Устройство для создания регулярного микрорельефа

 

УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ РЕГУЛЯРНОГО МИКРОРЕЛЬЕФА, содержащее корпус, в отверстии которого расположен подпятник с деформирующим шаром, я механизм нагружения последнего, отличающееся тем, что, с целью интенсификации процесса за счет ударного приложения нагрузок, оно снабжено установленными в корпусе лазерным излучателем и отрицательной линзой, причем последняя размещена между деформирующим шаром и лазерным излучателем, при этом деформирующий шар выполнен из прозрачного для излучения материала, а его центр расположен на оптической оси отрицательной линзы. (Л

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (!9) (! !1, 3(Я! В 24 В 39 00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Ю (21) 3527049/25-27 (22) 21.12.82 (46) 15.05.84. Бюл. У 18 (72) П.А.Киричек, В.П.Котляров и Н.И.Анякин (71) Киевский ордена Ленина политехнический институт им.50-летия

Великой Октярьской социалистической революции (53) 62 1.923.77(088.8) (56) 1. Шнейдер Ю.Г. Инструмент для чистовой обработки металлов давлением. Л., "Машиностроение", 1971, рис. 42 (прототип). (54)(57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ

РЕГУЛЯРНОГО МИКРОРЕЛЬЕФА, содержащее корпус, в отверстии которого расположен подпятник с деформирующим шаром, н механизм нагружения последнего, о т л -и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью интенсификации процесса за счет ударного приложения нагрузок, оно снабжено установленными в корпусе лазерным излучателем и отрицательной линзой, причем последняя размещена между деформирующим шаром и лазерным излучателем, при этом деформирующий шар выполнен из прозрачного для излучения материала, а

его центр расположен на оптической оси отрицательной линзы.

1 10

Изобретение относится к обработке металлов поверхностным пластическим деформированием и может быть применено при нанесении регулярного микрорельефа на трущихся поверхностях деталей для увеличения срока их работы.

Известно уетройство для создания регулярного микрорельефа, содержащее корпус, в отверстии которого расположен подпятник с деформирующим шаром, и механизм нагружения последнего 1 g.

Однако использование известного устройства при обработке закаленных . деталей или.хрупких деталей малоэффективно и, как следствие, малопроизводительно.

Цель изобретения — интенсификация процесса эа счет ударного приложения нагрузки.

Цель достигается тем, что устройство для создания регулярного микрорельефа, содержащее корпус, в отверстии которого расположен подпятник с деформирующим шаром, и механизм нагружения последнего, снабжено установленными в корпусе лазерным излучателем и отрицательной линзой, причем последняя размещена между деформирующим шаром и лазерным излучателем, при этом деформирующий шар выполнен из прозрачного для излучения материала, а его центр расположен на оптической оси линзы.

На чертеже показано предлагаемое устройство.

Устройство содержит корпус 1, в отверстии которого расположен выпол-. ненный из "фторопласта-4" подпятник 2 с деформирующим шаром 3, контактирующим с обрабатываемой деталью 4.

На корпусе: 1 установлен излучатель— лазерный генератор 5, между деформирующим шаром 3 и излучателем— лазерным генератором 5 на расстоянии Д от поверхности деформирующего шара 3 помещена отрицательная линза

5. Механизм нагружения шара выполнен в виде пружины 7, размещенной в корпусе 1, Деформирующий шар 3 выполнен из прозрачного для излучения материала, а его центр распо.ложен на оптической оси отрицательной линзы 6.

Параметры получаемого микрорельефа связаны с параметрами устройства соотношениями 2 + 41 2

8 h

f (b.r-D.h)+f(b r A-D. r -20 h A )2

10 -В(1 +r л ) = О

А где h — - глубина микрорельефа

Ь вЂ” ширина микрорельефа;

r — радиус деформируемого шара, D — - диаметр луча;

f. — фокусное расстояние отрицательной линзы.

Устройство работает следующим образом.

20 Для заданных размеров профиля микрорельефа по указанным отношениям определяют радиус шара r, фокусное расстояние линзы f и расстояние от последней до поверхности шара.

Деформирующий шар 3 устанавливают на поверхность детали, создают натяг в пружине 7, равный усилию обкатки и включают излучатель — лазерный генератор 5. Излучение фокусируется

30 линзой 6 и объемом шара 3 в пятно диаметром Ъ в месте его контакта с обрабатываемой поверхностью детали, и скорость относительного перемещения шара.и поверхности в

З5 направлении одной из координат Х или (или по заданному закону) опреде-. ляется экспериментально для достижения оптимального микрорельефа и зависит от теплофизических свойств

gp материала и реализуемой плотности мощности светового потока

О,= ото -то (Вт(омт)

49/ 6

J) 1 pJ

45 где Ф вЂ” энергия излучения, Дж;

4". — длительность, с.

Предложенное устройство по сравнению с базовым объектом, принятым б за прототип, позволяет интенсифицировать процесс за счет ударного приложения нагрузок с быстрым возрастанием давления, что позволяет при малых усилиях повысить качество

5 обрабатываемой поверхности. дНИИПИ Заказ 3179/9 Тираж 737 Попписное

Фелнал ППП Патент, г.унгорол, ул.Проектная, 4