Способ очистки и пропитки рабочей поверхности шлифовального круга смазочно-охлаждающей жидкостью

 

Изобретение относится к станкостроению , а именно к способам очистки и пропитки рабочей поверхности шлифовального круга смазочно-охлаждающей жидкостью (СОЖ). Целью изобретения является повышение эффективности очистки. При заданных частотах f подачи струй СОЖ на круг и длине I участка рабочей поверхности круга, очищаемого единичной струей, зная радиус R круга и коэффициент .2-1,4 перекрытия очищаемых участков, по формуле N

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (sl)5 В 24 В 55/02

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

„„2_#_К К (21) 463Э505/08 (22) 09.01.89 (46) 07.05.91. Бюл. М 17 (71) Ульяновский, политехнический институт (72) В. Ф. Жданов, В. В. Борькин и А. В, Кузнецов (53) 621.922.029{088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

% 1248764, кл. В 23 Q 11/10, 1986. (54) СПОСОБ: ОЧИСТКИ И ПРОПИТКИ РАБОЧЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ШЛИФОВАЛЬНОГО КРУГА СМАЗОЧНО-ОХЛАЖДАЮЩЕЙ

ЖИДКОСТЬЮ (57) Изобретение относится к станкостроению, а именно к способам очистки и пропитИзобретение относится к станкостроению, а именно к способам очистки и пропитки рабочей поверхности шлифовального круга смазочно.-охлаждающей жидкостью (СОЖ).

Целью изобретения является повышение эффективности очистки, Способ осуществляют следующим образом. Предварительно определяют частоту f

° следования импульсов струй СОЖ, которая определяется действующими устройствами, например генератором импульсов, и задаются длиной участка рабочей поверхности круга, очищаемого единичной струей. После этого, зная радиус R используемого круга, определяют количество N импульсов для полной очистки круга па формуле

„„5U „„1646819 А1 ки рабочей поверхности шлифовального круга смазочно-охлаждающей жидкостью (СОЖ). Целью изобретения является павышение эффективности очистки. При заданных частотах f подачи. струй СОЖ на круг и длине I участка рабочей поверхности круга, очищаемого единичной струей, зная радиус

R круга и коэффициент К=1,2 — 1,4 перекрытия очищаемых участков, по формуле И=

= (2 л R к):i выбирают количество N импульсов для полной очистки круга. Далее. задаваясь числами m=0,1,2,.„è п=1, 2, 3, ...,(N — 1), некратное N, определяют спектр частот й) вращения круга и ее конкретное значение поформуле:е=((2ЛРm+l П) f); R, где k= 1,2 — 1,4 — коэффициент перекрытия очищаемых участков круга, Далее определяют частоту и вращения круга по формуле

При этом, задаваясь значениями m и и, определяют спектр частот вращения круга, при которых происходит полная очистка круга при заданной частоте следования импульсов, Числа m и и определяют порядковый номер спектральной линии допустимых частот вращения круга и п1=0,1,2,..., а и— целое число из ряда 1,2,3,..., N 1, некратное N. Числа.m и и просто подставляют в формулу, по которой выбирают частоту й) вращения круга, при которой очистка осуществляется эа минимальное время с наименьшими энергозатратами.

Число m определяет уровень спектральной линии, и — порядковый номер на

1646819

При m=0 п1=1 в =1,Гц (VK=0,63 мlс);

m=0 пз=З в з= ЗГц (1/к=1,88 м/с);

m=0 п7=7 в7=7Гц (Чк=4,39 мlс);

m=0 ns=B вз=8Гц (VK 5м/с);

m=0 ng=9 в 9 Гц (Чк=5,56 мlс и т, д, При данных конкретных условиях частота в вращения круга должна быть не менее

7 Гц.

Составитель В. Ротницкая

Редактор Н. Бобкова Техред M.Ìîðãåíòàn Корректор С. Шевкун

Заказ 1370 Тираж 464 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб„4/5

Производственно-издательский комбинаг "Патент", r. Ужгород, ул.Гагарина, 101 данном уровне. Допустимые частоты вращения круга определяют, подставляя в формулу значения m и и в следующей последовательности. Радиус R круга и длина I очищенного участка круга единичной струей величины постоянные. Сначала выбирают m=0 — нулевой уровень и подставляют в формулу значения и из допустимой области значений. Далее берут m=1 — первый уровень и вновь подставляют значения и и т. д. В результате получают ряд значений частоты вращения круга, при которой круг очищается полностью при заданных радиусе R круга, длине I очищенного участка круга единичной струей и частоте f следования импульсов.

Пример. Радиус R шлифовального круга равен 0,1 м. Для очистки используют устройство для импульсной подачи жидкости, в котором струи генерируются с помощью энергии импульсного электрического разряда, Генератор импульсов высокого напряжения позволяет вырабатывать импульсы с частотой 5 Гц. При напряжении

U=8 кВ и емкости конденсаторов С=1 мкФ за один импульс воздействием струи очищается участок поверхности шлифовального . круга I=0,02 м. Тогда количество импульсов

N воздействия струи жидкости на поверхность круга, при котором происходит полная очистка рабочей поверхности, равно 40 при коэффициенте перекрытия отпечатков к= 1,2 — 1,4. Тогда частота в вращения круга определяется по формуле

Уменьшение частоты в вращения ниже

7 Гц, что соответствует в данном случае окружной скорости 4,39, может привести к дисбалансу круга при очистке и повышен5 ным вибрациям. Частоту в=8 Гц использовать при очистке нельзя, так как полной очистке рабочей поверхности круга не происходит, а очищены отдельные участки, отстоящие один от другого на расстоянии 1/5

10 длины окружности круга.

Полную очистку рабочей поверхности круга можно производить и на более высокой частоте вращения круга, например 9, 12 Гц и т. д., однако увеличение скорости .

15 нежелательно, вследствие чего с увеличени-. ем скорости уменьшается время взаимодействия единичной импульсной струи с поверхностью круга,. а следовательно, ухудшается эффективность очистки, В связи с

20 этим требуется увеличение энергозатрат на создание более мощных струй; способных очищать поверхность круга за меньшие промежутки времени.

Формула изобретения

25 Способ очистки и пропитки рабочей поверхности шлифовального круга смазочно-, охлаждающей жидкостью (СОЖ), согласно которому на рабочую поверхность вращающегося круга воздействуют импульсными

30 струями СОЖ с частотой f следования импульсов, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности очистки, частоту в вращения круга выбирают по формуле

35 2 R 1 где R —.радиус круга; ! — длина участка рабочей поверхности круга, очищаемого единичной струей;

40 m= 0,1,2,... — уровень спектра частоты вращения круга; и — целое число иэ ряда 1,2,3...„, N-1, 2zRk некратное N, и N —, — количество

45 импульсов для полной очистки круга, К=1,2 — 1,4 — коэффициент перекры1 ия.