Устройство фокусировки мощного оптического излучения

 

Изобретение относится к оптико-механической промышленности и может быть использовано для автоматической фокусировки технологических лазеров и в системах адаптивной оптики. Целью изобретения является снижение потребляемой мощности и уменьшение габаритов и массы. Устройство содержит гибкую зеркальную пластину 1, соединенную с системой 2 охлаждения и датчик 4 фокусировки. Новым является выполнение гибкого зеркала из термобиметалла и введение в систему его охлаждения регулятора 3, соединенного с выходом датчика 4 фокусировки. Кроме того, с целью обеспечения фокусировки излучения в заданный объем пространства один или оба слоя термобиметаллического гибкого зеркала выполнены с переменной по диаметру толщиной либо имеют различные по диаметру размеры и форму. 2 з.п. ф-лы, 1 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИЛЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК (51) 5 G 02 В 26/06, 5/10

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н ABTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТ8ЕННЫЙ КОМИТЕТ .IlO ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

1 (21) 4602515/24-10 (22) 05.11.88 (46) 07.10.90. Бюл. № 37 (71) Ленинградский институт точной механики и оптики (72) В. И. Бойков, С. В. Быстров и А. В. Смирнов (53) 535.8 (088.8) (56) Adelman N. Т. Applied Optics, 1977, ч. 11, N 12, р. 30 — 75.

Fushetto А. Optical Engineering, 1981, v. 29, N2,,р. 310. (54) УСТРОЙСТВО ФОКУСИРОВКИ

МОЩНОГО ОПТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ (57) Изобретение относится к оптикомеханической промышленности и может быть использовано для автоматической фокуси„„SU„„1597834 А1

2 ровки технологических лазеров и в системах адаптивной оптики. Целью изобретения является снижение потребляемой мощности и уменьшение габаритов и массы. Устройство содержит гибкую зеркальную пластину 1, соединенную с системой 2 охлаждения, и датчик 4 фокусировки. Новым является выполнение гибкого зеркала из термобиметалла и введение в систему его охлаждения регулятора 3, соединенного с выходом датчика 4 фокусировки. Кроме того, с целью обеспечения фокусировки излучения в заданный объем пространства один или оба слоя термобиметаллического гибкого зеркала выполнены с переменной по диаметру толщиной либо имеют различные по диаметру размеры и форму. 2 з. п. ф-лы, 1 ил.

1597834

Изобретение относится к оптико-механической промышленности и может быть использовано для автоматической фокусировки излучения в технологических лазерах и в системах адаптивной оптики.

Целью изобретения является снижение потребляемой мощности и уменьшение габаритов и массы устройства.

На чертеже изображена схема устройства.

Устройство состоит из гибкой зеркальной пластины 1, выполненной из термобиметалла (двух жестко соединенных по всей поверхности слоев металла с различными коэффициентами теплового расширения), системы 2 охлаждения, непосредственно связанной с гибкой зеркальной пластиной 1. Система 2 охлаждения имеет регулятор 3, который соединен с выходом датчика 4 фокусировки, над которым на пути оптического пучка расположено устройство 5 деления оптического пучка.

Устройство фокусировки мощного оптического излучения работает следующим образом.

Мощный оптический пучок, падая на поверхность зеркальной пластины 1, изготовленной из двух слоев металла с различными температурными коэффициентами расширения, нагревает ее. В силу свойств термобиметалла зеркальная пластина 1 изгибается, причем, если температурный коэффициент расширения слоя, на который падает излучение, меньше, чем второго слоя, то зеркальная поверхность принимает вогнутую форму.

Если зеркальная пластина 1 имеет круглую форму и состоит из слоев постоянной по диаметру толщины, то ее изгиб происходит аналогично биморфным пьезоэлектричеким зеркалам по сфере с высокой точностью.

В случае оптимального выбора соотношения толщин слоев, когда где h и h2 — толщины слоев 1 и 2;

Е1 и Е2 — модули упругости слоев 1 и 2, радиус кривизны для изначально плоской пластины определяется по формуле

Р= — — — — — —3 (а — а ) ЛО где h — общая толщина биметаллической пластины;

ni и а2 — температурные коэффициенты расширения слоев 1 и 2;

Л6 — изменение температуры.

Отраженное от зеркальной пластины 1 излучение идет на цель и частично ответвляется устройством 5 деления пучка и направляется на датчик 4 фокусировки. Датчик 4 фокусировки излучения может быть изготовлен при помощи двух полудисков со щелями, развернутых относительно друг друra на 180 и вращающихся на одной оси.

Световой пучок пересекается полудисками попеременно и падает на фотоприемник, расположенный за ними. В результате на выходе фотоприемника формируются пачки электрических сигналов, следующие одна за другой. Если фокус расположен посередине, между плоскостями полудисков, то диаметры сечения пучка на них одинаковы и амплитуды сигналов во всех пачках равны между собой и разностный сигнал равен нулю. Если фокус смещен, то диаметр пучка на полудиске, в сторону которого он сместился, становится меньше, чем на другом. В результате, пачки импульсов имеют различную амплиту)5 ду и разностный сигнал имеет амплитуду, пропорциональную величине смещения фокуса, и знак, зависящий от направления этого смещения. С выхода датчика 4 фокусировки сигнал поступает на регулятор 3 системы 2 охлаждения. В случае недостаточной фокусировки отраженного от зеркальной пластины 1 пучка (большого радиуса кривизны зеркальной пластины 1) сигнал с выхода датчика 4 фокусировки, подаваемый на регулятор 3, невелик, и система 2 охлаждения

25 работает слабо.

Температура зеркальной пластины 1 возрастает и радиус ее кривизны уменьшается. Если кривизна зеркальной пластины 1 превосходит заданную величину, то сигнал с

30 датчика 4 фокусировки усиливается, регулятор 3 увеличивает интенсивность работы системы 2 охлаждения, температура, а следовательно, и кривизна зеркальной пластины 1 уменьшаются. Таким образом, радиус кривизны зеркальной пластины 1 постоянно

Ç5 стремится к заданному значению.

Система 2 охлаждения может быть изготовлена с помощью термоэлектрических элементов Пельтье, присоединенных к задней поверхности гибкой зеркальной пластины 1.

Наиболее простым в реализации режимом работы регулятора системы 3 охлаждения является релейный, при котором он либо отключает систему 2 охлаждения, либо включает ее на полную мощность, причем пе45 реключение происходит по сигналам датчика 4 фокусировки в момент равенства фокусного расстояния гибкого зеркала 1 заданной величине (при этом, когда фокусное расстояние зеркала 1 больше заданного, система 2 охлаждения отключена, а когда мень50 ше, включена на полную мощность). В качестве регулятора 3, обеспечивающего релейный режим работы, может быть использована транзисторная ключевая схема, в качестве коллекторной нагрузки которой включены элементы Пельтье системы 2 охлаж5 дения.

При изготовлении термобиметаллического гибкого зеркала из слоев с переменной по диаметру толщиной либо различных

15Э7834 где Ki = 12К

Формула изобретения

Составитель Л. Перебейносова

Редактор Н. Гунько Техред А. Кравчук Корректор Л. Патай

Заказ 3054 Тираж 458 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

I 13035, Москва, 7К вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат «Патент», r. Ужгород, ул. Гагарина, 1О! по диаметру размеров и формы его деформация определяется более сложным выражением. Очевидно температурная деформация термобиметаллического гибкого зеркала должна описываться уравнением, подобным уравнению деформации биморфного пьезоэлектрического гибкого зеркала. Для статического режима работы уравнение, описыв ающее прогибы поверхности термобиметаллического гибкого зеркала, имеет вид дЪ (х,y) o W (х,y) 1 дх ду D (x,у) где W (x,у) — смещения поверхности гибкого зеркала; х,у — координаты в плоскости гибкого зеркала;

D (х,у) — распределение жесткости гибкого зеркала по его площади, зависящее от толщины и формы его слоев;

Й вЂ” изменение температуры;

К вЂ” коэффициент пропорциональности.

В частности, для гибкого зеркала с переменной по диаметру толщиной данное уравнение принимает вид д2 / (х,у) д2Я/ (х,у) дх dP h (х,у) Е и v — модуль упругости и коэффициент

Пуассона материала гибкого зеркала;

h (х,у) — функция толщины гибкого зеркала.

1. Устройство фокусировки мощного оптического излучения, содержащее гибкое зеркало с системой охлаждения и датчик фокусировки, отличающееся тем, что, с целью снижения потребляемой мощности и уменьшения массы и габаритов, гибкое зеркало выполнено из термобиметалла, а в систему его охлаждения введен регулятор, соединенный с выходом датчика фокусировки.

2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что, с целью фокусировки излучения в за20 данный объем пространства, один или оба слоя — термобиметаллического гибкого зеркала выполнены с переменной по диаметру толщиной.

3 Устройство по п. 1, отличающееся тем, что, с целью фокусировки излучения в заданный объем пространства, термобиметаллическое гибкое зеркало выполнено из слоев, имеющих различные размеры и форму.

Устройство фокусировки мощного оптического излучения Устройство фокусировки мощного оптического излучения Устройство фокусировки мощного оптического излучения 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к оптико-электронному приборостроению, более конкретно к устройствам коррекции волнового фронта оптического излучения средствами адаптивной оптики

Изобретение относится к технической физике, а именно к отражателям оптического излучения, и может быть использовано в приемных и излучающих системах адаптивной оптики

Изобретение относится к гелиотехнике

Изобретение относится к гелиотехнике

Изобретение относится к гелиотехнике и может быть использовано в концентраторах солнечной энергии

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано в фокусирующих оптических системах

Изобретение относится к устройствам коррекции волнового фронта и может быть использовано в адаптивных оптических устройствах

Изобретение относится к оптическому приборостроении, а именно к концентраторам лучистой энергии, и может быть использовано в качестве источника нагрева в технологии пайки и сварки

Изобретение относится к оптико-электронному приборостроению, более конкретно к устройствам коррекции волнового фронта оптического излучения средствами адаптивной оптики

Изобретение относится к оптическому приборостроению, предназначено для использования в адаптивных оптических системах и позволяет повысить точность регулирования формы оптической поверхности

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано в фокусирующих оптических системах

Изобретение относится к устройствам коррекции волнового фронта и может быть использовано в адаптивных оптических устройствах

Изобретение относится к устройствам коррекции волнового фронта и может быть использовано в оптических квантовых генераторах в качестве отражающего зеркала для управления волновым фронтом излучения

Изобретение относится к оптическому приборостроению, может быть использовано в качестве управляемого зеркала резонатора лазера, прожекторной установки, телескопа, позволяет увеличить быстродействие и уменьшить габариты зеркала

Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет уменьшить габариты и вес устр-ва, а также упростить регулировку его фокусного расстояния

Изобретение относится к оптическому приборостроению и использовано в квантовой электронике в качестве управляемого зеркала резонатора лазера

Модулятор // 1264124
Изобретение относится к оптичес-кому приборостроению и позволяет повысить точность воспроизведения закона модуляции

Изобретение относится к оптико-электронным аппаратам наблюдения с высоким пространственным разрешением и может быть использовано для повышения качества изображения в увеличенном поле
Наверх