Устройство для тонкой очистки водорода

 

l774l4

ОПИСАН ИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик 3.I;I. : l0II A 11

ПАТЕНТ!!аTEXHH×ÅCÈ!I

Ь1!.-ЛНОТЫЛ

Зависимое от авт. свидетельства U

Заявлено 11. I I l.1964 (№ 886394/23-26) Кл. 12i, 1 6 с присоеди33ение3и заявки № 1П1х С 01Ь

ЪДЬ, 66.067.23(088.8)

661.965 (088.8) Приоритет

Опубликовано 18.XII.1965. Бюллетень ¹ 1

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Дата онублик3ц3т333ия описания 8.II.3966

А. А. Родина, Н. И. Дороничева, H. С. Ильин и Е. П. Хромченко

Авторы изобретения

Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ТОНКОЙ ОЧИСТКИ ВОДОРОДА

Известны установки для тонкой очистки водорода путем фильтрации технического водорода через фильтрующие диафрагмы из металлов или сплавов, обладающих избирательной проницаемостью для водорода (палладий, никель, некоторые сплавы пялладия и др.). Фильтрующая диафрагма разделяет емкость, содержащую очищяемый тех33ический водород, от емкости, в которую поступает профильтрованный чистый водород. Герметизируют фильтрующую диафрагму свярКо и, ll 3 H K OH H JI H M eX 3 H 33 < I 9C H H AI з я ж и M O M .31 3.. rit,zy фланца м и.

В случае возникновения даже небольших неплотностей (течей) в месте герметизации фильтрующей диафрагмы часть техшгческого водорода с содержавшимися в 33ем примесяк333 непосредственно проникает и чистый водород и загрязняет его. Такая течь долгое время может оставаться незамече33ной из-зя отсутствия быстродействующих методоз непрерывного измерения содержя3и3я малого кол33чества примесей в водороде.

Предлагаемое устройство отличается от известных тем, что в нем фильтрующая диафрагма размещена в непрерывно откач33ваемой вакуумной камере таким образом, что место герметизации диафрагмы граничит с одной

Стороны с водородом (техническим или чистым), а с другой — с вакуумом. Таким образом, полность3о исключена возможность проникновения примесей, имеющихся в техниче5 ском водороде, в чистый водород даже в случае появления неплотностей (течей) в местах герметизации. Появление течей можно немедленно обнаружить по повышению давления в вакуумной камере.

Н;3 чертеже приведена схема предлагаемого устройства.

Фильтрующая диафрагма 1 H виде плоской тонкой фолы и зажата между плоским шли15 фовянным фланцем о и флянцем 3, который снабжен круговым зубом треугольного или полукруглого сечения. Технический водород подведен в пространство между фланцем 8 и диафрагмой 1 но трубке 4. Трубка 5 служит

20 для периодического отводя избытка загрязнений, накапливающихся перед диафрагмой по мере фильтрации. Диафрагма 1 лежит ня пластинке б нз мелкопористой металлокерямики, запрессованной во флапец 2. Чисть3й

25 водород, пройдя через диафрагму и пористую пластинку б, поступит в трубу 7. Камера о непрерывно откяч3 вяется механическим форвакуумным насосом через пятрубок 9.

В случае возникновения неплотности (течи)

i3 местях герметизации диафрагмы 1 техниче177414

Предмет изобретения ф

Составитель И. Поаячеико

Ре..з:.,тор Л. Герасимова Текреп А. А. Камышиикова Корректоры: T. Н. Костикова н О. Б. Тюрина

".«каз 3,16 Тираж 675 Формат бум. 60,:;90 -ji3 Объем 0,21 нзд. л. Подписное

Ц1-111ИП11 Комитета но делам изобретений и откръ3гнй при Совете Министров СССР

Москва, Центр, пр. Серова, л. 4

Типография, пр. Сапунова, 2 ский водород попадает в камеру 8, откуда откачивается, и поэтому о» ни при каких условиях не может попасть 13 зону чистого вотoрода.

Повышать производительность установок можно как увеличение.;I размеров отдельных фильтрующнх элементов, так и собиранием ряда таких элементов в общей вакуумной камере.

ОпнclJJJ1100 УстРойсг1!0 можно ПРи 11ен51ть 1.131 очистки водорода прн производстве полупроводниковы.; материалов, наполнении электровакуумн1.1х приборов и для других целей.

Устройство для тонкой очистки 13010p03

16 вакуумом.