Суспензия для химико-механического полирования полупроводниковых подложек



 

Изобретение относится к композиционным полировальным составам, применяемым для химико-механического полирования полупроводниковых подложек, в частности из монокристаллического кремния. Изобретение позволяет увеличить скорость полирования полупроводниковых подложек за счет использования состава, содержащего, мас.%: цеолит (алюмосиликат натрия) 9,0 - 11,0, моноэтаноламин 2,3 - 2,9, глицерин 5,0 - 10,0 и деионизованную воду - остальное. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

„.SU, 1565867 А 1 щ) С 09 С 1/02

l !

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ и А ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Суспензия для химико-механического полирования полупроводниковых подложек, содержащая абразив и деионизованную воду, о т л и ч à ю щ а я с я, тем, что с целью увеличения скорости полирования, она в качестве абразива содержит цеолит и дополнительно моноэтаноламин и глицерин при следующем соотношении компонентов, мас.3:

Цеолит 9,0-11,0

Моноэта нола ми н 2 3-2,9

Глицерин 5010,0

Деионизова нная вода Остальное

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

l1PH ГКНТ СССР (21) 4293740/23-05 (22) 03.08.87 (46) 23 .05.90.. Вюл ° 8 19 (72), И.М. Яцик, В.Ф. Марченко и Т.В. Дмитриева (53) 621.921(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР 636243, кл. С 09 G 1/02, 1978. (54) СУСПЕНЗИЯ ДЛЯ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕС- .

КОГО ПОЛИРОВАНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ

ПОДЛОЖЕК (57) Изобретение относится к компози° Изобретение относится к композиционным полировальным составам, применяемым для химико-механического по" лирова ния полупроводни ковых подложек, в частности, из монокристаллического кремния °

Цель изобретения - увеличение ско" рости полирования полупроводниковых подложе к.

П р и и е р 1. В емкость с 761 г деионизованной воды добавляют 110 r цеолита (алюмос или ката натрия ) и

100 г глицерина, перемеши ва ют. В полученную композицию порциями вносят

29 г моноэтаноламина и после тщательного перемешивания применяют для эффективного полирования кремниевых пластин после полирования алмазными пастами АСМ 3/2,. АСМ 2/1.

Пример 2. В емкость с 799 r деионизованной воды вносят 100 г цеолита и 75 r глицерина, перемешивают. К полученной композиции порци ями добавляют 26 г моноэтаноламина. ционным полировальным составам, применяемым для химико-механического полирования полупроводниковых подложек, в частности, из монокристаллического кремния. Изобретение позволяет увеличить скорость полирования полупроводниковых подложек за счет использования состава, содержащего, мас.4: цеолит (алюмосиликат натрия)

9, 0-11, 0 моноэта нола мин 2, 3-2, 9 глицерин 5, 0-10, О, и деи они зова.нная вода остальное. 1 табл.

Перемешивают и используют для оконе чательного полирования кремниевых пластин после полирования пастами

АСМ 2/1, АСМ 1/О.

Аналогично приготавливается суспензия по примеру .3 (таблица) . формула изобретения

1565867

Состав суспензии, мас.3 Пример рН суспензии

Скорость полирования, мкм/мин

Параметр шероховатости R, мкм

Ионоэтанолами н

Глице- Рода дерин ионизова нная

Цеолит

9,0

10,8

О, 032-0, 025

11 2

11,5

О, 032-0, 025

О, 032-0, 025

0,08"0,66

Сос raвитель И. Гинзбург

Техред Г1. Ходаншч Корректор 0 ° Кра вдова

Редактор Н. Яцола

За ка з 1198 Тираж 570 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР !

13035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r.Ужгород, ул.Гагарина, 101

2 10,0

3 11,0

Извест ныйй

2,3

2,6 7,5

2 9 10,0

83,7

79,9

76,1

0,81

0,83

0 90

Суспензия для химико-механического полирования полупроводниковых подложек Суспензия для химико-механического полирования полупроводниковых подложек 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к составам для очистки, доводки и полирования мелких ажурных деталей из сплавов с высокими прочностными характеристиками

Изобретение относится к составам жидких абразивных паст и может быть использовано в машиностроении в процессах притирки и доводки поверхности деталей из алюминиевого сплава

Изобретение относится к обработке ювелирных изделий и позволяет повысить производительность пасты при обработке изделий из сплавов золота за счет использования состава, содержащего, мас.%: электрокорунд 36-52 стеарин 20-24, олеиновая кислота 3-5 карбид бора 2-4 графит 21-25 и шеллак 2-6

Изобретение относится к полировальным составам, используемым для полировки полиэфирных покрытий по древесине на полировальных многогабаритных станках

Изобретение относится к абразивным составам для финишной обработки стальных поверхностей и может быть использовано в различных областях техники

Изобретение относится к области технологии изготовления инструмента , для оптического производства в оптикомеханической и электронной промьшшенности,Изобретение позволяет повысить размерную стойкость полировального инструмента (время до правки полировальника до 1-2,5 ч) и точность параметров обрабатываемой поверхности ситаллового или кварцевого стекла (число колец Ньютона в 1 см 0,1-0,4) за счет использования полировальника, содержащего, мае

Изобретение относится к металлообрабатьшакхцей промышленности и может быть использовано при чистовой обработке металлических изделий бытового назначения

Изобретение относится к абразивным пастам для притирки и доводки металлических поверхностей

Изобретение относится к абразивным микропорошкам с размером кристаллов от 0,2 до 2 мкм на основе оксидов алюминия и 3d-металла, в частности, хрома, железа, титана, ванадия и др., используемых для полирования и окончательной доводки поверхности высокоточных изделий из металла, стекла и камня с целью придания им минимальной шероховатости поверхности и достижения высших классов точности размеров и геометрических форм

Изобретение относится к области машиностроения, более конкретно, к механической обработке поверхностей пластмассовых изделий и может быть использовано как при декоративной полировке эластичным полировальником, так и доводочно-притирочной обработке жестким притиром полимерных материалов и полимерных покрытий, в частности, светлоокрашенных реактопластов при производстве стеклопластиковых корпусов катеров

Изобретение относится к тонкой абразивной обработке металлических поверхностей в процессах доводки, притирки и полировки изделий из черных и цветных металлов и сплавов и позволяет утилизировать шламовые отходы гальванического производства

Изобретение относится к полировочным композициям и способам удаления царапин и других дефектов с разнообразных пластиковых поверхностей с целью улучшения их прозрачности и оптического качества

Изобретение относится к абразивной обработке металлов для получения высокой чистоты поверхности и может быть использовано в подшипниковой промышленности

Изобретение относится к составам жидких абразивных паст и может быть использовано в машиностроении в процессах полирования и доводки поверхности металлических деталей, преимущественно при доводке стальных закаленных шариков для шарикоподшипников

Изобретение относится к технике обработки металлов, обеспечивающей получение заданного класса шероховатости и притирки поверхностей, и может найти преимущественное применение в обработке клапанных механизмов, а именно при доводке и притирке седла клапана и самого клапана

Изобретение относится к области изготовления паст для суперфинишной доводки поверхности металлов, сплавов и неметаллических материалов

© Патентный поиск, поиск патентов на изобретения - FindPatent.RU 2012-2024
Политика конфиденциальности 2013-03-29T00:17:48
Наверх