Способ получения полиимидно-фторопластовой пленки

 

Использование: изобретение относится к технологии производства дублированных пленок и может быть использовано в химической промышленности при производстве полиимидно-фторопластовых материалов. Сущность: предлагаемый способ получения полиимидно-фторопластовой пленки предполагает нанесение на полиимидную пленку водной суспензии сополимера политетрафторэтилена и гексафторпропилена путем напыления через плоско-щелевое сопло в плоскости пленки при подаче на боковую поверхность концентратора, колеблемого с частотой 18-100 кГц с расстояния 5-40 мм с последующей сушкой и оплавлением полученного слоя. 3 табл.

Изобретение относится к технологии производства дублированных пленок и может быть использовано в химической промышленности при производстве полиимидо-фторопластовой пленки.

Известен способ получения полиимидо-фторопластовой пленки, согласно которому покрывают полиимидную пленку водной дисперсией сополимера тетрафторэтилена с гексафторпропиленом (ТФЭ и ГФП). Покрытую пленку нагревают при 340-435^оС /1/.

Недостатками этого способа являются низкое качество поверхности пленки, низкая адгезионная прочность, а также низкая производительность, связанная со способом нанесения суспензии, лимитирующим протяжку пленки-основы.

Целью изобретения является повышение производительности.

Указанная цель достигается тем, что в способе получения полиимидо-фторопластовой пленки, включающем нанесение на ПМ-пленку водной суспензии сополимера тетрафторэтилена с гексафторпропиленом с последующей сушкой и оплавлением.

Согласно изобретению, нанесение водной суспензии осуществляют напылением через плоско-щелевое сопло в плоскости, перпендикулярной поверхности пленки, при подаче на боковую поверхность концентратора, колеблемого с частотой 18-100 кГц с расстояния 5-40 мм.

Это позволит увеличить скорость протяжки пленки, исключив образование потеков.

Способ реализуется следующим образом.

Водную суспензию сополимера ТФЭ с ГФП напыляют на ПМ-пленку через плоско-щелевое сопло с расстояния 5-40 мм в плоскости, перпендикулярной поверхности пленки, при подаче на боковую поверхность концентратора, колеблемого с частотой 18-100 кГц, с торца которого происходит распыление.

Увеличение расстояния напыления свыше 40 мм приводит к испарению части влаги, что ухудшает адгезионную прочность пленки и увеличивает расход суспензии. Уменьшение расстояния напыления меньше 5 мм приводит к попаданию на пленку-основу капель, размер которых приводит к образованию потеков.

Отклонение угла напыления от прямого в сторону движения пленки приводит к образованию потеков, а против движения пленки к ухудшению адгезионной прочности за счет попадания на поверхность пленки-основы предварительно крупных капель, или суспензии с пониженным содержанием влаги соответственно.

При частоте колебаний концентратора ниже 18 кГц разброс дисперсности капель возрастает до степени, когда неизбежно на поверхность пленки-основы попадают капли с размером, приводящим к образованию потеков. При частоте колебаний концентратора выше 100 кГц амплитуда его колебаний падает до значения, когда вязкость суспензии не позволяет получить ее стабильного диспергирования.

Распыление суспензии при подаче сразу на торцовую поверхность концентратора приводит к ее сливу без диспергирования при падении напора подачи суспензии, что снижает надежность способа.

Распыление суспензии при соблюдении всех перечисленных выше оптимальных параметрах позволяет повысить скорость протяжки пленки основы до 2,0 м/мин, что повышает производительность по сравнению со способом-прототипом приблизительно на 5% что происходит за счет дегазации суспензии при ультразвуковом распылении и отсутствия ее вспенивания при любом расходе.

Данные опытной проверки подбора параметров способа приведены в табл.1-3.

Формула изобретения

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛИИМИДНО-ФТОРОПЛАСТОВОЙ ПЛЕНКИ, включающий нанесение на полиимидную пленку водной суспензии сополимера политетрафторэтилена и гексафторпропилена с последующими сушкой и оплавлением полученного слоя, отличающийся тем, что нанесение водной суспензии осуществляют напылением через плоскощелевое сопло в плоскости, перпендикулярной поверхности пленки при подаче на боковую поверхность концентратора, колеблемого с частотой 18 100 кГц с расстояния 5 40 мм.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2