Установка для химического нанесения покрытий

 

Изобретение относится к области приборостроения и микроэлектроники и может быть использовано для нанесения покрытий путем химического осаждения из раствора . С целью получения селективного покрытия в процессе его осаждения на подложку в осадительную ванну 1 с электролитом 2 помещают электрод 5, имеющий форму, соответствующую рисунку покрытия, параллельно подложкодержателю 3. Электрод 4, имеющий ту же форму, что и первый, располагают зеркально симметрично под дном ванны. При подаче напряжения от источника постоянного напряжения 6 в подогретом электролите проходит реакция осаждения покрытия на подложку, рисунок которого соответствует форме электрода. 2 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

„„SU„„1425251

Ы 4 С 23 С 18 32

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМУ/ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4003789/31-02 (22) 06.01.86 (46) 23.09.88. Бюл. 35 (71) Куйбышевский государственный университет (72) A. H. Комов, И. В. Ленивкина, В. В. Ленивкин и В. А. Клычков (53) 621.357.6 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР № 1097708, кл. С 23 С 18/32, 1982. (54) УСТАНОВКА ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО

НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ (57) Изобретение относится к области приборостроения и микроэлектроники и может быть использовано для нанесения покрытий путем химического осаждения из раствора. С целью получения селективного покрытия в процессе его осаждения на подложку в осадительную ванну 1 с электролитом 2 помещают электрол 5, имеюший форму, соответствующую рисунку покрытия, параллельно подложкодержателю

3. Электрод 4, имеющий ту же форму, что и первый, располагают зеркально симметрично под дном ванны. При подаче напряжения от источника постоянного напряжения 6 в подогретом электролите проходит реакция осаждения покрытия на подложку, рисунок которого соответствует форме электрода. 2 ил.

1425251

Формула изобретения Риг 2 (.остави.,ель В. Сазонов

Редактор Н. Гунько Техред И. Верее Корректор Л. Пилипенко

Заказ 4744(26 I и раж 992 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

1 I 5035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4j5

Производственно-полиграфическое предприятие, f. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относится к приборостроению и микроэлектронике и может быть использовано при нанесении лона.-.ьпых покрытий. например, в технолог?1 1ески:< npoLleccax полупроводниковой микроэлектроники.

Целью пзобретеnll» является селе <тивное нанесение покрытия.

На фи1.. 1 изоб1>ажепа c?;eiv a i:становки

jJLH химического нанесения покрытий; на фиг. 2 — фотография фигурного электро- 10 да в форме креста.

Установка содержит ванну 1, в которой

1)омещается электролит 2, напр: мер, содержащий оптимальные концентрации соли

Свинца, тиомочевины и щелочного агента, 11 одл о ж и оде р?к Я 1 ел ь 3, ф и г, 1."ч ь1е э. 1 е к т р оды 4 и 5, выполненные в форме креста, треугольника и имеющие геометрические размеры меньше геометрических размеров

1юдложки. Электроды расположены зеркаль1ю симметрично один от 1осительно другого, Причем электрод 4 расположен под дном

Ванны 1 параллельно плоскости подложкодержателя 3, а электрод 5 -- в ванне 1 над подложкодержателем 3. электроды 4 и 5

11одключаются к регулируемому источнику 6

Постоянного напряжения. Температура 25 электролита поддерживается на оптимальном уровне с помощью нагревательного устройства 7.

Установка работает следук?щим образом.

Перед заполнением ванны электролигом 2, например, содержащим оптимальные

Концентрации соли свинца, тиомочевинь1. (целочного агента, на подло>ккодержатель 3.

Помещают подложку, напримео, из ситалла. С помощью нагревательного устройства

7 электролит 2 нагревают до температуры, при которой начинается процесс осаждения сульфида свинца на подложке. На электроды 4 и 5 подается напряжение от источника 6 постоянного напряжения (1

=25 кВ). После осаждени —; la подложку слоя сульфида свинца определенной толщины постоянное на 1ряжение с электродов 4 и 5 снимают, нагревательное устройство 7 отключают, электрод 5 извлекают из электролита 2, электролит сливают, подложку с осажденным слоем в форме креста или треугольника извлекают.

Использование изобретения позволяет получать покрытие нужного, сколь угодного сложного, рисунка в процессе его нанесения без при vleíåíèÿ дополнительных дорогостоящих .,стройств.

Установка для химн веского нанесения покрытий, содержащая ванну для электролита из диэлектрического материала. подложкодержатель, нагревательное устройство, плоские электроды, соединенные с источником постоянного í- ï.ðÿæåíèÿ,,один из которых расположен под дном ванны в плоскости, параллельной плоскости подложкодержателя, а другой расположен в ванне пад подложкодерж ателем и в плоскости, ему параллельной, отличающаяся тем, что, с целью селективного нанесения nol

Установка для химического нанесения покрытий Установка для химического нанесения покрытий 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к оборудованию для нанесения покрытий химическим методом

Изобретение относится к химическому никелированию, в частности к составам для корректирования рН кислых растворов химического никелирования, и может быть использовано в приборостроении

Изобретение относится к способу нанесения покрытия на внутренние поверхности резервуаров и трубопроводных систем

Изобретение относится к области нанесения тонкослойных металлических покрытий на металлические детали, конкретно к нанесению золота, серебра, платины, палладия, никеля, ртути, индия, висмута и сурьмы, и может быть использовано в микроэлектронике, электротехнических и светоотражающих устройствах, а также в ювелирной промышленности

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано при нанесении металлопокрытий химическим способом

Изобретение относится к области технологий получения защитных покрытий и может быть использовано для нанесения металлических покрытий на микроизделия для микроэлектроники методом химического никелирования

Изобретение относится к гальваностегии, в частности к осаждению черных никелевых покрытий на поверхность металлических изделий, и может быть использовано в различных видах гальванического производства для получения декоративных покрытий
Изобретение относится к химическому осаждению аморфных магнитных пленок Co-Р, например, на полированное стекло и может быть использовано в вычислительной технике в головках записи и считывания информации, в датчиках магнитных полей, в управляемых сверхвысокочастотных (СВЧ) устройствах: фильтрах, амплитудных и фазовых модуляторах и т.д
Изобретение относится к прикладной химии, а именно к способам получения никелевого покрытия на материалах из углеродного волокна

Изобретение относится к установке для нанесения никелевого покрытия химическим методом на различные детали

Изобретение относится к области химического осаждения аморфных магнитных пленок, например, на такие материалы, как полированное стекло, поликор, ситалл, кварц, и может быть использовано в вычислительной технике, в головках записи и считывания информации, в датчиках магнитных полей, управляемых СВЧ-устройствах: фильтрах, амплитудных фазовых модуляторах и т.д
Изобретение относится к области получения покрытий из никелевых сплавов химическим путем и может быть использовано в различных областях техники для получения покрытий с высокой механической прочностью и коррозионной стойкостью
Наверх