Способ получения монокристаллических детекторов на основе фтористого лилия

 

СОЮЗ COBETСкИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУ6ЛИК (с))л С 30 В 11/02, 29/12

ГОСУДАРСТВЕ НЧЫй КОМИТЕТ

ПО ИЭО6РЕТЕНИЯМ и ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3394517/26 (22) 12.02.82 (46) 23.01.92. Бюл. (Ф 3 (71) Институт геохимии им. A,Ï.Bèíoãðàäoâà (72) А.И.Непомнящих и С.Н.Мироненко (53) 621.315.592(038,8) (56) 1. Авторское свидетельство СССР

A 361189, кл. С 09 К 1/00, 1970.

2. Патент Великобр тзнии

М 1059514, кл. С 09 К 1/06, 1967. (54)(57) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ДЕТЕКТОРОВ НА ССНОИзобретение относится к способам получения детекторов для термолюминесцентной дозиметрпии (ТЛД) ионизирующих излучений, как при индивидуальном контроле, так и при радиологических, экологических и других видах измерений.

Известен способ получения люминофора для ТЛД íà основе фтористого лития с добавками кальция (0,5-3,0 )ь) и марганца (0,015-0,3 ), заключающийся в выращивании монолитного цилиндра методом Стокбаргерв в инертной атмосфере (1).

Недостатком данного способа явля ются необходимость полировки и шлифовки детекторов после распиловки монолитного цилиндра для получения прозрачных поверхностей. Распиловка вызвана тем, что производится выращивание неориентированного кристалла и плоскости спайности не перпендикулярны его оси. Введение марганца и кальция в таких концентрациях увеличивает дополнительную погрешность.

Наиболее близким по своей технической сущности является способ, эаключаю. Ы 1707088 А1

BE ФТОРИСТОГО ЛИТИЯ путем их выр-.— щивания из расплава исходного материала с добавками фтористого магния в количестве 0,05-0,07 мас. g и окиси титана, о т л ич а ю шийся тем, что, с целью пег;ч= ния детекторов однородных по чувствительности и заданной конфигурации, добэв>;у окиси титана берут в количестве 0,0001--0,001 мас. и выращивание проводя; на з.-.узвару через размещенный над ней графитсвь:11 формообразователь. щийся в расплавлении и кристаг.;ивер в вакууме или 11нертной атмосфере ш .х-.ь, содержащей какие-либо злементь. Из де,, групп: магний, кальций, барий в кол.не - ве

0,004-0,04ф„титан, алюминий, еерспий ь количестве 0,002-0,006ф,, причем пр1. обязательном участии магния и титана. ме,одом Стокбаргера с последч;. Им приготовлением из выращенных к сне: р.1 сталлов порошковых, таблетировэ .ых и в редких случаях монокристаллическ ;к е-,екторов (21, Недостатками известного спосо э являются большая трудность получения монакристаллических детекторов с малым разбросом по чувствительности, в сэр -11 с чем для получения больших партг.i o„l îродных по чувствительности детекторов к1энокристаллический слиток дробя-. до порошкового состояния, тщательно перемешивают, затем используют либо в порошком состоянии, либо таблетируют. Но даже. при таком способе получения разброс;з чувствительности детекторов в партиях

170708<ч пературы <Т,, - те,лсгс)с узла Такое положение т«гля Обеспе«вает перемешивани ip«»lec)l в расплаве эа счет конвекции, 5 верхней част)л тигля над ших-,ой располагае.ся формообра ователь 4. Шихту расплавляют в инертно« атмосфере. Harpes производят со скоростью 80 град/мин до температуры в точке Тмакс, 950 C. После выдержки шихты в расплавленном состоянии в течение 60 мин в расплав погружают формообразователь 4 с отверстиями 5 диаметром 5 мм, После полного погружения формообразователя и заполнения отверстий формообразователя расплавом тигель кпмплскту)сщис измерительный прибор, вь сск и cocl. Ой термической обработки детектора для его повторного применения.

Келью изобретения является получения

МОНОКРИСтаЛЛИчЕСКИХ ДЕтЕКтОПОВ ОДНОРОДных по чувствительности, заданной конфигурации.

Поставленная цель достигается тем, что в способе получения монокристаллических детекторов на основе фтористого лития, путем выращивания иэ расплава исходного материала с добавками фтористого магния в количестве 0.05-0,07 мас, и окиси титана, добавку окиси титана берут в количестве

0,0001-0,001 мас.ф и выращивание проводят на затравку через размещенный над ней

f раф«товый формообразователь.

Направленная кристаллизация фтористсго лития с указанными концентрациями фтор«стого»лагния и окиси титана в присут«и фсрмообразсвателя на затравочный

Кр«СтаЛЛ ПСЭВСЛЯЕт ПОЛ ч«-Ь Ср«Е«т«рсеаНные однородные по чувствительности мснокристаллические стержни, заданного фпр»лссбразсвателе>л проф«ля благ" даря тс». у, что кристаллизация расплзэа в отв) р.т«ях фпр»лссбраэсвателя oo«One ) сниэ .ть долю переноса при. ° еси з::. счет :с> ге цl и приводит лишь к д))ффузисни;:пцгссэ . ра:",педеэсния пси»л=си, а с-.i) с o;,- ",пс"- )- -<е гр«вод. K "л»с«,) > -,ацип)<чо>л, .-.Ервплг а,"e»<«»O, ". другой стп сны огран; ч«вает процессы диффуэисннси агрегации в кристалле, что способствует nof.. u÷å Н«>о Однсрод»ых по .<у вствительности»л;-.Окристаллических стержнеи и детекторов и них, не ну »да»сщихся в специальной термической обработкв дЛЯ ПОВтОрНОГО ПрИ»ЛЕНЕНИя.

На фиг.1 изображено распределение

>.".ературы в тепловом узле на альнсе

);лг):.ение тигля с затравочным кр«сталлсм

-, эущен»ым в расплав формообраэовате;е> а т «>.2 — кр вэя тег)»1свысвечивания де. ек.оса.

Пример . Ш«хту, состоящую из фтпр«стого ли «я с добавками фтор«стого

». агн<1я 0,05 и окиси ти-.ана 0,0003,ь, пс»1ещают в графитовый тигель 1 (фиг.11, в конуснсй части которого установлен эатра5

10 со скоростью 5 мм/ч опускают через зону кристаллизации с градиентом те»лпературы

40;рад/см. При прохождении расплава через зону кристаллизации на затравочном кристалле фор <«руется монскристалл с заданной ор«ентац«ей, который переоначаль15

20 нс заполняет прсстпанствс конусной части, а затем О-верст«я фср»лссбразсвателя. При пслнсм г,р. Ожде»<ии части тигля, занятой пасплавсм, через зону кристаллизации т«I Еflь OXË2:+ Д ) )ÇÒ С ПPOИЭВС 1 ЬMOÉ СКОPOÑTÜЮ до комнат«о те»лпературы «гь;нимают из

25 те-л..» о -., а. Еыпащеннь)> монс).o«c afl))ичес ие ст< р.; .. извлекают из т«гля) и фп„>«OG ПЗЗСГэЭЕЛЯ И ИЗ ИИХ ><О ПЛОСКОСТЯ>Л спаи :.Gг с с„"мссг:„"=зователя с

„.. а iеть о»в.пс";1й 5 >л»л весдятс формосбраэсвател«с диаметром Отверст«й 3, 10

15 и - 0»- .

Результаты «з>лерений чувствительности детекторов полученных в каждом приме ре, с ведем ы е -,аблице.

Увеличение диа»летра отверстий в формообраэсвателе выше 10 мм. привод т к увел«чени)с раэбрс а чувстви»ельност l пслученнь)х детекторов.

Разброс чувствительности между детектОРаМИ, ПОЛУчЕНчЫМИ Из РаэЛИЧНЫХ ПРОЦЕС4 /

45 сов выращ«аан«я с диаметрами отверстий в фпр»лообразс ате le 5 и 10 мм, не превышает + 20;

Вь)деo»K а ра плавленной шихты до погружения в нее формосбраэователя менее

30 м«н пр«водит к неоднородности чувствительности монокристэллических стержней, а выдержка более 120 мин приводит к сни50

55 вочный кристалл 2, ориентированный по осям 100. Тигель усTàHàâëllвают в тепловой узел ростовой установки, имеющий осевое распределение 3 температуры,так«м образс»1, чтобы расплавлялась верхняя часть зажению чувствительности. уменьшение концентрац«и ок)1си титана ниже 0.0001; » приводит к неоднородности чувствительнотравочного кристалла, а конусная часть сти монокристаллических стержней, увели-«lлЯ находилась в:сне максимальной тем- чение концентрации выше 0,001 (, приводит к необходимости применения специальной термической обработки, полученных из стержней детекторов для их повторного применения.

Использование предлагаемого способа получения монокристаллических детекторов для термолюминесцентной дозиметрии по сравнению с существующими обеспечивает возможность комплектации измерительных пультов монокристаллическими детекторами стандартной чувствительности, что позволяет снимать дозиметрическую информацию, полученную детектором на различных измерительных пультах. Кроме того, благодаря снижению разброса чувствительности в партиях детекторов комплектующих измерительный пульт, уменьшается погрешность снятия дозиметрической информации, а также благодаря малому

5 раэбросу чувствительности получаемых детекторов уменьшается количество д те оров, уходящих в брак, и повышаетс я эффективность производства, Указанные преимущества способстау10 ют широкому внедрению монокристаллических детекторов в дозиметр четкую практику. Применение монокристалли в.ских детекторов вносит свои преимущества в частности появляется возможность из IQ15 рять дозы на уровне фона (eHee 10 рэд .

1707088

3,Опт.Ед

2й1

Редактор И.Дербак Техред М.Моргентал Корректор Н Король

Заказ 242 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент . г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Способ получения монокристаллических детекторов на основе фтористого лилия Способ получения монокристаллических детекторов на основе фтористого лилия Способ получения монокристаллических детекторов на основе фтористого лилия Способ получения монокристаллических детекторов на основе фтористого лилия 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области получения щелочно-галоидных кристаллов высокой степени чистоты, широко используемых в фундаментальных исследованиях в качестве термолюминесцентных дозиметров ядерных излучений, лазерных сред, сред для записи информации

Изобретение относится к физике твердого тела, геофизике и геохимии и может быть использовано для облагораживания кристаллов природного флюорита с последующим их использованием в гравильноювелирной и ювелирно-декоративной промышленности, а также в качестве фильтров в оптике

Изобретение относится к химии и касается способа получения просветляющих фторидных покрытий, имеющих чрезвычайно высокую границу прозрачности, что позволяет их использовать в оптических приборах одновременно в УФ- и ИК-областях, обеспечивает улучшение качества покрытий и увеличение скорости процесса

Изобретение относится к способам спонтанного получения мелкокристаллического монойодида меди и может быть использовано в различных областях неорганической химии, например как исходное сырье для создания композиционных материалов, в состав которых входил бы Cul, в акустооптике, пьезотехнике, в лазерной и сверхпроводниковой технике

Изобретение относится к электронной технике и позволяет улучшить оптическое качество кристаллов, увеличить производительность и повысить выход годных элементов

Изобретение относится к области выращивания кристаллов, конкретно щелочногалоидных кристаллов йодистого цезия, и позволяет уменьшить пластичность кристаллов

Изобретение относится к технологии получения кристаллического , который может быть использован в неорганической химии, акустооптике , пьезотехнике

Изобретение относится к сцинтилляционному материалу на основе монокристалла Csl и позволяет расширить диапазон регистрируемых излучении, температурный интервал использования и повысить световой выход Материал содержит CsCO при следующем соотношении компонентов, мас.%: CsC03 i.6«10 2M8 10 2); Csl остальное

Изобретение относится к получению кристаллов и позволяет ускорить процесс

Изобретение относится к литейному производству, преимущественно к технологии получении заготовок из магнитных сплавов с монокристаллической структурой, и позволяет улучшить качество монокристаллов и повысить магнитные параметры

Изобретение относится к электронной технике и позволяет расширить спектральный диапазон пропускания амплитудных фильтров в ближнюю инфракрасную область спектра и сократить толщину фильтра за счет увеличения коэффициента поглощения на краях в видимой области спектра

Изобретение относится к технологии выращивания монокристаллов и позволяет получать ориентированные кристаллы цепочной или слоистой структуры с низкой степенью деформации

Изобретение относится к получению кристаллов и позволяет ускорить процесс

Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано в химической промышленности

Изобретение относится к способу получения монокристаллов сплавов на основе меди, железа и никеля и позволяет повысить выход годных монокристаллов

Изобретение относится к способу получения монокристаллов германата висмута со структурой эвлитина и позволяет сократить длительность процесса и уменьшить загрязнение расплава и кристаллов и коррозию тигля

Изобретение относится к способу выращивания монокристаллов тугоплавких окислов, позволяет повысить их качество и исключить карбидизацию контейнера

Изобретение относится к получению сложных полупроводниковых соединений типа A3B5 и A4B6
Наверх