Способ изготовления фотошаблона на галогенсеребряной фотопластине

 

Изобретение относится к технологии изготовления металлизированных фотошаблонов на стеклянной подложке. Цель изобретения - повышение износостойкости фотошаблона. Способ изготовления фотошаблона на галогенсеребряных фотопластинах включает экспонирование , проявление фотопластины, травление в растворе, содержащем хлорную медь, перекись водорода, уксусную кислоту и воду, в результате которого из негативного непрозрачного изображения удаляется серебро вместе с желатиной. После проявления фотопластины проводят фиксирование в кислом фиксаже, а после травления фотопластину высушивают, со стороны желатинового слоя напьшяют хром толщиной, обеспечивающей оптическую плотность не менее трех и обрабатывают водным раствором щелочи до полного удаления желатина. На прозрачной подложке остаются участки из хрома, повторяющие рисунок схемы. Способ изготовления фотошаблона позволяет экономить серебро и снизить расход фотопластин, 2- табл. (Л со ьо СП 00 СО О5

союз советских социАлистичесних

РЕСПУБЛИН

„„ЯО„„1325396 (5ö 4 С 03 С 5/00

1"осудАРстбенный номитет сссР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ

Ф списочник изовгкткния/"

К А ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

*9 (21) 3953347/24-10 (22) 17.09.85 (46) 23,07.87. Бюл. Ф 27 (71) Омский политехнический институт (72) Д, Х. Ганиев, А. Д. Бызов, С. М. Лабзин, 10. А. Шваб и С, М. Че" калин (53) 776(088.8) (56) Черняев В. Технология производства интегральных микросхем. - М.:

Энергия, 1977, с. 198-199, Полиграфия, 1978, Ф 7, с. 25-26. (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОШАБЛОНА

НА ГАЛОГЕНСЕРЕБРЯНО11 ФОТОППАСТИНЕ (57) Изобретение относится к технологии изготовления металлизированных фотошаблонов на стеклянной подложке.

Цель изобретения - повышение иэносостойкости фотошаблона, Способ изготовления фотошаблона на галогенсеребряных фотопластинах включает экспонирование, проявление фотопластины, травление в растворе, содержащем хлорную медь, перекись водорода, уксусную кислоту и воду, в результате которого из негативного непрозрачного изображения удаляется серебро вместе с желатиной, После проявления фотопластины проводят фиксирование в кислом фиксаже, а после травления фатопластину высушивают, со стороны желатинового слоя напыляют хром толщиной, обеспечивающей оптическую плотность не менее трех и обрабатывают водным раствором щелочи до полного удаления желатина. На прозрачной подложке остаются участки иэ хрома, повторяющие рисунок схемы. Способ изготовления фотошаблона позволяет экономить серебро и снизить расход фотопластин.

2 табл, )325396

Вариант 1:

Температура камеры напыления, С 220110

Время напыления, мин 4-5

Вакуум э каме- ре, Па (6,6-8) -10

Вариант 2:

Изобретение относится к технологии изготовления металлизированных фотошаблонов на стеклянной подложке.

Цель изобретения — повышение иэносостойкости фотошаблона.

Фотошаблон изготавливают следующим образом. Оригинал, нарезанный на прозрачной основе в большом масштабе по отношению к требуемому изображению, снимают на репродукционной камере с необходимым уменьшением на фотографическую пластину, например, BP-П. Фотопластину проявляют, например, в проявителе Д-19, в течение

4 мин при 21 С, промывают в проточной воде и фиксируют, например, в кислом фиксаже в течение !О мин, Фотопластина имеет прозрачные и непрозрачные участки, повторяющие ри" сунок фотошаблона. Затеи проводят

„операцию отбеливания с травле- нием, в результате которой происходит удаление серебра. вместе с желатиной из негативного непроз1!ачного изображения. Травяще-отбеливающий раствор состоит из двух отдельных растворов.

Раствор А:

Хлорная медь, r 10 Уксусная кислота (ледяная), мл

Вода дистиллированная, мл До 900

Раствор Б: 30 -ный раствор перекиси водорода — 100 мл.

Эти два раствора готовят отдельно и смешивают непосредственно перед травлением. Травить фотопластину необходимо до стеклянной подложки.

При этом на участках фотоплйстины, на которые не было оказано светового воздействия, остается рельефное изображение из прозрачных участков желатинового слоя. После этого напыляют со стороны желатинового слоя хром толщиной„ обеспечивающей оптическую плотность не менее трех. Возможны несколько вариантов напыления хрома толщиной, удовлетворяющей данному условию.

Температура камеры напыления, С 190+ 10

Время напыления» мин

Вакуум в камере, Па (1,33-! 5) -10

Вариант 3:

Температура каме10 ры напыления, С 190+10

Время напыления, мин 9-10

Вакуум в камере, Па (6,6-8) . 10->

15 Наиболее быстро можно получить заданную толщину хрома по первому варианту, Однако в этом случае требуется строго контролировать температуру в камере напыления, так как, 20 превышение температуры 230 С приводит к потере растворимости желатины, Снижение температуры до 190 С (вариант 3) приводит к увеличению времени напыления почти в 2 раза. Поэтому оптимальным можно считать напыление хрома по варианту 2.

5-6

35-40

35-40

20-21

При удалении желатины удаляются и

50 участки пленки хрома, лежащие на жела.тиновом слое. При этом на прозрачной подложке останутся участки из хрома, повторяющие рисунок.

По предлагаемому (вариант 2) и известноиу способам было изготовлено по пять фотошаблонов, у которых определяли оптические, размерные и копировальные свойства, Результаты определений сведены в табл. 1, Затем удаляют желатиновый слой, обрабатывая пластину водным раствором

30 щелочи, например NaOH. Возможны несколько вариантов удаления желатинового слоя»

Вариант 1:

Концентрация, 18-22

35 Температура раствора, С

Время, мин

Вариант 2:

Концентрация, 2 8-32

40 Т емпер а тур а ра створа, С

Время, мин

Вариант 3;

Концентрация, Х 2 8-32

Температура растBOpQ ° С

Время, мин

1325396

Совмещения продолжали до тех пор, пока число проколов не превышало допустимую величину — 10 на см °

Таблица 1

Показатели

Способ

Предлагаемый

Известный

Мак симальная оптическая плотность

3,2-3,6

Более 4

Минимальный воспроизводимый элемент, мкм

14,8

15,2

Резкость края, мкм

- 2,4

211

Количество контактных совмещений

4-15

50-70

Таблица 2

Размеры, мкм

Способ

Известный Предлагаемый

Элементы на фотошаблоне

260 97 19 260 96 19

Фоторезистивных изображений

260 96 17 260 96 18.Резкость края, +2,2

+2,8

Оптическую плотность определяли . в проходящем свете на денситометре

СР-25м, практически воспроизводимый элемент и резкость края " на микро- 30 скопе ИБИ-8м, количество возможных контактных совмещений " многократным совмещением фотошаблона с подложкой, имеющей на контактирующей поверхности слой фоторезиста ФП"383 толщиной

2 мкм, При этом после каждого сонме" щения подсчитывалось число проколов превышающих размер 0,5 мкм на 1 см, "

Как видно из табл. I и 2, использование предлагаемого способа позвоС целью проверки работоспособности предлагаемого фотошаблона была выполнено копирование его на подложку, покрытую фоторезистом CII-383, причем одновременно на эту же подложку копировали фотошаблон, изготовленный по известному способу.

В центрифуге КП-5 закрепляли обезжиренную спиртом ситалловую пластину. После центровки пластины между пластиной и вращающимся столиком создали вакуум. Кисточкой удалили пылинки с поверхности пластины и нанесли фоторезист. Включипи привод вращения столика.

Режим нанесения фоторезиста

ФП-383: скорость вращения столика

2500 об/мин (данная скорость обеспечивается при напряжении 8,5 В на индикаторе источника постоянного тока установки КП-5), время нанесения

1+0,1 мин. Пластину сушат в термошкафу при 90 С в течение 25 мин в темноте или при красном свете. После этого выполняют экспонирование на копировальной установке УПСЭ-3 (лампа ДРШ) в течение 20 с. Пластину проявляют в 0,5%-ном растворе КОН при

19-21 С в течение 20-30 с, После промывки и сушки сравнивают фоторезис; тивные изображения, полученные при копировании фотошаблонов, изготовленных по известному и предлагаемому способам (табл, 2). ляет„изготавливать фотошаблоны, имеющие технологические параметры не ху5 1325396 же, чем при известном способе, при- вк чем износостойкость фотошаблонов, ни изготовленных по предлагаемому спасо- ще бу, примерно в 4-5 раза. выше, чем фо- ук тошаблонов, изготовленных по иэвест- 5 ю ному. Это позволяет снизить расход ше фотопластин и серебра. по

Способ изготовления фотошаблона на галогенсеребряной фотопластине, Составитель В ° Кондратьев

Редактор Е, Папп Техред Л.Олийнык Корректор 4. Ильин

Заказ 3104/40 Тираж 420

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Подписное

Производственно"полиграфическое предприятие, r, Ужгород, ул ° Проектная, 4

Формула изобретения !

6 лючающий экспонирование, проявлее, травление в растворе, содержаи хлорную медь, перекись водорода, сусную кислоту и воду, о т л и ч а— шийся тем, что, с целью повыния износостойкости фотошаблона, еле проявления проводят фиксирование, а после травления фотопластину высушивают, со стороны желатинового слон на нее напыляют хром, после чего обрабатывают водным раствором щелочи до полного удаления желатины.