Способ определения кристаллографической неоднородности полупроводниковых кристаллических образцов

 

1. СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ КРИСТАЛЛОГРАФИЧЕСКОЙ НЕОДНОРОДНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ КРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ОБРАЗЦОВ, основанный на возбуждении и регистрации стримерных разрядов в образце, отличающийся тем, что, с целью обеспечения определения кристаллографической неоднородности тонких (тоньше 0,1 мм) пластин сульфида кадмия, повышения экспрессности и достоверности, возбуждение стримерных разрядов в образце производят периодическими импульсами напряжения, имеющими амплитуду 2 - 5 кВ, отрицательной полярности с крутизной фронта импульса электрического поля не менее 1016 В/см с, перемещают точку приложения импульсов напряжения по поверхности образца, а о наличии кристаллографических неоднородностей судят по наличию стримеров, образующих углы 85 - 97o с кристаллографической осью образца.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют импульсы напряжения, следующие с частотой 1 - 50 Гц. Изобретение относится к полупроводниковой технике может быть использовано для определения кристаллографической неоднородности тонких пластин сульфида кадмия. Цель изобретения обеспечение определения кристаллографической неоднородности тонких (тоньше 0,1 мм) пластин сульфида кадмия, повышение экспрессности и достоверности. П р и м е р 1. Определяют кристаллографическую неоднородность тонких кристаллических пластинок CdS. Образцы помещают в диэлектрическую жидкость. Стримерные разряды возбуждают импульсами напряжения 2 кВ, частотой 5 Гц, крутизной фронта импульса поля 1016 В/смс в нескольких участках образца путем перемещения электрода. Диэлектрическая жидкость этилацетат. На всех участках образца на фоне разрядов, образующих с осью углы 43о и 47о (типа 1), наблюдают разряды, образующие с осью углы 85о и 97о (типа 2). Ориентация образцов соответствует100} а сами образцы являются кристаллографически однородными. П р и м е р 2. Определяют кристаллографическую неоднородность тонких пластинок CdS. Стримерные разряды возбуждают импульсами напряжения 2,7 кВ, частотой 1 Гц, крутизной фронта импульса поля 1,31016 В/смс в нескольких участках образца путем перемещения электрода. Диэлектрическая жидкость трансформаторное масло. На всех участках пластины разряды типа 2 отсутствуют, что указывает кристаллографическую однородность образцов и их ориентацию в плоскости110} П р и м е р 3. Определяют кристаллографическую неоднородность пластинок CdS. Стримерные разряды возбуждают импульсами 5 кВ, частотой 10 Гц, крутизной фронта импульса поля 21016 В/смс в нескольких участках образца путем перемещения иглового электрода. Диэлектрическая жидкость этилацетат. На одних участках образца разряды типа 2 наблюдаются, на других отсутствуют. В первом случае участок соответствует плоскости100} во втором плоскости110} Образцы кристаллографически неоднородны. П р и м е р 4. Определяют кристаллографическую неоднородность тонких пластинок CdS. Разряды возбуждают импульсами напряжения 4 кВ, частотой 50 Гц, крутизной фронта импульса поля 1,81016 В/смс в нескольких участках образца путем перемещения электрода. Диэлектрическая жидкость четыреххлористой углерод. Стримеры не возникают или имеют разветвленную структуру. Поверхность всех этих образцов разориентирована относительно плоскости100} и 110} а образцы не являются кристаллографически однородными.

Формула изобретения

1. СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ КРИСТАЛЛОГРАФИЧЕСКОЙ НЕОДНОРОДНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ КРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ОБРАЗЦОВ, основанный на возбуждении и регистрации стримерных разрядов в образце, отличающийся тем, что, с целью обеспечения определения кристаллографической неоднородности тонких (тоньше 0,1 мм) пластин сульфида кадмия, повышения экспрессности и достоверности, возбуждение стримерных разрядов в образце производят периодическими импульсами напряжения, имеющими амплитуду 2 - 5 кВ, отрицательной полярности с крутизной фронта импульса электрического поля не менее 1016 В/см с, перемещают точку приложения импульсов напряжения по поверхности образца, а о наличии кристаллографических неоднородностей судят по наличию стримеров, образующих углы 85 - 97o с кристаллографической осью образца. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют импульсы напряжения, следующие с частотой 1 - 50 Гц.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к измерительной технике

Изобретение относится к электронной технике

Изобретение относится к устройствам для коррекции характеристик управления полевых транзисторов, варикапов и других нелинейньпс элементов (НЭ) с повьпленной нелинейностью и температурной стабильностью в широком динамическом диапазоне коррекции и может быть использовано в качестве образцовых, управляемых электронным путем проводимостей при автоматизации измерений и других технологических процессов

Изобретение относится к технике измерения на СВЧ

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх