Зеркальная приставка к спектрометрам

 

О П И С А Н И Е 2И82О

ИЗОБГЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ.-;"осоюзиарт ,т ио-техии тйсЛы .

;-: .":и е iек + A

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 10.XII.1966 (¹ 1117772j26-25) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 14.VI,1968. Бюллетень № 19

Дата опубликования описания 26.IX.1968

Кл. 42Ii, 20/01

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

МПК G 02d

i ÄÊ 535.853.6(088.8) Авторы изобретения

М. В. Лобачев и М. Н. Сокольский

Заявитель

Ленинградское оптико-механическое объединение

ЗЕРКАЛЬНАЯ ПРИСТАВКА К СПЕКТРОМЕТРАМ

Известная зеркальная приставка состоит из столика для образцов, двух плоских и нескольких вогнутых зеркал.

Предложенная приставка отличается от известной тем, что на одной оптической оси со столиком для образцов расположены два плоских зеркала, одно из которых установлено на входе приставки и направляет падающий световой поток на вогнутое зеркало, другое установлено на выходе, выполнено поворотным и направляет световой поток к приемнику излучения, а вогнутые зеркала расположены симметрично относительно оптической оси устройства и столика для образцов.

Зта приставка позволяет устанавливать зеркальную приставку в кюветную часть однои двухлучевых спектрометров и служит для исследования образцов на пропускание и отражение, а также для измерения абсолютного коэффициента отражения и коэффициента пропускания образцов переменной толщины.

Предложенная оптическая схема зеркальной приставки представлена на чертеже.

Изображение источника радиации спектромет ра проектируется плоским 1 и вогнутым 2 зеркалами вблизи столика 8 для образцов и далее вогнутым 4 и плоским 5 зеркалами направляется в плоскость а — а приемного устройства, которая в двухлучевых спектрометрах может являться плоскостью фотометрических гребенок, а в однолучевых — плоскостью входной щели монохроматора.

Вогнутые зеркала 2 и 4 могут быть выполнены как сферическими, так и торическими.

Плоское зеркало 5 выполнено поворотным.

При измерении коэффициента пропускания на столик для образца устанавливается кювета с исследуемой жидкостью или твевдое тело. Изображение источника радиации проек10 тируется плоским зеркалом 1, вогнутым зеркалом 2 вблизи столика с образцом и далее зеркалами б и 5 направляется на приемное устройство. Малые размеры приставки позволяют применять ее в одно- и двухлучевых

15 приборах. В этом случае в каждый канал (для образца и эталона) устанавливается по приставке.

20 Предмет изобретения

Зеркальная приставка к спектрометрам, содержащая столик для образцов, плоские и вогнутые зеркала, отличающаяся тем, что, с

25 целью измерения коэффициента отражения и коэффициента пропускания образцов переменной толщины, на одной оптической оси со сголиком для образцов расположены два плоских зеркала, одно из которых установлено

30 íà входе приставки и направляет световой по219820

Составитель И. Небосклоиова

Редактор H. А. Джарагетти Техред P. М. Новикова Корректор С. Ф. Гоптареико

Заказ 2620 2 Тираж 530 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий прп Совете Министров СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типография, пр. Сапунова, 2 ток на вогнутое зеркало, другое установлено на выходе приставки, выполнено поворотным и направляет световой поток на приемное ус ®4 тройство, а вогнутые зеркала расположены си:|мстрично относительно оптической оси приставки и столика для образцов.

Зеркальная приставка к спектрометрам Зеркальная приставка к спектрометрам 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технической физике и предназначено для определения концентрации химических элементов при спектральных измерениях различных растворов

Изобретение относится к области исследований быстропротекающих процессов на поверхности металлов и полупроводников оптическими методами, а именно к мгновенному определению спектров поглощения тонких переходных слоев путем регистрации характеристик возбуждаемых на поверхности образца поверхностных плазменных поляритонов (ППП), может найти применение в спектрометрии окисных и адсорбционных слоев

Изобретение относится к исследованиям быстропротекающих процессов на поверхности металлов и полупроводников оптическими методами и может найти применение в спектрометрии окисных и адсорбционных слоев

Изобретение относится к спектроскопии

Изобретение относится к атомной спектроскопии

Изобретение относится к области измерительной техники
Наверх