Носитель кристалла ис

Авторы патента:

H01L21 - Способы и устройства для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей (способы и устройства, специально предназначенные для изготовления и обработки приборов, относящихся к группам H01L 31/00- H01L 49/00, или их частей, см. эти группы; одноступенчатые способы изготовления, содержащиеся в других подклассах, см. соответствующие подклассы, например C23C,C30B; фотомеханическое изготовление текстурированных поверхностей или поверхностей с рисунком, материалы или оригиналы для этой цели; устройства, специально предназначенные для этой цели вообще G03F)[2]

 

Изобретение относится к разработке и производству аппаратуры на основе изделий микроэлектроники и полупроводниковых приборов и может быть широко использовано для контроля и отбраковки кристаллов ИС перед их монтажом в корпуса или многокристальные модули, а также для сборки кристаллов в корпусах или в составе многокристальных модулей. Техническим результатом является улучшение контролеспособности бескорпусных кристаллов ИС и обеспечение полноценного тестового контроля кристалла через выводные контакты носителя. Технический результат достигается за счет того, что носитель кристалла ИС содержит основу из диэлектрического материала с системой ориентированных и фиксированных токоведущих дорожек на ее поверхности и контактов, одни из которых предназначены для соединения с ответными контактными площадками кристалла, а другие - для соединения с ответными контактами коммутационной платы, выполненных в виде металлизированных отверстий, верхние края которых связаны с токоведущими дорожками на верхней поверхности основы носителя, а нижние края отверстий, в стыках с ответными контактными площадками кристалла или ответными контактами коммутационной платы, заполненных токопроводящим связующим материалом, образуют контактные узлы, обеспечивающие вместе с токоведущими дорожками электрическую связь контактных площадок кристалла с контактами коммутационной платы. 8 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к разработке и производству аппаратуры на основе изделий микроэлектроники и полупроводниковых приборов и может быть широко использовано для контроля и отбраковки кристаллов ИС перед их монтажом в корпуса или в составе многокристальных модулей, а также для монтажа кристаллов в корпуса или в многокристальные модули. Изобретение направлено на снижение себестоимости отбраковочных процедур для кристаллов, снижения трудоемкости процессов сборки узлов аппаратуры, повышения выхода годных при сборке, а также повышения надежности работы кристаллов в аппаратуре.

Особенно перспективным предполагается применение данного изобретения в производстве массовой электронной аппаратуры с высокими удельными характеристиками в виде многокристальных модулей (МКМ).

В настоящее время широкое распространение имеют носители кристаллов ИС на пленочной основе, в частности на полиимидной пленке. К достоинствам носителя на полиимидной основе следует отнести высокую термостойкость, стабильность электрофизических и термомеханических характеристик в эксплуатации, высокую механическую прочность на разрыв, растяжение и излом в диапазоне толщин от 7 до 100 мкм, стойкость к химическим воздействиям и высоким температурам в процессе технологической обработки. Такой носитель обеспечивает автоматизацию процессов монтажа кристаллов с большим количеством контактных площадок, поскольку токоведущие дорожки на поверхности носителя могут быть изготовлены с высокой точностью и расположены с высокой плотностью при малом строго фиксированном зазоре между ними.

Известен однослойный носитель с "паучковыми" выводами, который изготавливается из полиимидной пленки, к которой приклеивается медная или алюминиевая фольга, в которой фотолитографическими методами вытравливаются токоведущие дорожки. К токоведущим дорожкам присоединяются, методами сварки или пайки, контактные площадки кристалла, а другие - свободные - концы этих дорожек используются для измерений и последующей приварки или припайки к ответным контактам в корпусе или коммутационной структуре при бескорпусном монтаже (А. Ю. Бер, Ф.Е. Минскер, "Сборка полупроводниковых приборов и интегральных микросхем", Москва, "Высшая школа", стр. 147-150, 1986 г.).

Известен полиимидный носитель кристаллов, применяемый при производстве электронной аппаратуры на основе бескорпусных БИС, содержащий систему жестко ориентированных ленточных проводников (из меди или алюминия) толщиной 20 - 30 мкм, размещенных на поверхности носителя из полиимидной пленки, расположенных в области кристалла с шагом, совместимым с шагом контактных площадок на кристалле, а на периферии носителя - с шагом, совместимым с шагом ответных монтажных площадок на коммутационной плате. Кроме того, все проводники представлены контактами, расположенными по краям носителя с шагом, совместимым с шагом зондовых контактов на измерительной установке. Жестко фиксированные относительно друг друга проводники привариваются к контактным площадкам БИС, а продолжения этих проводников, после соответствующей обрезки, привариваются или припаиваются к ответным контактным площадкам на коммутационной плате. Таким образом, каждая контактная площадка кристалла и ответная ей контактная площадка на полиимидном носителе, вместе с соединительным элементом в виде токоведущей дорожки на полиимидном носителе, образуют контактный узел, предназначенный для электрического соединения контакта кристалла с ответным контактом на коммутационной плате. Перед обрезкой носителя для монтажа кристалла на коммутационную плату, носитель с кристаллом устанавливается в контактное устройство измерительной установки для контроля электрических и функциональных параметров кристалла и отбраковки дефектных кристаллов (Е.Н. Панов, "Особенности сборки специализированных БИС на базовых матричных кристаллах", Москва, "Высшая школа", стр. 77-78, 1990 г.).

Известен двухслойный носитель, имеющий металлизированные дорожки в двух слоях, разделенных полиимидным изолирующим слоем. Такой носитель позволяет монтировать кристаллы с большим количеством контактных площадок, размещенных по периферии кристалла, в т.ч. расположенных в шахматном порядке в два ряда (там же, стр. 78).

Известен трехслойный носитель на гибкой основе, содержащий сигнальный слой, слои шины питания и шины заземления, изолированные друг друга. Токоведущие дорожки, расположенные на поверхностях слоев полиимидного носителя, связаны между собой посредством сквозных металлизированных отверстий, выполненных в полиимидной основе слоев носителя. Связь токоведущих дорожек с контактными площадками кристалла ИС осуществляется посредством сварки.

Такое выполнение носителя позволило обойти многие проблемы, присущие носителям на жесткой основе, в частности, невозможность оптимизации сигнальных шин, шин земли и питания в пределах одного слоя, и обеспечить стойкость к изгибающим воздействиям в процессе технологических операций ("Второе рождение" автоматизированной сборки кристаллов на ленте-носителе". Экспресс-информация по зарубежной электронной технике, выпуск 43-45 /5205-5207/ от 1-5 марта 1991 года, г. Москва).

Контактные узлы в составе полиимидных носителей, при монтаже носителей на коммутационную плату, имеют электрические характеристики, существенно лучшие, чем соответствующие характеристики контактных узлов в составе металлокерамических корпусов (для которых путь электрического сигнала: контактная площадка кристалла - переходной проволочный элемент - ответная контактная площадка траверсы - переходные проводники в составе многослойной коммутационной структуры керамического корпуса - выводной контакт корпуса) по основным электрическим характеристикам (величина сопротивления, паразитная индуктивность выводов и паразитная межвыводная емкость). Кроме того, применение полиимидных носителей обеспечивает качественное совмещение привариваемых проводников и контактных площадок кристаллов при сборке, что существенно облегчает автоматизацию сборочных процессов и снижает себестоимость монтажа кристаллов как в корпусах, так и в составе узлов аппаратуры на базе бескорпусных.

Однако, вышеописанные однослойные, двухслойные и трехслойные полиимидные носители кристаллов, решая задачу повышения точности совмещения контактных площадок и проводников, фиксации проводников относительно друг друга, улучшения электрических характеристик элементов контактных узлов, комплексности процесса измерения параметров, разбраковки и монтажа кристаллов на коммутационной плате в едином технологическом маршруте, имеют следующие существенные недостатки: - при сборке используются технологические процессы (приварка ленточных проводников к контактным площадкам кристаллов), которые могут вызвать дефектообразование в кристаллах и снижение их надежностных характеристик в эксплуатации; - процесс сварки является негрупповой операцией, т.е. каждый сварной контакт обрабатывается индивидуально, последовательно друг за другом, что резко снижает производительность сборки и повышает вероятность сбоя сварочного автомата, особенно для многовыводных кристаллов.

Наиболее близким техническим решением к настоящему изобретению, по технической сущности и достигаемому результату при использовании, является носитель кристалла, содержащий основу из диэлектрического материала - полиимида - с токоведущими дорожками, сформированными на ее поверхности, к которой приклеивается кристалл таким образом, чтобы контактные площадки были совмещены с соответствующими токоведущими дорожками на поверхности носителя. После приварки (или припайки) токоведущих дорожек к соответствующим контактам кристалла, проведения контроля параметров и отбраковки годных кристаллов, периферийная зона носителя с измерительными контактными площадками обрезается, а оставшаяся часть носителя с кристаллом позиционируется на коммутационной плате; затем контактные площадки центральной зоны носителя привариваются (или припаиваются) к ответным монтажным площадкам на коммутационной плате (Е. Н. Панов, "Особенности сборки специализированных БИС на базовых матричных кристаллах", Москва, "Высшая школа", стр. 78, 1990 г.).

Основными недостатками этого технического решения для сложных многовыводных ИС являются: - использование дефектообразующего процесса сварки; - негрупповой характер сборочного процесса.

Задача, на решение которой направлено данное изобретение, заключается в создании носителя многовыводных кристаллов, содержащего контактные узлы оригинальной конструкции, использование которых позволяет исключить дефектообразующий процесс сварки и сделать процесс присоединения проводников к контактным площадкам кристалла групповым, что приводит к значительному снижении трудоемкости и себестоимости сборки носителя и монтажа кристалла в корпус или в составе многокристального модуля при улучшении качества, воспроизводимости и надежности соединений.

Кроме того, использование предлагаемого контактного узла позволяет решить одну из главных проблем многокристальных модулей - отбраковку заведомо годных кристаллов перед их монтажом в составе МКМ - за счет улучшения контролеспособности бескорпусных кристаллов ИС и обеспечения полноценного тестового контроля кристалла через выводные контакты носителя.

Указанный технический результат достигается за счет использования в конструкции носителя специальных контактных узлов, обеспечивающих электрическую и механическую связь между контактами.

Поставленная задача, с достижением упомянутого технического результата, решается тем, что в носителе кристалла ИС, содержащем основу из диэлектрического материала с системой ориентированных и фиксированных токопроводящих дорожек на ее поверхности и контактов, одни из которых предназначены для соединения с ответными контактными площадками кристалла, другие - для соединения с ответными контактами на коммутационной плате - выполнены в виде металлизированных отверстий, верхние края которых связаны с токоведущими дорожками на верхней поверхности основы носителя, а нижние края отверстий, в стыках с ответными контактными площадками кристалла или, соответственно, с ответными контактными площадками коммутационной платы, заполненных электропроводящим связующим материалом, образуют контактные узлы, обеспечивающие, совместно с токоведущими дорожками, электрическую связь контактных площадок кристалла с контактными площадками на коммутационной плате; - а также тем, что металлизированные отверстия для контактных площадок кристалла и для контактных площадок многослойной коммутационной платы выполнены разного диаметра; - а также тем, что металлизированные отверстия выполнены в форме цилиндра; - а также тем, что металлизированные отверстия выполнены в форме усеченных конусов, причем меньшие основания усеченных конусов обращены к контактным площадкам на поверхности кристалла или многослойной коммутационной платы, а большие основания усеченных конусов связаны с токоведущими дорожками на поверхности основы носителя; - а также тем, что металлизированные отверстия для соединения с контактными площадками многослойной коммутационной платы, выполнены с металлизированными ободками на верхней и нижней поверхностях основы носителя; - а также тем, что металлизированные отверстия в носителе для контактных площадок кристалла могут быть выполнены в виде матрицы, расположенной над всей поверхностью кристалла, имеющего контактные площадки, совпадающие по своему расположению с матрицей отверстий носителя;
- а также тем, что основа носителя выполнена из полиимидной пленки;
- а также тем, что носитель может быть выполнен многослойным;
- а также тем, что верхние края металлизированных отверстий, связанные с токоведущими дорожками на верхней поверхности основы носителя, выполнены с металлизированными ободками.

Изобретение иллюстрируется графическими материалами, где на чертежах фиг. 1, фиг. 1а и фиг. 2 схематично изображены фрагменты предлагаемого носителя.

На фиг. 1 представлена одна из возможных реализации носителя в соответствии с данным изобретением.

На фиг. 2 (в больших овалах слева и справа) изображены примеры соединения выводных контактов носителя, с ответными контактами внешних коммутационных структур: справа 6 - с контактом в виде плоской контактной площадки, а слева 7 - с контактом в виде штырька.

На фиг. 1а в укрупненном виде представлен унифицированный контактный узел, на базе которого реализован носитель в соответствии с настоящим изобретением.

Носитель кристалла (фиг. 1) состоит из коммутационного слоя 1, представляющего собой основу из пленочного изоляционного материала, в качестве которого может быть использована, например, полиимидная пленка, на верхней поверхности которой расположены токопроводящие дорожки 4, 9, а на нижней поверхности закреплен, посредством, например, клеевой композиции 3, кристалл 2. Токопроводящая дорожка 4 связывает между собой контактный узел 5 с металлизированным отверстием 6 в форме усеченного конуса, а токопроводящая дорожка 9 - контактный узел 8 с металлизированным отверстием 7 в форме цилиндра. Более подробно контактные узлы будут описаны ниже на примере фиг. 2 и фиг. 1а.

На фиг. 2 схематично изображены примеры соединения выводных контактов носителя, с ответными контактами внешних коммутационных структур.

В правом овале изображен контактный узел 6, соединяющий контактную площадку 14 на поверхности некоторого внешнего коммутационного слоя 18 с токоведущей дорожкой 4 на поверхности коммутационного слоя 1 носителя, через посредство металлизированного ободка 16, металлизированного отверстия 15 в форме усеченного конуса и проводящего связующего материала 17. Другим своим концом металлизированная дорожка 4 связана через посредство металлизированного ободка 12 металлизированного отверстия 11, выполненного в форме усеченного конуса, и электропроводящий связующий материал 13 контактного узла 5 с контактной площадкой 10 кристалла 2. По своему конструктивному выполнению контактный узел 6 аналогичен контактному узлу 5 и отличается от последнего только размерами элементов.

В левом овале изображен контактный узел 7, соединяющий штыревой контакт 19, закрепленный в некотором внешнем коммутационном слое 20 ортогонально его поверхности и вставленный в ответное металлизированное отверстие 21 цилиндрической формы, которое через металлизированный ободок 22 связано с токопроводящей дорожкой 9 на поверхности коммутационного слоя 1 носителя. Электропроводящий связующий материал 23 в зазоре между штыревым контактом 19 и металлизированным отверстием 21 обеспечивает надежную связь элементов контактного узла 7.

На фиг. 1а в овале изображен увеличенный фрагмент носителя с контактным узлом 5 в виде стыка между контактной площадкой 8 кристалла 2 и металлизированным отверстием 9 в изоляционном слое носителя 1, выполненным в форме усеченного конуса, большее основание которого, через металлизированный ободок 10, связано с токопроводящей дорожкой 4 на верхней стороне носителя. Электропроводящий связующий материал 11, внесенный в область стыка, соединяет контактную площадку 8 кристалла 2 и металлизированное отверстие 9 носителя в единый контактный узел 5.

При сборке контактных узлов посредством напыления связующего материала, металлизированные отверстия носителя совмещаются с контактными площадками кристалла, который фиксируется на носителе, после чего собранный технологический пакет закладывается в установку напыления, в которой производится последовательное послойное напыление проводящих материалов, образующих токопроводящую связывающую структуру с необходимыми свойствами. Так осуществляется групповая сборка контактных узлов, связывающих контактные площадки кристалла с токопроводящими дорожками и металлизированными отверстиями для выводных контактов. После соединения контактов в установке напыления, проводится, при необходимости, операция визуального и электрического контроля качества сформированных контактных узлов.

При сборке контактных узлов способом пайки технологический пакет (в составе носителя и закрепленного на нем кристалла) помещается в установку вакуумной пайки. В условиях частичного вакуума и общего нагрева до температуры плавления припоя, под действием капиллярных сил, происходит спайка стыков в каждом из контактных узлов одновременно во всей центральной зоне носителя.

Взаимодействие элементов носителя и кристалла в процессе функционирования происходит следующим образом (на примере фрагмента фиг. 2).

Сигнал с контактной площадки 14 коммутационного слоя 18 проходит через электропроводящий связующий материал 17, металлизированное отверстие 15 в коммутационном слое 1, металлизированный ободок 16, образующие контактный узел 6, в токоведущую дорожку 4 на верхней стороне коммутационного слоя 1 и затем, через металлизированный ободок 12, металлизированное отверстие 11 в коммутационном слое 1 и электропроводящий связующий материал 13 на контактную площадку 10 кристалла 2.

Аналогично, сигнал с контактной площадки кристалла, входящего, как элемент, в состав контактного узла 8, через токопроводящую дорожку 9 на поверхности коммутационного слоя 1 носителя поступает через металлизированный ободок 22, металлизированное отверстие 21 цилиндрической формы и электропроводящий связующий материал 23 контактного узла 7 на контакт 19 в виде стержня, закрепленного в коммутационном слое 20.

Таким образом, изготовление носителей кристаллов с контактными узлами предложенной конструкции позволяет обеспечить:
- высокую воспроизводимость и надежность большого количества контактных узлов в составе системы "носитель - кристалл";
- высокую плотность разводки при оптимальном количестве слоев (с точки зрения технологичности и себестоимости производства носителей);
- высокую прецизионность монтажных элементов в составе носителя, достаточную для сборки многокристальных модулей;
- простоту конструкции, определяющую высокую технологичность и низкую себестоимость изготовления носителей, в т.ч. и многослойных;
- возможность использования кристаллов с матричным расположением контактных площадок, равномерно распределенных по поверхности кристаллов, что очень актуально в связи с ростом числа контактных площадок на кристаллах ИС высокой степени интеграции;
- простоту и удобство проведения надежного контроля параметров кристаллов при отбраковке заведомо годных кристаллов перед их монтажом в составе многокристальных модулей;
- использование многослойных носителей для кристаллов ИС высокой степени интеграции с большим количеством контактных площадок.


Формула изобретения

1. Носитель кристалла ИС, содержащий основу из диэлектрического материала с системой ориентированных и фиксированных токоведущих дорожек на ее поверхности и контактов, одни из которых предназначены для соединения с ответными контактными площадками кристалла, а другие - для соединения с ответными контактами многослойной коммутационной платы, отличающийся тем, что контакты, предназначенные для соединения с контактными площадками кристалла, а также контакты, предназначенные для соединения с ответными контактными площадками коммутационной платы, выполнены в виде металлизированных отверстий, верхние края которых связаны с токоведущими дорожками на верхней поверхности основы носителя, а нижние края отверстий в стыках с ответными контактными площадками кристалла или с ответными контактными площадками коммутационной платы, заполненных электропроводящим связующим материалом, образуют контактные узлы, обеспечивающие вместе с токоведущими дорожками электрическую связь контактных площадок кристалла с контактными площадками многослойной коммутационной платы.

2. Носитель по п.1, отличающийся тем, что металлизированные отверстия, образующие контактные узлы с контактными площадками кристалла и контактными площадками многослойной коммутационной платы, выполнены разного диаметра.

3. Носитель по п.1, отличающийся тем, что металлизированные отверстия выполнены в форме цилиндра.

4. Носитель по п.1, отличающийся тем, что металлизированные отверстия выполнены в форме усеченных конусов, причем меньшие основания усеченных конусов обращены к контактным площадкам кристалла или многослойной коммутационной платы, а большие основания усеченных конусов связаны с токоведущими дорожками на поверхности основы носителя.

5. Носитель по п.1, отличающийся тем, что верхние края металлизированных отверстий, связанные с токоведущими дорожками на верхней поверхности основы носителя, выполнены с металлизированными ободками.

6. Носитель по п.1, отличающийся тем, что металлизированные отверстия для соединения с контактными площадками многослойной коммутационной платы выполнены с металлизированными ободками на верхней и нижней поверхностях основы носителя.

7. Носитель по п.1, отличающийся тем, что основа носителя выполнена из полиимидной пленки.

8. Носитель по п.1, отличающийся тем, что металлизированные отверстия в носителе для контактных площадок кристалла выполнены в виде матрицы, расположенной над всей поверхностью кристалла, контактные площадки которого расположены аналогично матрице отверстий носителя.

9. Носитель по п.1, отличающийся тем, что он выполнен многослойным.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

PC4A - Регистрация договора об уступке патента Российской Федерации на изобретение

Номер и год публикации бюллетеня: 15-2001

(73) Патентообладатель:
Компания "МИКРО-ЭЛЕКТРОНИКС ЭССЕМБЛИ ИННОВЕЙ-ШИОНС, Инк" (US)

Договор № 12020 зарегистрирован 01.03.2001

Извещение опубликовано: 27.05.2001        

MM4A - Досрочное прекращение действия патента СССР или патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Дата прекращения действия патента: 09.12.2006

Извещение опубликовано: 20.02.2008        БИ: 05/2008

PC4A - Регистрация договора об уступке патента СССР или патента Российской Федерации на изобретение

Прежний патентообладатель:
Компания "РЕЛНЕР, Инк." (BS)

(73) Патентообладатель:
Белов Андрей Александрович

Договор № РД0039069 зарегистрирован 04.08.2008

Извещение опубликовано: 20.09.2008        БИ: 26/2008




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к элементной базе микроэлектронной аппаратуры, а конкретно к однокристальному модулю ИС, и может широко использоваться при проектировании и производстве электронной аппаратуры различного назначения
Изобретение относится к технологии повышения эксплуатационной надежности радиоэлектронных изделий

Изобретение относится к разработке и производству аппаратуры на основе изделий микроэлектроники и полупроводниковых приборов и может быть широко использовано в производстве многослойных печатных плат, а также коммутационных структур для многокристальных модулей

Изобретение относится к разработке и производству аппаратуры на основе изделий микроэлектроники и полупроводниковых приборов и может быть широко использовано в производстве многослойных печатных плат, а также коммутационных структур для многокристальных модулей

Изобретение относится к разработке и производству аппаратуры на основе изделий микроэлектроники и полупроводниковых приборов и может быть широко использовано в производстве многослойных печатных плат, а также коммутационных структур для многокристальных модулей

Изобретение относится к разработке и производству аппаратуры на основе изделий микроэлектроники и полупроводниковых приборов и может быть широко использовано в производстве многослойных печатных плат, а также коммутационных структур для многокристальных модулей

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в приборостроении радиоэлектронной аппаратуры, газоразрядных и электролюминисцентных панелей для осуществления электрических соединений проводящих элементов в этих приборах

Изобретение относится к элементной базе микроэлектронной аппаратуры, а конкретно к однокристальному модулю ИС, и может широко использоваться при проектировании и производстве электронной аппаратуры различного назначения

Изобретение относится к измерению и контролю электрофизических параметров полупроводников и может быть использовано для оценки качества технологического процесса при производстве твердотельных микросхем и приборов на основе МДП-структур

Изобретение относится к электронной технике, а именно к процессам электрохимической обработки полупроводниковых пластин, в частности к операциям электрополировки и утонения пластин, формирования анодных окисных пленок и слоев пористого кремния (формирование пористого кремния включает в себя несколько одновременно протекающих процессов - электрохимического травления и полирования, а также анодного окисления)

Изобретение относится к электронной технике, в частности к технологии изготовления полупроводниковых интегральных микросхем

Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах

Изобретение относится к разработке и производству аппаратуры на основе изделий микроэлектроники и полупроводниковых приборов и может быть широко использовано в производстве многослойных печатных плат, а также коммутационных структур для многокристальных модулей

Изобретение относится к области производства полупроводниковых приборов и может быть использовано в технологии изготовления дискретных приборов и интегральных схем для очистки (геттерирования) исходных подложек и структур на основе монокристаллического кремния от фоновых примесей и дефектов
Наверх