Способ измерения деформации периодически модулированной поверхности кристаллической структуры

 

Использование: изучение процессов формирования слабых искажений кристаллической структуры поверхностных слоев. Сущность изобретения: измеряют угловую зависимость дифрагированной волны от монокристаллического образца с периодическими нарушениями поверхностного слоя на двухкристальном рентгеновском дифракторе , у которого отношение размера f фокуса источника к расстоянию от источника до образца R отвечает условию f/R меньше лямбда/2а Sin(тета b), где а - период структуры, тета b - точный Брэгговский угол, лямбда - длина волны излучения. Деформацию поверхности определяют по интенсивности полученных сателлитных пиков. 3 ил.

Изобретение относится к области исследования поверхности твердых тел, в частности изучения искажений кристаллической структуры поверхностных слоев твердых тел.

Известен способ измерения деформации кристаллической структуры поверхностного слоя твердых тел, включающий определение углового распределения интенсивности рентгеновской волны, дифрагированной исследуемым кристаллом, помещенным в точное брэгговское положение или отклоненным от него на фиксированный угол [1] Недостатком данного способа является невысокая чувствительность к величине относительного изменения параметра решетки кристалла.

Известен принимаемый нами за прототип [2] способ измерения деформации кристаллической структуры поверхностного слоя твердых тел, включающий определение угловой зависимости дифрагированной волны многокристальным рентгеновским дифрактометром и определение деформации по интенсивности сателлитных пиков.

Недостатком данного способа является сложность подготовки и юстировки многокристального рентгеновского дифрактометра, в связи с чем измерение угловой зависимости дифрагированной волны превращается в громоздкий и длительный процесс, требующий высокой квалификации оператора, работающего на нем, что в свою очередь влияет на чувствительность метода.

Предлагаемое изобретение позволяет решить задачу упрощения процесса измерений и сокращения времени определения в несколько раз при сохранении высокой чувствительности измерений.

Это достигается тем, что в способе измерения деформации кристаллической структуры поверхностного слоя твердых тел, включающем измерение угловой зависимости дифрагированной волны рентгеновским дифрактометром и определение деформации по интенсивности сателлитных пиков, новым является то, что измерения проводят на двухкристальном дифрактометре с острофокусным источником, причем образец помещают на расстояние от источника, определяемое по формуле f/R</2asinв, (1) где R расстояние от источника до образца, f размер фокуса источника, а период структуры, в точный брэгговский угол, - длина волны излучения.

Измерение угловой зависимости дифрагированной волны на двухкристальном дифрактометре с острофокусным источником позволяет значительно упростить процесс подготовки прибора к измерениям и сами измерения. В предлагаемом способе не требуется использование монохроматора, который необходим в способе-прототипе и, таким образом, меньшая зависимость измерений от квалификации работающего. Расстояние от источника до образца определяют по формуле, полученной нами эмпирическим путем.

На рисунке 1 приведена схема эксперимента, на рисунках 2 и 3 приведены экспериментальные спектры, полученные в примерах 1 и 2 соответственно.

Пример 1. В качестве объекта исследований была взята подложка кремния КЭФ-5 ориентации 111 с периодической оксидной маской с толщиной оксида 0,5 мкм. Измерения проводились на двухкристальном гониометре УРТ поочередно с двумя рентгеновскими трубками в качестве источника: БСВ-ЗЗ (f=10 мкм) и БСВ-24 (f= 160 мкм) с медными анодами (длина волны ). Расстояние кристалл источник R=1 м. Регистрация дифрагированной интенсивности велась с помощью детектора БДС-6-05 и радиометра БР-1. На фиг.2 приведены экспериментальные кривые отражения в случае БСВ-25 (а) и БСВ-24 (б). Очевидно, что в случае (а) условие (1) выполнялось и сателлитная структура разрешалась. Компьютерная обработка спектров дала величину градиента деформаций под краем полоски оксида g=200.8 мкм-1, максимальная деформация d/d = 4,50,210-4 Пример 2. В качестве объекта исследований была взята подложка кремния КЭФ-5 ориентации 111 с имплантированными через периодическую маску ионами Ne+, энергией 300 кэВ, дозой 71013 см-2. Измерения проводились на двухкристальном гониометре ДТС поочередно с двумя рентгеновскими трубками в качестве источника: БСВ-25 (f= 10 мкм) и БСВ-24 (f=160 мкм) с медными анодами (длина волны ). Расстояние кристалл источник R=1 м. Регистрация дифрагированной интенсивности велась с помощью детектора БДС-6-05 и радиометра БР-1. На фиг. 3 приведены экспериментальные кривые отражения в случае БСВ-25 (а) и БСВ-24 (б). Очевидно, что в случае (а) условие (1) выполнялось и сателлитная структура разрешалась. Компьютерная обработка спектров дала величину градиента деформаций под краем маски g=l,70,2 мкм-1, максимальная деформация d/d = 3,20,1510-4.

Формула изобретения

Способ измерения деформации периодически модулированной поверхности кристаллической структуры, включающий измерение угловой зависимости интенсивности дифрагированной волны рентгеновским дифрактометром и определение деформации по интенсивности сателлитных пиков, отличающийся тем, что измерение проводят на двухкристальном дифрактометре, у которого

где R расстояние от источника до образца;
f размер фокуса источника;
a период структуры;
точный Брэгговский угол;
- длина волны излучения.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к рентгеноструктурному анализу металлов и сплавов, а именно к исследованию термически активируемых процессов, в частности, первичной рекристаллизации

Изобретение относится к технической физике, в частности к исследованию кристаллической структуры с помощью дифракции нейтронов материалов, находящихся в условиях всестороннего сжатия

Изобретение относится к рентгеноструктурному анализу, в частности к анализу сложных структур с большими параметрами элементарной ячейки, в особенности объектов биологического происхождения

Изобретение относится к научному приборостроению, позволяет регулировать радиус кривизны изогнутого кристалла в рентгеновских приборах и может быть использовано для прецизионных исследований в рентгеновской оптике

Изобретение относится к рентгенографическому контролю качества металлопродукции и может быть использовано при контроле процесса термодиффузионного латунирования стальной проволоки для корда автомобильных шин и канатов

Изобретение относится к технологии выращивания тонких пленок и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) для контроля скорости роста полупроводниковых пленок

Изобретение относится к области рентгеноструктурного анализа и может быть использовано для исследований текстуры металлов и сплавов

Изобретение относится к рбласти рентгеноструктурных исследований материалов, а более конкретно - к способам определения напряжений в поверхностных зонах изделий или образцов из кристаллических или частично кристаллических материалов

Изобретение относится к области медицины, а именно к гемостазиологическим аспектам акушерства и гинекологии, и может быть использовано врачами других специальностей

Изобретение относится к области ядерной энергетики для космических аппаратов и, в частности, к теневым радиационным защитам (РЗ), выполненным из гидрида лития, и касается технологии изготовления в части проведения контроля их геометрии, определяющей контур теневой защищаемой зоны, создаваемой защитой на космическом аппарате

Изобретение относится к технике рентгеноструктурного анализа и касается методов настройки и юстировки гониометрических устройств рентгеновских дифрактометров типа "ДРОН"

Изобретение относится к технологии анализа биологических материалов, а именно к способам определения фракционного состава (ФС) липопротеинов (ЛП) в плазме крови методом малоуглового рентгеновского рассеяния (МУРР) для последующей диагностики состояния организма человека

Изобретение относится к устройствам для рентгеновской типографии и может быть использовано для определения структуры сложного неоднородного объекта и идентификации веществ, его составляющих

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для оценки качества деталей при их изготовлении и ремонте, а конкретно - дефектоскопии с использованием радиоактивных источников ионизирующего излучения и коллимированных блоков детекторов
Наверх