Способ получения матрицы для изготовления линзовых растров

 

Изобретение относится к способу получения матрицы для изготовления линзовых растров в растровых киносъемочных аппаратах и стереоаппаратах. Позволяет расширить технологические возможности способа. На биметаллическую пластину экспонируют изображение, бинарная структура которого соответствует пространственному распределению линзовых элементов. Затем на участки, соответствующие линзовым элементам биметаллической пластины, наносят металлический слой и смачивают его расплавом легкоплавкого металла, который охлаждают до отверждения. На сформированный рельеф линзовых элементов растра электролитическим путем наносят слой металла с последующим отделением его от поверхности рельефа. 1 з.п. ф-лы.

1601603 A 1

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (19) (11) щ)5 С 03 F 5/00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

К А BTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Р (21) 460047) /31-12 (22) 01.11.88 (46) 23.10.90. Бюл. !1 - 39 (71) Омский политехнический институт (72) Д,Х.Ганиев, Б.Ф.Грибановский, С,A.ÙåãëoB и О.М.Ченцова (53) 655.22:678.06 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

11 - 147094, кл, G 03 F 5/00, 1961 ° (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МАТРИЦЫ ДЛЯ

ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЛИНЗОВЫХ РАСТРОВ (57) Изобретение относится к способу получения матрицы для изготовления линзовых растров в растровых киносъемочных аппаратах и стереоаппараИзобретение относится к области изготовления линзовых растров, применяемых в оптических приборах, в полиграфической промышленности, в растровых киносъемочных аппаратах и стереоаппаратах, устройствах для получения пространственных и интегральных фотографий и т.п, Целью изобретения является расширение технологических возможностей способа.

Способ осуществляют следующим образ ом,.

На биметаллическую пластину, которую используют в качестве подложки, экспонируют изображение, бинарная структура которого соответствует пространственному распределению линзовых элементов, затем на участки,соответствующие линзовым элементам биметалтах, позволяет расширить технологические возможности способа, На биметаллическую пластину экспонируют иэображение, бинарная структура которого соответствует пространственному распределению линзовых элементов. Затем на участки, соответствующие линзовым элементам биметаллической пластины, наносят металлический слой и смачивают его расплавом легкоплавкого металла, который охлаждают до отверждения. На сформированный рельеф линзовых элементов растра электролитическим путем наносят слой металла с последующим отделением его от поверхности рельефа.

I лической подложки, наносят металлический слой и смачивают его расплавом, который охлаждают до отверждения. На сформированный рельеф линзоьых элементов растра электролитическим путем наносят слой металла с последующим отделением его от поверхности рельефа.

Пример 1. На офсетную предварительно очувствленную пластину экспонируют изображение бинарной структуры. Экспонирование осуществляют лампой ПРК-400 в течение 5 мин.Экспонированную копию проявляют 0,57-ным раствором щелочи в течение 5 мин при комнатной температуре и промывают водой, в результате чего светочувствительный слой на засвеченных участках растворяется до алюминиевой подложки. На отмытые участки алюминия

1601603 гальванически наносят слой меди толщиной 0,5-0, 7 мкм. Гальваническое наращивание меди осуществляют при комнатной температуре, плотности тока 1-2 А/дм в течение, 10-15 мин из электролита следующего состава, в г/л:

CuS04 5Н20 210

Н 2804, 50 10

Тиомочевина 0,4

NaC1 0,01

Используют медный анод. Пластину промывают, повторно экспонируют в течение 5 мин, промывают 0,5 Е-ным ра, створом щелочи и водой для удаления оставшегося светочувствительного слоя.

В результате осуществления описанных операций получают на поверхности пластины изображение бинарного растра медью на фоне алюминия.Пластину окунают в расплав припоя ПОС-60.

Поскольку припой смачивает лишь медь ,и не смачивает алюминий, то после 25 охлаждения модели до температуры затвердевания припоя на поверхности образуется рельеф линзового растра.

Для электролитического наращива,ния матрицы модель помещают в ванну электрохимического никелирования и подсоединяют к катоду, анодом служит никелевая пластина. Электролит имеет следующий состав, r/л:

NiS04 7Н О 180 — 200

Na2S04 10 Н20 60 — 75

H B0) 25 — 30

NaC1 10 — 15 рН 5 — 5,5.

Режим электролиза: температура

18-25 С, плотность тока 1-3 А/дм о 2

Электролиз проводят в течение 2-3 ч до получения слоя никеля толщиной

80-100 мкм. Полученную матрицу отделяют от модели с помощью острого ножа, промывают водой и сушат.

Пример 2. На о*сеткой полиметаллической пластине сталь — медь хром с предварительно очувствленным копировальным слоем на основе ПВС копируют изображение бинарной структуры. Копирование и проявление осуществляют -аналогично примеру 1. Оставшийся задубленный слой ПВС подвергают дополнительному дублению в растворе хромового ангидрида с последующим

ИК-облучением в течение 10-15 мин.

С обнаженных участков химическим способом стравливают слои хрома до медной поверхности раствором следующего состава, мл:

Кислота соляная (пл. 1,18

1,19 г/cM ) 50

Раствор хлористого кальция (пл.

1,45 г/см ) 800

Насыщенный раствор хлористого цинка 1 5.0

Пластину промывают водой, удаляют з адубленный слой ПВС 20 Х-ным р ас т вором щелочи, промывают и сушат .

На поверхности пластины получают изображение бинарной структуры н а меди на фоне хрома . Далее пластину полив ают р аспл авом, содержащим 9 27 олов а и 8 7. цинка, избыток расплава с тряхив ают . Расплав смачивает лишь участки меди, хром не смачива ет с я указанным расплавом, поэтому после охлажд ения расплава на биметаллической подложке образуется рельеф линзового растра . !

Электролитическое наращивание матрицы и отделение ее от поверхности рельефа осуществляют аналогично примеру 1.

Формула изобретения

Способ получения матрицы для изготовления линзовых растров, заключающийся в формировании на подложке рельефа линзовых элементов растра, электролитическом нанесении на рельеф слоя металла и его отделении от поверхности рельефа, о т л и ч а ю— шийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей способа, в качестве подложки используют предварительно очувствленную биметаллическую пластину, при этом формирование рельефа осуществляют путем экспонирования на подложку изображения, бинарная структура которого соответствует пространственному распределению линзовьгх элементов, нанесения металлического слоя на участки,соответствующие линзовым .элементам биметаллической подложки, и смачивания его расцлавом легкоплавкого металла, который охлаждают до отверждения.