Точечная шкала для контролирования оптических плотностей полутоновых изображений

 

М 117783, Класс 42!1, 17е(57d, 101

57d, 6

СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

К. P. Янсон

ТОЧЕЧНАЯ KKAJlA ДЛЯ КОНТРОЛИРОВАНИЯ ОПТИЧЕСКИХ

ПЛОТНОСТЕЙ ПОЛУТОНОВЫХ ИЗОБРАЖЕН И Й

Заявлено IG декабря 1957 г. за ¹ 587915/28 в Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Ч(пигетров СССР

Известны точечные шкалы для контролирования оптических плотностей полутоновых изображений при воспроизведении их фотомеханическим путеh(, выполненные B BHjIe комбинации полей, составле((ных из совокупности точек.

Отличительной особенностью предлагаемой шкалы является то, что точки ее имеют одинаковый размер и одинаковую и равномерную в пределах каждого поля оптическую плотность, причем плот;(ость пропорционально изменяется от одного поля к другому. Указанная отличительная особенность позволяет более то-цю определить величину экспозиции при фотомеханическом изготовлен!пи печагпых форм, а также дает возможность судить о светочувствительности копировального слоя в реальных условиях его использования.

На фиг. 1 изображена схема распо".ожения точек на o!,".åë(;HB(õ полях шкалы (условно изображены лишь небольшие участки каждого поля с девять(о точкаы((на каждом); на фпг. 2 — схе .(а пзх(енеп(я плотностей точек от одного поля шкалы к другому.

Контрольная шкала выполнена в виде комбинации полей 1, ", 3, 4, 5 и т. д. (((а фиг. условно изображены участки пяти полей). Каждое поле имеет на прозрачном фоне б регулярно расположенныс точки 7. В пределах каждого поля точки имеют од: паковый размер II оп(наковую и равномерную плотность. От одного поля к другому плотность пропорционально изменяется.

Изменение плотности точек схематично представлено на фиг. 2.

Здесь изображены в большем увеличении точки отдельных полей шкалы (по одной точке из каждого поля). Плотность точек условно показана штриховкой различной частоты. Г!ри этом плоrllocrll Р, Р, Р, Р, и Р5 точек 7 подчинены зависимости Р =" Р < Р - Р.:-. Р,.-. № 117782

Оптическая плотность фона б одинакова на всей шкале, В зависимости от свойств контролируемых копировальных слоев разницу в величине оптической плотности точек от одного поля контрольной шкалы к другому выбирают в пределах от 0,015 до 0,15. При этом минимальная плотность точек выбирается порядка 0,4, а максимальная — 2,0.

В процессе использования шкалы ее копируют на соответствующий светочувствительный копировальный слой вместе с подлежащим воспроизведению растровым изображением. О правильности примененной экспозиции и о качестве копировального слоя судят, наблюдая, под каким полем шкалы после проявления копии получена сплошная пленка копировального слоя, на скольких полях шкалы слой оказался удаленным только под частью точек и под каким первым (имеющим наименьшую плотность точек) полем слой при проявлении оказался удаленным под всеми точками. Зная величины оптических плотностей точек указанных полей шкалы, можно произвести достаточно полную оценку свойств копировального слоя в конкретных условиях его обработки, Предмет из обретения

Точечная шкала для контролирования оптических плотностей полутоновых изображений при воспроизведении их фотомеханическим путем, выполненная в виде комбинации полей, составленных из совокупности точек, отличающаяся тем, что, с целью повышения точности контролирования, точки в ней выполнены одинакового размера и одинаковой и равномерной в пределах каждого поля оптической плотности, причем плотность пропорционально изменяется от одного поля к другому.

Фиг 1

Фие 2

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Редактор P. Б. Кауфман Гр. 170, 235

Информационно-издательский отдел.

Объем 0,17 и. л. Зак. 1721

Подп. к печ. 23.Ш-59 г, Тираж 810 Цена 25 коп.

Типография Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Петровка, 14.

Точечная шкала для контролирования оптических плотностей полутоновых изображений Точечная шкала для контролирования оптических плотностей полутоновых изображений 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технической физике, более конкретно к фотометрии, и может быть использовано в конструкции тест объектов, используемых для контроля характеристик инфракрасных наблюдательных систем

Изобретение относится к радиационным измерениям и, в частности, к измерениям дозы ультрафиолетового (УФ) излучения на основе использования явления фотохромизма
Наверх