Эллипсометр для измерения толщины поверхностных слоев и оптических свойств образцов

 

Изобретение относится к измерительной технике, связанной с оптическими методами из.мерения оптических свойств изотропных и анизотропных ОДНОС.ЮИНЫХ и МНОГ()СЛО11ных отражающих систе.м. Цель 113()О) ния - повышение удобства в работе и возможность проведения измерений на любых изотропных и анизотропных от|К1 1 аю1цих системах при любых бол1)111их уг.чах падения вплоть до 90°. CyniHOCTb изобретения зак.чючается в том, что в э. 1.1инсо% стре л. 1я li.iMC- рения толщины и оптических cBoiicr-ri ойрал цов, содержаигем тубус падающс ciier;; и тубус отраженного света, устанои.юипыо под угло.м дру1 к дру1 у, и кювет для размещения образца, оптические окна расположены на торцах тубх сон. o6| iaiucii ibi ix кювете , тубусы герметично iipiiKfieih ioiib: к NUii - ко гофрировапныл стенкам кюнс Т,, д/ю которой жестко зак| )ег1,1е;1о на про.тмотном сто.1пке. I H.i. ю К5 С5 О 05 со

СОЮЗ СОВЕТСКИХ !

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК (S» 4 б 01,! 4/04

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н А BTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3766963/31-25 (22) 04.07.84 (46) 30.09.86. Бюл. № 36 (7! ) Институт физики полупроводников СО

АН СССР (72) А. С. Мардежов и Т. Хасанов (53) 535.511 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР № 947641, кл. G Ol В 11/06, 1982.

М. Gauch, I. Quentel. Surf. Sci, v. 108, № 3, р. 617 — 624, 1981. (54) ЭЛЛИПСОМЕТР ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ

ТОЛЩИНЫ ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ

И ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ОБРАЗЦОВ (57) Изобретение относится к измерительной технике, связанной с оптическими методами измерения оптических свойств изотропных

„„SU„„1260697 А1 и анизотропных одное I()iiliblx и много(лойных отражающих систем. Цель нз<гбретения — повышение удобства в рлю!е и возможность проведения измерений на л!обык изотропных и анизотропных отр. к 1»: ко гофрированным r()ка,. кк)ьк гы, 3;«) которой жестко за креli, l ll() и;1 !1р(. 1м(11!о ("!.о. и ке. и. i.

1260697

Формула изобретения г7

Составитель В. Яковлев

Редактор Н. Горват Техред И. Верес Корректор T. Колб

Заказ 5216/37 Тираж 778 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП «Патент», r. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относит< я к измерительной технике, связанной с оптическими методами измерения оптических свойств изотропных и анизотропных однослойных и многослойных отражающих систем.

Целью изобретения является расширение области применения на проведение иммерсионных измерений при больших углах падения света.

На чертеже изображена принципиальная схема эллипсометра.

Эллипсометр содержит тубус падаю1цего света и тубус 2 отраженного света, крышки 3 и 4, полые трубки 5 и 6, вставленные в направляющие втулки 7 и 8 каждого из тубусов, оптические окна 9 и 10 из плавленного кварца, прикрепленные к торцу каждого тубуса, мягко гофрированную кювету 11 с дном 12 для размещения образца 13. Кювета расположена на предметном столике 14 и жестко с ним соединена. На дне кюветы имеется отверстие со .итуцером, который соединен с резиновым резервуаром 15 с помощью шланга 16, причем последний может пережиматься зажимом 17. В резервуаре 15 помещена иммерсионная жидкость 18. Крышка 19 (с отводной трубкой 20 и зажимом 21 на ней) закрывает кювету при работе с токсичными жидкостями.

Эллипсометр работает следующим образом.

Во время измерений на воздухе иммерсионная жидкость 18 находится в резервуаре 15, а шланг 16 пережат зажимом 17.

При необходимости им мерсионных измерений зажим 17 снимают, жидкость из резервуара 15 вытесняют в кювету таким образом, чтобы ее уровень находился выше оптических окон 9 и 10. Затем измерение проводится по обычной методике как на воздухе, что обеспечивается мягко гофрированными стенками кюветы.

При увеличении угла падения гофрированные боковые стенки кюветы сжимаются, в противоположном случае — разжимаются.

Избыток воздуха под крышкой 19 отводится

10 с помощью отводной трубки 20 при открытом положении зажима 21. Описанная процедура в любой жидкости занимает примерно такое же время, как и на воздухе. Кроме того, отсутствие ограничения на диаметр кюветы обеспечивает удобную настройку образца к падающему и отраженному световому пучку.

Эллипсометр для измерения толшины поверхностных слоев и оптических свойств образцов, содержащий тубус падающего света и тубус отраженного света, установленные под углом друг к другу, кювету для

2s размещения образцов, расположенные на торцах тубусов, обращенных к кювете, оптические окна, предметный столик, отличающийся тем, что, с целью обеспечения применения для иммерсионных измерений при больших углах падения света, стенки кюветы выполнены мягко гофрированными, тубусы герметично прикреплены к ним, а дно кюветы жестко закреплено на предметном столике.

Эллипсометр для измерения толщины поверхностных слоев и оптических свойств образцов Эллипсометр для измерения толщины поверхностных слоев и оптических свойств образцов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электрооптическим модуляционным устройствам светового потока, предназначенным для преобразования поляризационных параметров Стокса в различных системах измерения, передачи и обработки оптической информации, при поляризационной селекции для повышения помехоустойчивости и т

Изобретение относится к автоматическим оптоэлектронным приборам, предназначенным для настройки быстродействующих поляриметрических устройств, измеряющих параметры Стокса

Изобретение относится к горной автоматике и к полярископам и поляриметрам и может быть использовано для определения коэффициента линейной поляризации света при отражении от аморфных полупроводниковых покрытий для создания на этой основе светильников, которые могут быть использованы для наблюдения объектов в условиях пыли и тумана и для исследования и наблюдения деформируемости горных пород в массивах

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для исследования оптической активности жидких и твердых сред

Изобретение относится к области исследования химических и физических свойств поверхности и может быть использовано для измерения физических постоянных и параметров материалов

Изобретение относится к фотоэлектрическим поляриметрам и может быть использовано для измерения концентраций оптически активных веществ в медицине, химии, биологии, пищевой промышленности

Изобретение относится к измерительной технике

Изобретение относится к оптикоэлектронному приборостроению и предназначено для измерения и исследования тонкопленочных структур и оптических констант поверхностей различных материалов путем анализа поляризации отраженного образцом светового пучка

Изобретение относится к методам измерения параметров электромагнитного излучения

Изобретение относится к оптическому приборостроению, конкретно к поляриметрическим устройствам для измерения оптической активности веществ, и может быть использовано для промышленного контроля и научных исследований в аналитической химии, биотехнологии и медицине

Изобретение относится к области технической физики и касается способов измерения азимута плоскости поляризации оптического излучения, вызываемых изменением поляризационных свойств поляризующих элементов либо воздействием на азимут поляризации оптически активным веществом
Наверх