Способ измерения параметров плазмы

 

Изобретение относится к методам диагностики лабораторной турбулентной плазмы путем зондирования ее электромагнитными волнами. Целью изобретения является измерение флуктуаций плотности плазмы, а именно амплитуды и частоты флуктуаций, на действующей плазменной установке. Измерения осуществляются с помощью СВЧ-резонаторного метода диагностики, основанного на изменении резонансной частоты и формы резонансной кривой при помещении в резонатор исследуемой плазмы, параметры которой флуктуируют. При этом одновременно с измерением смещения резонансной частоты измеряется величина отношения ширины резонанса с плазмой и без плазмы и отношения ширины отдельных максимумов резонансной кривой к ее ширине без плазмы и по формулам вычисляются искомые параметры. 1 ил.

Изобретение относится к физике плазмы и проблеме управляемого термоядерного синтеза и может быть использовано для диагностики плазмы, в частности для изменения флуктуаций плотности плазмы, в которой плазменная частота много меньше частоты зондирования, например в диверторных потоках плазмы в замкнутых ловушках с магнитным удержанием плазмы. Целью изобретения является измерение флуктуаций плотности плазмы. На чертеже приведена схема устройства для осуществления предлагаемого способа измерения параметров плазмы. Устройство для реализации предлагаемого способа содержит измерительный резонатор 1, волноводные линии передачи СВЧ-сигналов 2.1 и 2.2, ферритовый вентиль 3, СВЧ-генератор 4, детектор 5, усилитель 6, блок 7 генерации пилообразного и ступенчатого напряжения и осциллограф 8. При реализации способа использовался конкретный тип СВЧ-резонатора - открытый двухзеркальный резонатор типа Фабри-Перо. При этом объем резонатора Vр заменен на длину резонатора lр, а объем плазмы V на толщину плазменного слоя l. Для получения информации на резонатор 1 от СВЧ-генератора 4 через ферритовый вентиль 3 по волноводной линии 2.1 поступает частотно-модулированная электромагнитная волна ( 8 мм). Частота волны клистронного генератора 4 модулируется пилообразными импульсами напряжения, поступающими от блока 7, который также генерирует импульсы ступенчатого напряжения для смещения луча осциллографа 8 при многократном его запуске. Резонансный сигнал из резонатора 1 по волноводной линии 2.2 после детектирования детектором 5 через усилитель 6 поступает на осциллограф 8, на котором регистрируется смещение резонанса в зависимости от плотности плазмы и изменения формы резонанса. При этом измеряются резонансная частота невозмущенного резонатора fo, сдвиг частоты при наличии плазмы Df которая используется для определения n1, а также интервалы времени to по которым определяется амплитуда флуктуаций и их частота. Из теории резонаторов известно, что при использовании резонатора типа Фабри-Перо среднестатическое значение линейной плотности плазмы может быть определено по формуле где nкр критическое значение плотности плазмы для частоты fo; lр длина резонатора. Известно, что амплитуда резонансной кривой описывается формулой где Ao максимальное значение резонансного сигнала; A и f текущие значения амплитуды и частоты; fр резонансное значение частоты; f ширина резонансной кривой, невозмущенного резонатора. При наличии флуктуации плотности плазмы форма резонансной кривой изменяется: расщепляется на несколько максимумов. На основе выбранной модели процесса проведен расчет и эксперименты, в результате чего установлено, что амплитуда флуктуаций определяется по формуле:
а характерная частота флуктуаций по формуле

где = A/A0
A амплитуда СВЧ-колбаний на уровне, составляющем b -долю от максимума Ao;
Q добротность резонатора;
K крутизна перестройки частоты генератора от напряжения;
Тп период модуляции частоты;
fo частота генератора при отсутствии модуляции;
Uп амплитуда пилообразного импульса модуляции частоты;
отношение ширины расщепленной резонансной кривой к ширине невозмущенной резонансной кривой to
отношение ширины единичного пика расщепленной резонансной кривой к ширине невозмущенной резонансной кривой to
измеряются на уровне
При произвольном виде резонатора по смещению резонанса определяют полное число частиц nV, а в случае же резонатора Фабри-Перо nV переходит в линейную плотность nl. Если область расщепленной резонансной кривой существенно больше ширины нерасщепленной резонансной кривой, то формула (3) сводится к виду

где fмин и fмакс соответственно начало и конец области расщепленной резонансной кривой. Способ позволяет измерять не только nV или nl в спокойной плазме, но и определять среднестатистическое значение плотности (или <nl>), а также глубину и частоту флуктуации ее в турбулентной плазме. Достоинством метода является то, что указанный результат достигается простым невозмущающим плазму методом путем использования того же СВЧ-резонаторного устройства, которым измеряется плотность. Метод пригоден для исследования указанных параметров в широком интервале плотностей
а


Формула изобретения

Способ измерения параметров плазмы, помещенной в резонатор, возбуждаемый электромагнитной волной с модулированной частотой, включающий определение плотности плазмы путем измерения сдвига резонансной кривой по шкале частот, отличающийся тем, что, с целью измерения флуктуаций плотности плазмы, период и напряжение модуляции частоты электромагнитной волны изменяют до появления отдельных пиков на резонансной кривой, регистрируют изменение формы резонансной кривой, затем измеряют отношение 1 - ширины резонансной кривой при наличии флуктуаций параметров плазмы и без плазмы, а также отношение 2 - ширины одиночного пика резонансной кривой при наличии флуктуаций параметров плазмы к ширине резонансной кривой при наличии флуктуаций параметров плазмы к ширине резонансной кривой без плазмы на одном и том же уровне , и определяют по формулам амплитуду флуктуаций

и характерную частоту F

где Q добротность резонатора;
- отношение амплитуды резонансной кривой на уровне измерения ее ширины к максимальному значению;
fо резонансная частота без плазмы;
Тп период модуляции частоты;
К крутизна вольтчастотной характеристики генератора;
nкр критическая плотность плазмы для частоты fо;
n плотность измеряемой плазмы;
Vр объем резонатора;
V объем, занимаемый плазмой;
Uп амплитуда пилообразного напряжения модуляции частоты.

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к плазменной технике и представляет собой средство для генерирования в вакууме потоков ускоренной электроэрозионной плазмы и может быть использовано, например, в технике вакуумного нанесения тонких пленок и покрытий

Изобретение относится к области и-с ивдппт дзр cvww

Изобретение относится к области масс-спектрометрии и может быть использовано при изотопном анализе образцов твердой фазы

Изобретение относится к плазменной технике и предназг1ачено для определения размеров, площади поверхности и объема плазмы высокого давления

Изобретение относится к области плазменной техники и управляемого термоядерного синтеза и может быть использовано для получения высокотемпературной плазмы и генерирования нейтронного излучения

Изобретение относится к вакуумной и напылительной технике и, в частности, к электродуговым испарителям металлов и сплавов, используемый для нанесения тонких пленок и покрытий в вакууме

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх