Устройство для вакуумной обработки электровакуумного прибора

 

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при производстве фотоэлектронных умножителей (ФЭУ). Целью изобретения является проведение плазменной очистки ФЭУ, повышающей качество обработки. Устройство для вакуумной обработки ФЭУ содержит гнездо для размещения ФЭУ, снабженное узлом для электрического соединения с выводами ФЭУ, средства откачки и напуска газа и генератор ВЧ - колебаний, установленный с возможностью создания в ФЭУ ВЧ - разряда. Новым является то, что узел для электрического соединения с выводами ФЭУ выполнен в виде контактного элемента 6, установленного с возможностью соединения с выводом 3 фотокатода и упругой металлической скобой 7, установленной с возможностью соединения с выводами 4 динодов, выполненной в виде части фигуры, боковая поверхность которой образована концентрическими цилиндрами, при этом высокочастотный вывод генератора 8 соединен с контактным элементом 6, а нулевой выход генератора 8 соединен с металлической скобой 7. 2 ил.

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при производстве фотоэлектронных умножителей (ФЭУ). Известно устройство вакуумной обработки ЭВП, содержащее откачной пост и гребенку с напаянными приборами 1. Известное устройство не позволяет полностью удалять все виды загрязнений внутренних поверхностей прибора, а следовательно имеет место невысокое качество обработки. Известно также устройство для вакуумной обработки ЭВП, содержащее откачное гнездо для размещения ЭВП, снабженное узлом для электрического соединения с выводами ЭВП, средствами откачки и напуска газа, генератора ВЧ-колебаний и индуктор, соединенный с высокочастотным генератором. Недостатком известного устройства является невозможность его использования для проведения плазменной очистки ФЭУ, повышающей качество обработки, так как расположение индуктора на колбе ФЭУ не имеет смысла из-за алюминированного покрытия боковой поверхности колбы, которое будет экранировать поле индуктора. Цель изобретения проведение плазменной очистки ФЭУ, повышающей качество обработки. Поставленная цель достигается тем, что в устройстве вакуумной обработки узел для электрического соединения с выводами ЭВП выполнен в виде контактного элемента, установленного с возможностью соединения с выводом фотокатода и упругой металлической скобой, установленной с возможностью соединения с выводами динодов, выполненной в виде части фигуры, боковая поверхность которой образована концентрическими цилиндрами, при этом высокочастотный вывод генератора соединен с контактным элементом, а нулевой выход генератора соединен с металлической скобой. На фиг. 1 схематично изображено предлагаемое устройство для вакуумной обработки ФЭУ: на фиг. 2 узел для электрического соединения с выводами ФЭУ в виде контактного элемента и упругой металлической скобы, выполненной в виде части фигуры, боковая поверхность которой образована концентрическими цилиндрами. Устройство для вакуумной обработки ФЭУ содержит колбу ФЭУ 1 с фотокатодом 2 и его выводом 3 динодами 4 с выводами 5, узел для электрического соединения с выводами 5 ФЭУ в виде контактного элемента 6 и металлической упругой скобы 7, высокочастотный генератор 8, устройство откачки 9, устройство для впуска газа 10, откачное гнездо 11, контактный элемент 6 установлен с возможностью соединения с выводом 3 фотокатода 2. Упругая металлическая скоба 7 выполнена в виде части фигуры, боковая поверхность которой образована концентрическими цилиндрами, размеры которой ограничены размерами и количеством выводом 5 динодов 4, и надеты на выводы 5 динодов 4. Размеры скобы можно рассчитать по формуле l l_д.ш.+ ⊘ + 2d+R -1 где l длина скобы d толщина материала, ⊘ диаметр штырька (вывода), l_д.ш. длина занимаемых штырьков, R радиус скобы. Высокочастотный генератор 8 подключен высокочастотным выводом к контактному элементу 6, а заземленным выводом к металлической упругой скобе 7, расположенным в откачном гнезде 11. Частота генератора 13,56 ± 1% 30 МГц. Предлагаемое устройство вакуумной обработки ФЭУ работает следующим образом. Колба ФЭУ 1 откачивается устройством откачки 9 до 13,3 Па. Включается высокочастотный генератор 9, при этом на контактное устройство 6, надетое на вывод 3 фотокатода 2, подается высокочастотное напряжение, а на упругую металлическую скобу 7, надетую на выводы 5 динодов 4, подается нулевой потенциал. Между фотокатодом 2 и динодами 4 формируется высокочастотный емкостный разряд и осуществляется плазменная очистка узлов и деталей ФЭУ. Внутренняя поверхность, арматура подвергается бомбардировке потоком ионов остаточных газов, механически сбивающим загрязнения или химически связывающим их, образуя летучие соединения. Для удаления их из внутреннего объема прибора необходимо, чтобы откачка велась непрерывно. Использование предлагаемого устройства вакуумной обработки позволяет осуществлять очистку ФЭУ, повышающую качество обработки. Чистота поверхностей, как металлических, так и стеклянных, при использовании предлагаемого устройства составляет 0,02-0,05 мкГ/см² при исходном состоянии 0,2-0,3 мкГ/см².

Формула изобретения

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОВАКУУМНОГО ПРИБОРА, содержащее гнездо для размещения прибора, снабженное узлом для электрического соединения с выводами прибора, средства откачки и напуска газа и генератор ВЧ-колебаний, установленный с возможностью создания в приборе ВЧ-разряда, отличающееся тем, что, с целью повышения качества при обработке фотоэлектронного умножителя, узел для электрического соединения с выводами выполнен в виде контактного элемента, установленного с возможностью соединения с выводом фотокатода фотоэлектронного умножителя и упругой металлической скобой, установленной с возможностью соединения с выводами диодов, выполненной в виде части фигуры, боковая поверхность которой образована концентрическими цилиндрами, при этом высокочастотный вывод генератора соединен с контактным элементом, а нулевой выход генератора соединен с металлической скобой.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 10-2002

Извещение опубликовано: 10.04.2002        

---