Фотополимеризующая композиция

 

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям, которые используются в полиграфической промышленности . Целью изобретения является улучшение теплостойкости фотополимеризующейся композиции и повышение качества фотополимеризующихся пластин. Изобретение позволяет получать фотополимеризующиеся пластины с оптимальным временем экспонирования после хранения пластин в течение 12 мес 7-9 мин, временем вымывания 8-10 мин, разрешающей способностью 100 за счет композиции (мае.ч.), включающей карбоксилсодержащий сложный эфир ацетосукцината или ацетофталата целлюлозы 100, эфир метакриловой кислоты (диглицидилметакрилат пентаэритрита или его смесь с триэтиленгликольдиметакрилатом с соотношением компонентов от 9:1 до 1:9) 25-150, пластификатор (блок-сополимер окиси этилена и окиси пропилена) 25-100, фотоинициатор (1-хлорантрахинон или диметилбензилкеталь) 0,5-5, термоингибитор (гидрохинон) 0,05- 0.5. 3 табл. сл с

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (н)6 G 03 С 1/58

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

{21) 4714652/05 (22) 03.07,89 (46) 23.11.91. Бюл, hh 43

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ а (71) Украинский научно-исследовательский институт полиграфической промышленности с экспериментальным производством и вычислительным центром (72) O,А.Белицкий, В,А.Кук, M,К.Гладилович, А.В.Вайнер, В.C.Ìèõëèì, В.М.Мелехов, М.А.Коршунов и А.А.Белов (53) 655.226.4(088.8) (56) Шибанов В.В„Костенко Т.A. Фотополимеризующиеся композиции для изготовления печатных форм. M., Информпечать, вып. 1, 1980, с. 48.

Патент США Рв 2927022, кл. 96-35, 1960. (54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ (57) Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям, которые исИзобретение относится к фотополимеризующимся композициям, которые используются химико-фотографической промышленностью для изготовления фотополимеризующихся пластин, применяющихся s полиграфической промышленности и других отраслях народного хозяйства для получения фотополимерных печатных форм .

Целью изобретения является улучшение теплостойкости фотополимеризующейся композиции и повышение качества фотополимеризующихся пластин.

Фотополимеризующаяся композиция включает в себя сложный эфир целлюлозы—

„„SU „„1693582 А1 пользуются в полиграфической промышленности. Целью изобретения является улучшение теплостойкости фотополимеризующейся композиции и повышение качества фотополимеризуЮщихся пластин.

Изобретение позволяет получать фотополимеризующиеся плаСтины с оптимальным временем экспонирования после хранения пластин в течение 12 мес 7-9 мин, временем вымывания 8 — 10 мин, разрешающей способностью 100 см за счет композиции

{мас.ч,), включающей карбоксилсодержащий сложный эфир ацетосукцината или ацетофталата целлюлозы 100, эфир метакриловой кислоты (диглицидилметакрилат пентаэритрита или.его смесь с триэтиленгликольдиметакрилатом с соотношением компонентов от 9:1 до 1:9) 25 — 150, пластификатор (блок-сополимер окиси этилена и окиси пропилена) 25 — 100, фотоинициатор (1-хлорантрахинон или диметилбензилкеталь)

0,5 — 5, термоингибитор (гидрохинон) 0.050,5. 3 табл. ацетосукцинат целлюлозы или ацетофталат целлюлозы формулы (С6Н702(ОСОСН3)х (OCORCOOH)4(OH ))z (1) где Х вЂ” 1,6...1,8;

Y — 0,6...0,7;

Z — 180...300;

R =(СН2)2, С6Н4, а также блоксополимер окиси этилена и окиси пропилена общей формулы

R1(R2(C2H40)n(C3H60)mR3)K, (I I) где R> — HO, H(CH2)0, Н(СНг). ДАССО, ОС3Н60;

Йг С2Н40, (C3H60)m, Йз Н, (СЗН60)Гп Н; и, m, пцп -1 — 75.

1 1-30

1693582

I(= или -! (соответгтви?т 1>але!нтно(:. ги

Р1)

П! р и м 8 р 1. 1 30 Г (мас,ч.) ацетофтс!лата! целл!Олоэы формулы (I) co crenенью замещения ацетильными Группами >(== 1,75, степенью замещения фталильными группами (R "- С6Нл) у — 0,65 и степенью г>оли iepNiee" ции z = 230 смешивают с 50 г (мас,ч,) блоксополимера формулbl (1), имеюще!о

Сл!. Дующие характеристики (табл. 2): R!—

H(CH2)I rOO, R2 32Н4! >, R;> Н., rn - = 9, и =

=4, I.= 1, K = 1, 11(мас,ч,) 1-хлора(-!траi(NНО1-!а и О, 1 Г (MBc,÷,) гидрох!»нol- а. См(>сь тщател ьно перемешивают в смес:теле дс получения

Однород(-!Ой массы N выда1?г!у!(?!аь)т чбрез плоскОщелевую Головку шнеков ого зкст!!у" дералри150 С, Полу -!310 1!венк!г -or ìNH и

0,7 мм. Пленку приклеивают K металличеСКОЙ ПОДЛО>ККЕ ПРИ Г(ОМОЩИ КЛГ1:.: HB ОСНОВЕ гидроксилсодержа щего уоетан:.аого каучука и отверд!лтеля — полиизОцианата.

В качестве металл «еcкoй подложки исПОЛЬЗУЮТ XPOMNPOBBHH/Ю >К6СТЬ ТОЛЩИНС!й

0,25 мм, floKpblTую эпоксидным лаком, BKr.ючак>1цим также бутанолизлрованную фенолпаратретичнобутилфеноформальдег-идную смолу и фосфоо1- уго кислоту в качест88 OTBepÄNÒ8. Ifl, После отверждения клея в течение 48 " пол? .Генные фотополимеризующиеся пг;аЙъ!н ь Г!ОДВ6рГают исп ыта1-!!ля м, ОГ!т!»?Ла!ЛЬ!108 ВР6>?1Я BKCnOHNPОВания

Опр6деля ют сл8дующим (>! !)азом.

Н3 поверKHocrI» фотопалимеризующегося слоя> закрег1ляют «е;.т-1-1ега?т(лв, coA8!)>кащий повторя ющ hec51 участки, экспон1лрук)т УФ cB6TGM (лам )ы !!УФ-81>, ра(положii? HHыe и ра pl oqн?1 1 Ij лм с г ((>OT,"1 полимеризующегося слоя) в течение раэличНОГО вpeM8НИ nQГем перекpblваHNB

0Tв6ЛЬНЫХ v?l3с < Коэ ге(,Т "!18ГаТИва СвеТОне|л" роницаемой оумаги. Вымь(ва;QT и!)Обелы

0,3(? "Ньlм ВОДНЫМ раСТВорсм ГИДРО(:КИСIЛ натрия f1pN 40 Г I! o! 1; I i !лир (Я в, "1 ?м?! вым!1 1 вания до клеевОГО слОя. Промы(!!а!К>т ВОДОЙ и сушат в 8стеств8нных условиЯК. Получе.1ную TecT"форму рассматр(лвают Ч8рез луп!1/ с увеличением х 10. За Опт!»мальное время экспон -лро!>ани5 . Г! pNHNMBKIY ми!-!имальное время, в теченле которого образуются печаТ3ЮЩИЕ ЭЛемеНТЫ, ПРО(!>ИЛЬ КПТООЫХ g Ос!!3 вания имеет угол 65- 7 :- ".

33 ОГIТ(б!Мыльное ВР6ЫЯ ВЫМЬГВаниЯ ПО!Лнимаю> минимальное время, в течение ко тороГÎ проб)е)!ы на тест-форме, полученной при ОГlтимальном Времени зксrIDIINp()BBHKIff, ВЫМЫВс110ТСЯ ДО КЛЕBКОГО СЛОЯ .

Разрешающук> способность определя10;, рассматривая чеpee луг!у с увеличением х10 ми!)у p33pe(>.:ающей способности на

Т8сТ-форме, полученной при оптимальном времени экспонирования, Аналог!1чно готовят тест-форму для определения удельного сопротивления печатающих элементов сдвигу, экспонируя фотополимериэующуюся пластину через соответствующий тест:негатлв в течение оптимального времени - K:,и:>нирования и вымывая пробелы в те-:енле оптимального времени, Удельное сопро"ивление печатавщих элементов сдвигу определяют, испь.тывая таст-форму на разрывной машине

Испытания повторяют через 3, 6 и 12

Mеc xра1-.;6нNя обг>азцОB

Результаты испытаний приведены в табл. 1 и 2, Параллельно готовят фотополимеризующуюся композицию, в составе которой диглицидилметакрилат пентаэритрита заменяют аналОГичным ксличеством триэтиленгликольдиметакрил3T3. Из фото полимеризую(!цейся композиции Готовят, как оплсано выше, фотопслимеризующуюся пл асти ну.

Пластину исг;ытывают аналогично описаннОму.

П р и м 6;> ы "-10. Готовят по примеру

1 фотопол1,::ризуащуюся композиц(.:о, сос(ав которой прлведен в табл. 1 и 2. Иэ композиции Гк)лg?IäloT как Описано в прим8 ре 1, (I>0Torlr>;!. Меризу1ощуюся пластину. Ее ис lbI fbIB3 OT, KBK описано; > npNMiepe,, Р8зульгзты испытаний пpèвеДены в табл. 3.

При псдготовке материалов отбирают только те составы, которые обеспечивают получен»е фотополимеризую(цейся пластины и затем фотсг1олимерной печатной формы, Прл содержании в композиции менее

25 мас,ч, эфира M8TBKpNPIOBGA кислОты. Явля lОщеГОся сшива!Ощим Br6H1 0М пОи иници ированной УФ-сватом радиальной г:олимеризации (фотополимериэации), теряРтся спОсОбнбсть фбтопблим8ризующейся композиции к образованию трехмерной нерасTворимсй структуры, в результате чего формирование печатэ(ощего рельефа не

ПРОИСХОДИТ, При содержании эфира метакриловой кислоты белее 150 мас.ч. фотополимеризующаяся ко(;позици;-: приобретает текучесть при нормальной ref>nep3rype и непригодна к формованик> слоя. При содержании пластификатора МеНее 25 мас,ч. фстополимеР и 3 Y 10 Щ 3 Я с Я K О M и О 3 и 01, и Я т.е Р Я 8 т спо=обность к переработке термопластическим способом. Содержание пластификатора более 1100 мас,ч, придает композиции текучесть г!ри нормальных условиях и тем самым г!стерв способнастл к сохранению

1693582

25-150

25 †1

0,5-5

0,05 — 0,5

Таблица 1

Блок сополимер формулы П, мас.ч.

Эфир метакрилозой КНс

Термоингибитор " гидрохинон, нас.ч фотоинициатор,мас.ч. йример лоты мас,ч

Диметилбензил1- хлора нт рахинон

Показа тели

Тризтилен гликольдиметакрилат

Количество, мас.ч.

Диглмцидилиетакрилат лентазрит кеталь

Ацетофта Ацетосуклатце цниат целлозы люлозы

l Ã

0,1

О ° 5

0,05

0,1

0,5

0,05

0,1

0 5

0,05

0 ° 1

12 ° 5

135

0,65 230

0,7 300

0,6 180

0,65 230

0,7 300

0,6 180

0,65 230

0,7 300

0,6 180

0,65 230

1. 75

1,6

1,8

1,75

1,6

1,8

1,75

1,6

1,8

1,75

1ОО

100

1

0,5

2

4

6

7.

9

t00

100

Оь5

12,5

135 IS

0,5

100

Изаестный

0,65 230

1, 75

0,1

50 геометричесих размеров после формования, Содержание фотоинициатора менее

0,5 и более 5 мас,ч, не обеспечивает возможности получения фотополимерной печатной формы с печатающими элементами, профиль которых у основания имел бы угол 65—

75О, ни при каких режимах экспонирования и вымывания. Содержание термоингибитора менее 0,05 мас.ч. не обеспечивает сохранности фотополимеризующейся композиции в процессе формования, при котором происходит термополимеризация, и слой оказывается неспособным к дальнейшей переработке, Содержание термоингибитора более 0,5 мас.ч. приводит к тому, что оказывает не только термо-, но и фотоингибирующее действие, в результате чего форму требуемого качества не удается получить ни при каких режимах экспонирования и вымывания, Формула изобретения

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимеризующихся пластин термопластическим способом, включающая карбоксилсодержащий сложный эфир целлюлозы, эфир метакриловой кислоты, пластификатор, фотоинициатор и термоингибитор, отличающаяся тем, что, с целью улучшения теплостойкости и повышения качества фотополимеризующихся пластин, она содержит в качестве карбоксилсодержащего сложного эфира

Карбоксилсодержащий слоеный зфир целлюлозы формулы 1 целлюлозы ацетосукцинат целлюлозы или ацетофталат целлюлозы формулы (С6Н 702(O COCHER)QO CORCOOH) у(ОН)з-р+у))2, где R — (CH2)z, С6Н4, 5 х=1,6 — 1,8; у = 0,6 — 0,7;

z = 180 — 300, в качестве эфира метакриловой кислоты— диглицидилметак рилат пентаэритрита или

10 смесь диглицидилметакрилата пентаэритрита с триэтиленгликольдиметакрилатом, взятых в соотношении от 9:1 до 1:9, в качестве пластификатора — блок-сополимер окиси этилена и окиси пропилена формулы

15 R >(Rz(C2H40)n(C3H6O)mR3)K где й3 — О Н, H(CH2)LO, H(CH2)LCOO, ОСЗН60;

R2 — С2Н40, (СзН60)т, Яз — Н, (СзН60)й Н, m, и, m>, п = 1,...75; С - 1...30;

20 R =. 1 или 2 (соответствует валентности R1) в качестве фотоинициатора — 1-хлорантрахинон или диметилбензилкеталь, в качестве термоингибитора — гидрохинон при следующем соотношении компонентов, мас.ч.;

25 Карбоксил содержащий сложный эфир целлюлозы 100

Эфир метакриловой кислоты

30 Пластификатор

Фотоинициатор

Термоингибитор

1693582 таблица 2

Характериста!на блок-согк1пинера формулы II

Соста пласт фикатора

Значение радикала

Значение коэффициента

RI н(сн ) соо

H(CH2)LСОО

Н (Снг)4 СОО но

I l5 75

9 1 I

75 25

35 : 75 50

1 75 25

8 2

Il

15 I

75 (с и, о),,н

Н (СОН,10),„,, Н

К н(сн ) о н(сн ) о

H(CHZg 0

ОС8Н60

ОСОН60 (c нно), н н

25 10

I 30 (c2HÄIo)I н к

10 2

19 17

75 1 35

35 (сгн о)!1,, н

l0 нэаест" нькй н(сн ) соо н 9 4

С2Н,,О таблица3

ОриакIp

Оокаэвтели качества Фотополинвриэуювихся пластин

à — -"-- — — -""---"- "--1

Удельное сопротивление печвта»инх элементов сдвигу, Кпа пост» хранения пластин в течение

Раэрешаквря способность, см, после хранения пластик

a в течение

Оптимальное время вымывания нин, tlIH:AB хранения пгастнн в течение

Оптимальное время экспонированию, мнн, после хранения пластин в течение

48 ч 3 нес 6 иес 12 нес 46 ч) 3 иес 6 иес 12 нес

3 нес 6 нес 12 нес

8 5 Заколи- !2 16 20 роака! 00 80. йв аыиы- 100 веется

29 30 33

Составитель Д. Пебалк

Тех ред М, Морг!Знтал Корректор Т. Колб

Редактор М. Бланар

Заказ 4077 T MlP33K Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открь)тилм при ГКНТ СССР

113О35, Москва, Ж-35, Раушскай наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

" .I ".-:1 "-::1-6 8 9 8

9 9 10 9

10 10 9 9

8, 8 7 7

l0 9 9 9

10 10 9 9

I0 10 9 8

1О l I 9 8

2

4

6 !

9 !

О

Оавест иый сно (с н„о)„, 1СЗН(10)гп сг"4(! (сбнно)„„ (C886O)H II

2 с2к,эб! с ндо (с и а ) 8 6 9

8 8 6

7 6

6 7 8

8 6 6

7 7 8 б 6 7

8 8 6

8 6

10 100

9 IDD

9 100

9 100

8 100

9 100

8 100

8 100

9 "100

8 l00

10D

100 l 00

100 (.

100 I 00

100 100 !

ОО 100

1D0 100

100 100

100 100

100 100

100 100

100 100

100 00

28

33

29

31

33

33.1

36 35

33 34

29 30

33 32

31 30

34 34

35 34

31 32

I...

34

33

* 32

33

30