Способ плакирования металлических изделий

 

Изобретение относится к технологии плакирования металлических изделий путем приварки взрывом металлической пластины и может быть использовано в химической, авиационной промышленности, в других областях техники. Цель изобретения - расширение технологических возможностей за счет обеспечения плакирования участков криволинейных в плане поверхностей, расположенных в замкнутых и незамкнутых полостях. Над плакируемой поверхностью устанавливают плакирующий элемент, в котором расположены основной и дополнительный заряды взрывчатого вещества (ВВ). При этом дополнительный заряд размещен в центральной части основного заряда по форме трапеции, боковые стороны которой размещают под прямым углом к касательным к криволинейным поверхностям основного заряда. Над основным и дополнительным зарядами ВВ устанавливают двухслойную полуэллиптическую оболочку, заполненную ВВ. Толщину оболочки выбирают меньше критического диаметра ВВ. Торцы основного заряда ВВ располагают в фокусах полуэллиптической оболочки. Заряды ВВ инициируют. В результате происходит соударение плакирующего элемента с плакируемой поверхностью и их прочное соединение. 3 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (19) (Ю. (51) 5 В 23 К 20/08

1

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4407122/25-27 (22) 11.04.88 (46) 07.06.90. Бюл, If 21 (71) Всесоюзный научно-исследовательский проектно-технологический институт вагоностроения (72) В,В.Драгобецкий, Б.Г,Цыган и И.И.Пружилкин (53) 621,771.8 (088.8), 56) Конон Ю.А. Сварка взрывом, М.:

Машиностроение, 1987, с.53, рис.2.3. (54) СПОСОБ ПЛАКИРОВАИИЯ МЕТАЛЛИЧЕССКИХ ИЗДЕЛИЙ (57) Изобретение относится к техноло. гии плакирования металлических изделий путем приварки взрывом пластины и может быть использовано в химической, авиационной пром-сти, в других областях техники, Цель изобретения расширение технологических возможнос. тей за счет обеспечения плакирования участков криволинейных в плане поИзобретение относится к технологии плакирования металлических изделий путем приварки взрывом металлической пластины и может быть использовано в химической и авиационной промышленности, машиностроении, судострое нии и других областях техники.

Цель изобретения - расширение технологических возможностей за счет обеспечения плакирования участков криволинейных в плане поверхностей, расположенных в замкнутых и незамкнутых полостях, и повышение безопасности взрывного плакирования.

2 верхностей, расположенных в замкнутых и незамкнутых полостях. Над плакируемой поверхностью устанавливают плакирующий элемент, в котором расположены основной и дополнительный заряды взрывчатого вещества (ВВ). При этом дополнительный заряд размещен в центральной части основно-а заряда

»о Форме трапеции, боковые стороны которой размещают под прямым углом к касательным к криволинейным поверхностям.основного заряда. Над основным и дополнительным зарядами ВВ устанавливают двухслойную полуэллиптическую оболочку, заполненную BB. Толщину оболочки выбирают меньше критического диаметра BB. Торцы основного заряда ВВ располагают в фокусах полуэллиптической оболочки. Заряды ВВ инициируют. В результате происходит соударение плакирующего элемента с плакируемой поверхностью и их прочное соединение. 3 ил.

Способ плакирования металлических изделий включает установку плакирующего элемента над плакируемой поверхностью и инициирование расположенного на ней основного и в центральнои части основного дополнительного зарядов взрывчатого вещества. Боковые стороны дополнительного заряда взрыв чатого вещества размещают под прямым углом к касательным к криволинейным поверхностям основного заряда взрывчатого вещества. Над основным и дополнительным зарядами взрывчатого вещества устанавливают двухслойную

1569145

50 полуэллиптическую оболочку, которую заполняют взрывчатым веществом. Торцы основного заряда взрывчатого вещества располагают в фокусах полуэллиптической оболочки. Толщину последней выбирают меньше критического диаметра взрывчатого вещества.

На фиг. 1 изображена деталь с вы ступом, имеющим криволинейную в пла- !0 не поверхность, разрез; на фиг. 2 ф зрма основного и дополнительного э рядов; на фиг. 3 - двухслойная полуэллиптическая оболочка.

Пример. цеталь с элементом 15 типа "хомут 1, изготовленную из серого чугуна марки СЧ 35, устана вливают на основание из сыпучего материала (песок, стальная дробь и т.п.).

На плакируемую поверхность, выступ 2 20 криволинейной в плане поверхности, расположенный в незамкнутой полости

3 хомута 1, располагают с зазором S

0,5 мм криволинейный плоский плакирующий элемент 4 (дуга кольца), изго- 25 товленный из материала Л62 толщиной

0,8 мм.

На плакирующем элементе 4 размещают основной заряд 5 взрывчатого вещества аммонит 6ЖВ толщиной 4 мм, мЕньшей критического диаметра аммонита 6 ЖВ, равного 10 мм. Форма в плане основного заряда соответствует форме в плане плакируемой криволинейной поверхности. В центральной части

35 основного заряда 5 располагают электродетонатор 6 ЭД 8 и дополнительный заряд 7 со скоростью детонации, большей скорости детонации основного заряда например Гексоген, ДОПОлнитель 40 ный заряд 7 взрывчатого вещества размещают по форме трапеции, боковые стороны которой располагают под прямым углом к касательным к криволинейным поверхностям основного заряда 5

45 (фиг.2). Над основным зарядом 5 взрывчатого вещества устанавливают двухслойную полуэллиптическую оболочку 8, которую заполняют взрывчатым веществсм 9 - аммонитом 6 ЖВ„ Толщина сР полуэллиптической оболочки меньше критического диаметра используемого взрывчатого вещества и равна 3 мм.

Торцы основного заряда 5 взрывчатого вещества располагают ы фокусах полуэллиптической оболочки 8 (фиг.3).

При инициировании дополнительного заряда 7 электродетонатором 6 происходит распространение детонации по основному заряду 5. В результате воздействия давления, возникающего при детонации взрывчатого вещества, происходит соударение пла кирующей пластины 4 с поверхностью выступа 2 и их прочное соединение.

При подрыве электродетонатора 6 дополнительный заряд 7 взрывчатого вещества позволяет выровнять фронт детонации по криволинейной поверхности основного заряда 5, что обеспечивает устойчивую детонацию по всей его поверхности. Полуэллиптическая оболочка 8 с зарядом взрывчатого вещества при инициировании обеспечивает образование кумулятивной струи между основным зарядом 5 и зарядом, расположенным в полуэллиптической оболочке, которая, в свою очередь, обеспечивает детонацию зарядов по всей плакируемой поверхности. Кроме того, полуэллиптическая оболочка препятствует воздействию ударных и детонационных волн на внутреннюю полость детали. Расположение торцов основного заряда взрывчатого вещества в фокусах полуэллиптической оболочки способствует стабильности детонации по всему объему основного заряда взрывчатого вещества и препятствует вылету и воздействию продуктов детонации на поверхности детали.

Расширение технологических возможностей связано с тем, что для сварки взрывом необходимо, чтобы вес заряда был примерно равен весу привариваемой пластины 4 (параметр сварки r-отношение веса взрывчатого вещества к весу привариваемой пластины лежит в пределах 0,5 (r (3). Бсли пластина тонкая, то заряд для осуществления сварки взрывом должен быть толщиной, меньшей критического диаметра (т,е. который невозможно инициировать). Применение системы зарядов толщиной, меньшей критического диаметра, позволяет уменьшить общую массу заряда при обеспечении устойчивой детонации от толщины плакирующего элемента. При этом форма заряда 9 в полуэллиптической оболочке 8 позволяет компенсировать нестабильность скорости детонации заряда при образовании кумулятивной струи, Способ можно применять для плакирования участков криволинейных в пла-( не поверхностей внутренних замкнутых и незамкнутых полостей изделия, а

1О

5 156914 также для локального плакирования внутренних поверхностей различных деталей.

Способ позволяет повысить долговечность и ресурс эксплуатируемых изделий путем плакирования тяжелонагруженных контактных поверхностей, расположенных практически в любых местах детали, Применение способа возможно как непосредственно при изготовлении деталей, так и при их восстановлении. Повышение ресурса, как правило, достигается в 1 5-2 раза.

Формула изобретения

Способ плакирования металлических изделий, включающий размещение над плакируемой поверхностью плакирующего элемента с установленным на нем соответствующим в плане плакируемой поверхности основным и расположенным в его центральной части дополнительным зарядами взрывчатого вещества, 5 б инициирование зарядов, о т л и ч а ю" шийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей за счет обеспечения плакирования участков криволинейных в плане поверхностей, расположенных в замкнутых и незамкнутых полостях, и повышения безопасности, используют двухслойную оболочку полузллиптической формы, заполняют пространство между ее слоями взрывчатым веществом, толщина которого не превышает его критический диаметр, устанавливают упомянутую оболочку над основным зарядом, торцы которого располагают в фокусах оболочки, боковые стороны.дополнительного заряда в плане располагают под прямым углом к касательным к криволинейной поверхности основного заряда, а инициирование осуществляют от дополнительного заряда к заряду, размещенному между слоями оболочки, а затем к основному заряду.

8.

1569145

Составитель И. Николаева

Реда ктор С . Па т рушева Техред N, Дидьпс

Корректор В,Кабаций

Заказ 1416 Тираж 63 Подписное

ВНИИП11 Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

11303 i,, 1îñêâà, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-изпатаяьски11 комбинат "Патент", r. Ужгород, ул, Гагарина, 101