Устройство для контроля толщины тонких пленок

 

Изобретение относится к измерительной те.хпике и может быть использовано в оптико-электронной и рядиоте.хническон промыш- .ченности лля бесконтактного неразрушающего конгроля толншнь и показателя прелом .1ения -онких пленок на (юд. южках. Цель, изобретения - повышение точноеги ко/гг|,ш . 1я путем исключения ногрепиюсти. «)ни как)Н1ей в результате рассеяния Г1ада)оп1его н отраженно1 О излучений. Устройство соде) жит из.и чаюший тракт, состоящий из по. . 1едовате. 1ьно расположенных источника I линейно по, 1яризова1н-1ого излучения. Bjiania- те.пя 2 плоскости поляризации, приемИ1 1Й тракт, состояний из последовательно расположенных анализатора 3 и приемника 4 излучения , приставку нарушенного полного внутреннего отражения, состояп1ую из последовательно расположенных плоских зеркал 5 и 6, полуцйлиндрической прпзмы 7 нарушенного полного внутреннего отраже ния, сферического зеркала 8 и плоского зер кала 9. Контролируемый образеп И) нрел ставляет собой пленку, нанесенную на под ложку. 1 ил. (О оо о оо 00 со о

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

-,!) 4 С> О! В I 1/06

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (?! ) 392 I 46! /24-28 (22 ) 04.07.85, !6, 07.05.87. Вю,i. N> 7 (7 ) 11(. Ii i j>3, 1 ьн(>с It!>(>(к1 и<)-кои< трх к г()р.ко(и техн<>логич< I((>(. бк>р() ffах fki!»" Iif)ff()(>I>()(f I><)(i»fsI .>(Н У I(.(.! (72) И. 11. Х 1)1ìà.(ои (5:) ) 53!. 5.27(088 8) (56! I;! 1(!)т (.11!. "(.V(. )) 747!f,, к. 1, (i !)! Ni ° I 40, I :)75. >!>г(>р к<и свидетельство О.(..P

X )(! >(84, кл. (О! В I!/06, !9.09.78. (5-! ) У(. ТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ

ТОЛ111ИНЫ ТОНКИХ ПЛЕНОК (57) Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано в оптико-злектронной и радиотехнической промышле!!!И>сти для бесконтактного неразрушающеп) f(<»If!)(>ля толщины и показателя прелом. SU:„1308(")30 ?()(1.1(>1>ИЯ ОНКИ >, Н,ICH<)f(На ll!>.l. I(>+ Ка X. !!(ги): изобретения — повышение точи(>с ги контро ля путем иск.1ючения п(н ncfiif1(>(. I.II, во>ци кающей в рсзхльтате рассеяния пацан>!цеl() ()Tf)3 + еff ffof из>1) чени й., > стРОи(1 ио с(). 1(f>. жит из.)учакнций тракт. состоящий lië ИО .цдоват(льно расположенных источник.;1

>IlfI(.йнО поляризованн(>го излучеffII)f, нра>ца.1 е1я 2 II.>10(. êo(. Tè 110 Iÿj)изации, Ifриех!111>IИ тракт. состоящий из последовательно рас)и>ложенных анализатора 3 и приемника 4 излучения. приставку нарушенного ио.!ного внутреннего отражения, состоящук1 из последовательно расположенных плоских зер. кал 5 и 6, полуцилиндрической Iiðlf:IMû 7 нарушенного полного внутреннего отраж< ния, сферического зеркала 8 и !)лоского зер кала 9. Контролирмемый 0()pc):>(. !0 пред ставляет собой пленку, нанесеннук) на >и>,( ложку. ил.

l3О883О

Фор/><у.!а и:><)F) f>< т(ния

j!« „Il, i ii 1(!«(И 8i >«<«j> 3! )р и ии .3«и;» I l .» тир» >к 678 j j(> и>иси<>е

j3j !jjjjj jjj j .!;:Б ">иеиииги к<»>«тета С(:(.Р ии.(ел»5> ии><>!><Беиий и игкрытий

i! 3<>.33>, N<>c><(> >, Ж вЂ” 35, Р<>уи>скаи ииб,,! -1>5

j jj><»> ««>g«:»>«!>««и<>,и<к)><>«>< пре((приипие, r. Ужг<)1><).;, > ли 1!р<>< и 0»><, j

;i >!i)>< i (lfif(()Tff0(И !СЯ К ИЗМСНИТ(<ЛЬНОИ

I <. 1 II нк(H Yl oж(I F)l>f1 !> исног! I зов !110 Б Онтик<>,,(..гp<)!lifo>l и ради<тгсхнической нрг>мьпн,! llllo< ги для бсск<>нтактногo нсрызрушшон(< i o к<н(троля толщины и показателя нре1<>М.><. НИЯ TOhhl!X il 7<."HOK Н 3 Но (ЛОЖКах.

Ц(ль изобретения новышение точносги контр<>ля путем исклн)чения ногренlíости, н()зникякицсй в результате рассеяния Il

)-1ы чертеже изобра кена ilpHfllIHIIH3льныя с хсхl я уе троис1 Ва,. я KotiTpoл я T(>.! Illlf ны

7 O tl K li Y tl, 1 C Í <) K .

> СТ P O!! С БО (О (f) + И И 3.:f >< f 3 I<) Н > И И Т P

< О< 1 Okl! II Hit Н.< 11< ><., 1(1013но f> «IC IO;i<)iK (ll1! Ы Х И <. I O 1!! И К<3 .7 И Н(.И !!О-НОГIEIPHHOB3 ff !f0! О

it3л «< f(I!If!, f3f) 3 Il l<17 с731 2 li, 10(. K()(. TH iio. >Я Р u 3ll)lli 7 P р;i(11070/КсlllllilY анализ;! Iор;! 3

it !! f)11< Х! > I!!hi! 1 И.! !l l(Н И Я, НРlt(Тi>Вf(>i liя f)Мl I l (l l l l O > <» I (>, I l l < > i < > I3 f I >; Т р с l I Н С>.О О 1 )7 <3 ж Е н и и, (0< I <>и!Н(К) И 3 ll<)(. 1<. .IOl!il 1(,il>iiO РЫСНОЛОЖ(л(и l(II 5 <сркыл .) и О), иолу!(Блин fpH !ссhO!t I>t)>l МЫ > ffHPY!НСННОГ<> НОЛ>Н>>О f3ffYTPOНII(I! > <> )>(ри Г(ск(но 8 и !!лоского (1 «рlоl.

),<>Н I fi().! Itf)YOМ ыи <>брызг II I j! ftð0,(0! û!3, !El(. <")>)<)н II. I(IIK3 I <), 1 ill!IH()kl (I. I! !1!oñ(iflf>ifO

llil И(> .1(>/ККХ х \kTро><с Б<) !) ы<)0 Гыс Г слс((х lolll им <)б!) ы3())E .

11 3, 1; <1(ll i!(С (, I Hi!OII HO i!flit Л О I 110TH>lни кы I . I И II(It! I()- II< >, я ри.<ОБ5< х !(. н ия

ll p<) «О I H 1 е3 f) яри.33

l l 111 l 1> i! (i!i() I> I(. О 11.3 5 >СE I Hi!,KOTOI) f/f kt < СТ3 Н Ы В, Б! !3

I!;I ((ИО!!((ГО Б 35!учение(, г <)гряжыясь От зер101, 1:) И 1). I IO! l < Ю нри <х>) > II;Ef>x itt(БНО! О полного внутреннего

<> p!! /1«<. II !ikl. 1 I)it.3 «E h 3«i Н ) 3 I . 1<>fi<)l О IIOE30f)(> fi! (ОС!>К)

l! f)! < I I!3 Н РО ХОДЯ!1(Е!l Ч(P(Y> С(!)(, (Et EI X ОС !30Б ll! i!El II< i, 1, llkl, lit l; (Р 1 Б(РТИКЯ.:Ihkl0 В. ЕО 7Ь О()P;I 3Y I0>l((>! Ill! I!l!I (Р . Мсхынн.3 I сl .70БО! О lloI3<)P< ) 1 <> ll(» I!OЛЯ(" l ))()!!O:(И 1 Ь И <М < P(. itHH Б !I!>с у .I(>H 231 j)j) 0T нормыли к 0(БО!ЗЯБ и !О II I) EI351!/I <, Р«)сна, 10 ке f I I!0>t < н Б Р<3.7лс:!I

Е/б1<(<М I! I d ГI I ИТll<3 Я Вол На Н3 границе рызделя двуY сред с ноказателями

ПРЕЛОМЛЕНИЯ И, НРИЗМЫ 7 И П КОНтРОЛИРУСмого образны !О нри углах 6 падения излучения, оольших e>

Г),) В,. Ирсобрызхетсе> в поверхносте>лю электром<>! нитную волну, <>мнлитуда ялектромагнитного ноля KOT<)poH экснон Et((HB!Iüío убы. влет нри удалении от гранины разделы. ГГ!убиня 4 проникновения излучения в контролируемый образен !О зависит От показателей нрс;и)мления Г>> и н, материалов призмы образна 1О и угла 8 пялсния излучения H

СС>Отч>ОШЕНИИ

4 = /<.

V Я 5 (Е> (3 — - >>77

1) (>личис тонкой и. к нки ны НОБсрхш>сти

НО;(, lожhH Б. IHH(<ò ны х(, !<>Бия B03F) i /h I(IIHH и р()енр<)странсния н<н<срхностн<гй ш>лш>1, с, 1(.ЕО!337 (, I hi!0, ii<1 н 3(f(if(>! if(l10, k! Pil <ОБ<)н !!E>fХ ХВPdК7(.PИСТllк <)! PЫЖC !! Il<)И Б<)Г>НЫ IIО ОТ—

l 3O l (f (H H К) К f l f, 1 Ы i I 3 .((НИ Я Ifd.! > Ч< Н! tkl Н Ы И . I<(1113НОС7 Ь ОТ Ря— жснной Волны. 1!Од<)орох< Ilohdзы)еля ffð07o÷лсния призмы 7 ныруш(!Iiiого БОГ!Ног() f>íófР( О! Р<)ж(ll HH H ла 6 Ilн)лучигь глубину нроникноBE .ffHff ИЗ,>УЧ iIHH. ))3I3ff>30 TO,IILIHIIO KOHTPO Iil

РУСМОЙ !!Л IIVH, f3 это»l жс зазоре призмы — нодложк;.

НРОИС."О. I И Оt)PЗТIIО<< Н f)С(и>!)БЫII И(!I()Б< j> Х13<)с> БОИ 130, > fili! I3 0F) !/см нх !», v() < >!)., >ОМ !f 3;i(НИ Я ОТР3 Ж 3<«7 СЯ 07 0(. Ii/)!33 ft itff I! l I .. м ь! > kl ноныдя«т на (. (1>< ри«IL L ко(8 и !1. !О« I«(и

) 3« PK3, I . f I3 if /K f if>I >t kt II <. «!( l HH(. ilHf>l(«С 51(ХЫ 1! ИЗХI 0«1 T I . fOfk()!О I IOH(>P() I il

If@if 3»t ь(I и 0(>раз!(ы !) I. I<>(к(>е зс!>кало .)

30 нынрынлист отряжсl!li(>(ff >if) н нис 13 анализатор 3, сос1иненнь1й « lip!i(м ником 1, >,д е измеpHloT поляризя!(ионнь!с характеристики

И И НТЕс(3СИ ВНОСТЬ OT f!3)K(!!it<)kl ВОЛ НЕ<1 ОТНОСИтельно падающей, но к(> гof)f!» Конп)7олирыот

T0,7!i (ÈHÌ TOНК(7й Н.7 Сftf(И.

35 (TPOkk(! E30, 1,. >Я KO f1 ГРО, I Я О Il(H fllil 7 <)IiКИХ !!.1< НОК, (O, ((Hihdlll((И:>Л > 1310lllkili ТР;!К!, с< T()HlllklH из н()слсдонытсльно рысllO, loihсннь! х ис7 О !1и ка ли ней lio f10, 1/l f) и 30133 н ><ОГО и 3. 1>< Ч(<Н И Я И ВР3 Il(3T(I H ll 7<)СV()<7 И НО 7Я Pkf:33НИ И, НРИСМ Н ЫЙ TP3 KT. ()("! ()Si lll H li И 3 НОС„ (;(ОВятсльно расиол<)/кснных ыныли <ыторы и

if pfl(. м ника и351><чс1>и>3, kt Онти lе 0vkl H б, 10к, 45 расположенный между трактами, отличаюи1ееея тем, что, с !(елью повышения точности контроля, оптический блок выполнен в виде приставки нарушенного полного внутреннего отражения, призма в которой Выполнена в виде !10лу((3<лин (ра.

Устройство для контроля толщины тонких пленок Устройство для контроля толщины тонких пленок 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано , в частности, доя непрерьшного контроля измерений оптических параметров полимерных материалов в процессе изготовления из них фоторе гистрирующих сред

Изобретение относится к области измерительной техники и может быть использовано для измерения толщины пленок, прозрачных в ИК-области спектра и нанесенных на плоские йодложки

Изобретение относится к измерительной технике и может быть исполь зовано для измерения толщины непрозрачных пленок с отражающей поверх ностью

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для контроля толщины слоев пленки

Изобретение относится к измерительной технике, в частности, к измерению толщины пленок на подложках

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для измерения толщины наружных полимерных покрытий на трубах в технологическом потоке

Изобретение относится к измерительной технике и предназначено для контроля количества резины ka валках каландра

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного измерения толщины и показателя преломления прозрачных слоев

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного автоматического измерения толщины прозрачных материалов, например листового стекла, в непрерывном производственном процессе

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к оптическим интерферометрам, и может быть использовано для непрерывного бесконтактного измерения геометрической толщины прозрачных и непрозрачных объектов, например листовых материалов (металлопроката, полимерных пленок), деталей сложной формы из мягких материалов, не допускающих контактных измерений (например, поршневых вкладышей для двигателей внутреннего сгорания), эталонных пластин и подложек в оптической и полупроводниковой промышленности и т.д

Изобретение относится к оптическим способам измерения толщин слоев прозрачных жидкостей и может быть использован для бесконтактного определения толщин слоев прозрачных жидкостей в лакокрасочной, химической и электронной промышленности, а также в физических и химических приборах

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к интерференционным способам измерения оптической толщины плоскопараллельных объектов и слоев

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано в черной и цветной металлургии для измерения толщины проката в условиях горячего производства без остановки технологического процесса

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины пленок, в частности в устройствах для измерения и контроля толщины пленок фоторезиста, наносимых на вращающуюся полупроводниковую подложку в процессе центрифугирования в операциях фотолитографии

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины и измерения разнотолщинности пленок, в частности в устройствах для нанесения фоторезиста в операциях фотолитографии

Изобретение относится к оптическим способам измерения толщины слоя прозрачной жидкости
Наверх