Способ изготовления активных лазерных элементов из монокристаллов алюмината иттрия

 

Использование: квантовая электроника, а именно твердотельные лазеры на моноалюминате иттрия, активированного неодимом. Сущность изобретения: способ включает нагрев, отжиг и охлаждение заготовок активных элементов в среде водорода. Отжиг осуществляют при 1175 1225°С в течение 24 30 ч, причем нагрев до заданной температуры и последующее охлаждение заготовок проводят со скоростью 75 125°С/ч. 1 табл.

Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к твердотельным лазерам на моноалюминате иттрия, активированного неодимом, используемым в системах измерения расстояния до спутников, лазерных дальномерах.

В современных твердотельных лазерах применяют активные элементы (АЭ) из кристаллов алюмината иттрия, активированного неодимом.

Серьезную проблему при изготовлении АЭ и излучателей на их основе представляет образование центров окраски, ухудшающих люминесцентные свойства материалов, в результате чего процент выхода годных АЭ уменьшается на 25% сокращается срок службы излучателей.

Центры окраски появляются как в процессе изготовления АЭ в результате окислительных процессов, так и при эксплуатации под действием ультрафиолетового излучения (далее УФ-излучения), входящего в состав спектра световой энергии накачки.

Известны способы, позволяющие уменьшить или исключить центры окраски. Способ, описанный в [1] направлен на повышение светоизлучательных свойств АЭ путем дополнительного отжига заготовок АЭ (после выращивания кристаллов) в восстановительной атмосфере, во время которой температура АЭ (или заготовки) может меняться или быть постоянной.

Однако без уточнения температуры отжига и скорости нагрева и охлаждения заготовок АЭ не всегда можно получить качественный АЭ.

Так известно, что соединение УАlO3 (алюмината иттрия) имеет температурную фазовую неустойчивость. Например, при температурах 1300-1400оС образуется соединение Y2Al5O12 (алюмоиттриевый гранат). При Т 1400оС АИГ +Х фаза; при Т 1700оС Y4Al2O9 и Y5Al5O12.

Скорость подъема и снижения температуры играет существенную роль, так как градиент термического расширения по осям а, в и с кристаллической решетки алюмината иттрия имеет существенные различия: по оси а 9,5.10-6 град. b 4,3-10-6 град. с 10,8.10-6 град. Поэтому быстрое изменение температуры может привести к термическим напряжениям (искажению кристаллической решетки), что приводит к ухудшению светоизлучательных свойств.

Известен способ изготовления активных элементов алюмината иттрия, активированного неодимом [2] Для фильтрации УФ-излучения на поверхность АЭ наносится слой, содержащий ионы железа. Слой формируют с использованием отжига АЭ в среде азота и водорода при 1200-1400оС в течение 2-50 ч.

Однако такой способ изготовления АЭ требует дополнительной операции (нанесения на поверхность АЭ фильтрующего слоя) и не учитывает скорости нагрева и охлаждения АЭ, что существенно влияет на качество АЭ.

Технической задачей изобретения является улучшение светоизлучательных свойств АЭ из монокристалла алюмината иттрия, активированного неодимом, и связанное с ним увеличение процента выхода годных АЭ и их долговечности.

Техническая задача достигается тем, что в способе изготовления АЭ алюмината иттрия вместо процесса формирования фильтрующего ультрафиолетовое излучение слоя проводится отжиг обычных заготовок АЭ в среде водорода, при этом вводится значение скорости подъема и снижения температуры 75-125оС, а время отжига устанавливается 24-30 ч. Принципиальное отличие предлагаемого способа изготовления АЭ из моноалюмината иттрия от используемого в настоящее время способа заключается в том, что повышение светоизлучательных свойств АЭ и его долговечности происходит не путем отфильтрования коротковолнового излучения, действующего на АЭ в процессе эксплуатации, а созданием в кристаллической решетке АЭ "+" центров (путем отжига заготовок АЭ в среде водорода), обеспечивающих устойчивость материала АЭ к окислительным процессам как в процессе производства, так и под действием ультрафиолетового излучения в процессе его эксплуатации.

Предложенные режимы отжига заготовок АЭ обеспечивают фазовую устойчивость состояния материала АЭ и исключают термические перенапряжения кристаллической решетки, в результате чего значительно повышается долговечность АЭ и выход годных при их производстве.

П р и м е р (конкретного выполнения). Отжиг заготовок АЭ в среде водорода проводился при различных режимах: температуру выдержки меняли от 1100 до 1400оС с интервалом 50оС. Скорость снижения и подъема температуры меняли с 50оС/ч до 400оС/ч с интервалом в 50оС/ч. Время отжига от 2 до 40 ч. Наилучшие результаты получили при следующих режимах: температура выдержки 1200оС, а конкретно 1175-1225оС при температурах ниже 1175оС отжиг до конца не проходил, так как наблюдалось на АЭ в процессе эксплуатации появление центров окраски, хотя и в малом количестве, при Т выше 1225оС выходная энергия излучения несколько снижалась из-за появления фазы Y3Al5O12.

Оптимальной скоростью снижения и подъема температуры определена 75-125оС. При более низких скоростях увеличивается трудоемкость изготовления, при высоких скоростях наблюдалось снижение выходной энергии излучения, что можно объяснить появлением термических напряжений в АЭ. Оптимальное время отжига 24-30 ч. Результаты отжигов АЭ по известному и предлагаемому методу сведены в таблицу.

Предлагаемый способ изготовления АЭ из монокристаллов алюмината иттрия по сравнению с существующими способами увеличивает процент выхода годных АЭ на 20% и долговечность АЭ в 8 раз.

Формула изобретения

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ АКТИВНЫХ ЛАЗЕРНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ИЗ МОНОКРИСТАЛЛОВ АЛЮМИНАТА ИТТРИЯ, активированного неофимом, включающий нагрев, отжиг и охлаждение заготовок активных элементов в среде водорода, отличающийся тем, что отжиг осуществляют при 1175 1225oС в течение 24 30 ч, причем нагрев до заданной температуры и последующее охлаждение заготовок проводят со скоростью 75 125oС/ч.

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к получению монокристаллов для лазерной техники

Изобретение относится к квантовой электронике, в частности к твердотельным лазерам, и может быть использовано в медицине, связи, научных исследованиях

Изобретение относится к области квантовой электроники и может быть использовано в твердотельных лазерах с модуляцией добротности и диапазона длин волн 1,3-3 мкм

Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано в твердотельных лазерах

Изобретение относится к области квантовой электроники, в частности к твердотельным активным материалам и пассивным модуляторам добротности резонаторов лазеров

Изобретение относится к квантовой электронике и, в частности, к твердотельным лазерам

Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к способам получения НЗ-центров окраски

Изобретение относится к материалам твердотельных лазеров

Изобретение относится к области квантовой электроники, а именно к конструкции активного элемента лазера, и может быть использовано при создании лазеров на красителях в твердой матрице

Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к материалам для лазерной техники и предназначено для применения в твердотельных лазерах с длиной волны стимулированного излучения в интервале от 1,9 мкм до 2,0 мкм

Изобретение относится к области оптоэлектроники и интегральной оптики, в частности к способу получения направленного когерентного излучения света устройствами микронного размера

Изобретение относится к области лазерной техники и промышленно применимо в перестраиваемых лазерах для целей волоконно-оптической связи и спектроскопии

Изобретение относится к оптической схеме для ослабления оптического шума

Изобретение относится к области лазерной техники и более конкретно - к лазерным медицинским инструментам для стоматологических, дерматологических, оторинологических применений, в том числе с использованием эндоскопов
Изобретение относится к получению нового сложного оксида на основе иттрия и алюминия, являющегося перспективным материалом для оптоэлектроники

Изобретение относится к материалам для лазерной техники, а именно к монокристаллическим материалам, предназначенным для получения активных элементов твердотельных лазеров
Наверх