого фотошаблона.

Известно устройство для контактной фотолитографии, содержащее ис.точник актиничного излучения и узел совмещения фотошаблона с рабочей пластиной-подложкой, позволяющий точно сориентировать шаблон и подлож ку относительно друг друга и привести их в контакт. Используется жесткий шаблон, не подвергающийся заметной деформации под действием давления l кГ/см .(1) .

Однако иэ-за неплоскостности фотошаблона и подложки, а также эа счет пылинок, попадающих в пространство между контактирующими поверхностями, прилегание шаблона к подложке всегда оказывается не полным, что способствует возникновению дифракционных эффектов при переносе иэображения.и ограничивает разрешающую способность контактной фотолитографии.

Наиболее близким к изобретению .по технической сущности является устройство для контактной фотолито-. графии, содержащее гибкий фотошаб лон., источник актиничнога излучения, механизм совмещения фотошаблона в виде вакуумной камеры с держателем фотошаблона .и держателем подлож,ки j2) .

Однако известное устройство не обеспечивает высокого качества иэ.делия.

Цель изобретения — повышение ка.чества изделия.

Поставленная .цель достигается. .. тем„-.что в устройстве для контактной фотолитографии, содержащем гиб-, кий фотошаблон, источник актиничного излучения, механизм совмеще- . . Ния фотошаблона и подложкя в виде вакуумной камеры с держателем фото шаблона и держателем подложки, дер жатель фотошаблона снабжен камерой избыточного давления.

На чертеже показано устройство, общий вид.

Фотошаблон 1, выполненный на стеклянной пластине толщиной 0,2 мм, прикреплен к крышке 2 с помощью вакуумных прясосбк, соединенных с вакуумной камерой через штуцер 3.

Подложка 4 размещена на эластичной .пленке 5, закрепленной на подвижной рамке, приводимой в движение при необходимости совмещения шаблона с подложкой посредством микрометрических винтов б. Корпус 7 соединен с камерой 8 резиновой манжетой 9, герметиэярующей пространство шабВНИИПИ Заказ 8466/58

Филиал ППП "Патент, г лон-подложка и позволяющей перемещать камеру 8 по трем направлениям.

Штуцер 10 служит для удаления воздуха из пространства шаблон-подложка. Штуцера 11 и 12 подключаются к системе создания избыточного давления.Источник 13 актиничного иэлуненяя расположен над узлом совмещения и контактирования.

Устройство работает следующим образом.

Откидывается крышка 2 и к ней с помощью вакуума крепится фотошаблон

1. Экспонируемая подложка помещается на эластичную пленку 5, и крышка 2 плотно соединяется с корпусом 7. Через штуцер 12 подается небольшое избыточное давление для прогибания шаблона в сторону подложки. С помощью микрометрических винтов б подложка совмещается с фотошаблоном.

Затем иэ камеры шаблон-подложка откачивается воздух через штуцер 10.

Шаблон и подложка устремляются навстречу друг другу. При этом за счет начального прогиба шаблона их соприкосновение происходит сначала в центре подложки. Зона контакта распространяется от центра к периферии и весь воздух из области конЗо тактирования легко удаляется. Края шаблона, выступающие за пределы подложки, стремятся под действием атмосферного и избыточного давления обогнуть подложку и неизбежно поломались

35 бы, если бы не были уравновешены . противодавлением со стороны эластич, ной пленки, которая быстро огибает подложку, подпирает края шаблона практически в плоскости контактирова40 ния шаблон-подложка. При необходимости переноса изображЕния на .подложку с сильно развитым геометрическим рельефом после приведения в контакт фотошаблонф и подложки через штуце4 ра ll и 12 одновременно подается сжатый воздух для создания дополни тельного избыточного давления. После осуществления полного физического контакта шаблона c,ïoäëoæêîé проиэ-: йодится экспонирование включением источника 13 актиничного излучения.

Для извлечения подложки штуцера 1012 подсоединяются к атмосфере, и при . выравнивания-давлений во всех камерах криака 2 открывается. При не-.

55 обходимости замены фотошаблона с атмосферой соединяется штуцер 3.

Устройство .позволяет улучшить разрешающую способность контактной фотолитографии при перекосе изобраgj жения с.гибкого фотошаблона на подножки с сильно развитым геометрическим рельефом, имеющие произвольную конфигурацию.

Тираж 845 Подписное .Ужгород,ул. роектная,