Способ разбраковки биполярных транзисторов

 

Способ разбраковки биполярных транзисторов относится к области электротехники, в частности для отбраковки биполярных транзисторов по критериям: надежность и стойкость к электростатическим разрядам, а также для повышения достоверности других методов отбраковки как в процессе производства, так и на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры. Разбраковка включает два этапа. На первом этапе транзисторы разбраковывают по степени изменения площади под кривой зависимости коэффициента усиления от тока коллектора =f(Ik) вследствие воздействия электростатических разрезов (ЭСР). Транзисторы, которые по результатам первого этапа попали в подпартию с повышенной надежностью и стойкостью к ЭСР, на втором этапе отжигают при максимально допустимой температуре переходом (кристаллов), указанной в ТУ на прибор, в течение 1-4 ч и окончательно разбраковывают по степени восстановления площади под кривой =f(Ik) относительно первоначального значения, измеренного до испытаний на воздействие ЭСР. За информативный параметр берется площадь под зависимостью =f(Ik), и по относительному изменению площади под кривой после воздействия ЭСР проводится первичная разбраковка транзисторов, а по изменению площади под кривой после отжига проводится окончательная разбраковка. Техническим результатом предложенного изобретения является увеличение достоверности отбраковки транзисторов без внесения неконтролируемых дефектов. 3 ил.

Изобретение относится к области производства и эксплуатации полупроводниковых приборов и может быть использовано для их отбраковки по критериям: надежность и стойкость к электростатическим разрядам, а также для повышения достоверности других методов отбраковки как в процессе производства, так и на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры.

Известен метод разбраковки интегральных схем (ИС) [1], сущность которого заключается в следующем. На ИС подают единичный импульс электростатического разряда (ЭСР) напряжением, составляющим половину опасного, получают изменение информативного параметра, по величине которого делают вывод о годности ИС, и затем производят отжиг дефектов. Недостатком данного способа является бесконтрольность информационного параметра после процесса отжига, а поэтому недостаточная достоверность разбраковки.

Изобретение направлено на увеличение достоверности отбраковки транзисторов без внесения неконтролируемых дефектов.

Это достигается тем, что после термического отжига производят вновь измерение информационного параметра, и по изменению которого относительно первоначального значения делают окончательную разбраковку партии транзисторов.

Сущность изобретения поясняется чертежами, где показан пример применения данного метода: на фиг.1 представлена зависимость коэффициента усиления в схеме с общим эмиттером (lэ) от тока коллектора до воздействия ЭСР, после воздействия ЭСР и после отжига, на фиг.2 приведена таблица комплексных результатов анализа потенциальной надежности.

Процесс разбраковки транзисторов включает в себя 2 этапа.

Этап 1 (предварительное определение потенциальной надежности).

Перед началом испытаний снимается зависимость (Iк) в интервале значений коллекторного тока, указанного в ТУ на транзистор. Отбраковка начинается с воздействия пяти ЭСР на прибор напряжением на 10-30% выше допустимого по ТУ значения. После этого вновь снимается зависимость (Iк). На ЭВМ по координатам полученных точек рассчитываются площади под кривыми и коэффициент деградации КД: где S1 - площадь под кривой (Ik) до воздействия ЭСР; S2 - площадь под кривой (Ik) после воздействия ЭСР.

После этого по набранной статистике определяется критическое значение коэффициента деградации КД, по которому партия транзисторов разделяется на две подпартии: первая: более надежные и имеющие наиболее высокую стойкость к ЭСР при |KДi|KДкр; вторая: менее надежные с большим коэффициентом деградации, т. е. |KДi|KДкр. Этап 2 (окончательное заключение о потенциальной надежности).

Транзисторы, отнесенные по первому этапу к партии с более высокой надежностью и стойкостью к ЭСР, подвергают температурному воздействию (отжигу) при максимально допустимой температуре переходов (кристаллов), указанной в ТУ на прибор, в течение 1-4 ч. Снимают зависимость (Iк) и рассчитывают площадь под этой кривой. Восстановление информативного параметра определяют по коэффициенту восстановления Квос: где S1 - площадь под кривой (Ik) до воздействия ЭСР; S3 - площадь под кривой (Ik) после отжига.

Экспериментально для партии устанавливают предельное значение коэффициента восстановления Квос.пр. Транзисторы, имеющие значение КвосКвос.пр, отбраковывают во вторую партию.

Предложенный метод опробован на 10 биполярных транзисторах n-р-n (КТ315Р) и р-n-р (КТ361Г1) типа. Отжиг проводился при температуре 100oС. Поле допуска для коэффициента деградации КД ( 20 % для КТ315Р, 15 % для КТ361Г1) выбиралось таким, чтобы можно было эффективно разделять транзисторы на две партии с различной величиной стойкости к ЭСР. Затем транзисторы из первой партии окончательно разбраковывались по коэффициенту восстановления Квос. Транзисторы с Квос меньшим 90% причислялись ко второй партии. Результаты эксперимента для транзисторов типа KT315Р проиллюстрированы на фиг. 1,2.

Эффективность разделения на партии подтверждалась путем стандартных испытаний на воздействие ЭСР (в режиме, указанном в ОСТ на транзисторы [2] ). На выводы коллектор-база подавались по пяти положительных и отрицательных воздействий ЭСР с напряжением, равным опасному 1,9 кВ для данного типа транзисторов, причем такое воздействие считалось за единичное. И так до тех пор, пока не имели место отказы всех транзисторов. Полученное распределение (зависимость числа отказавших транзисторов от количества воздействий ЭСР) приведено на фиг. 3. Так как кривая для первой партии лежит ниже кривой, построенной для второй парии, следовательно, стойкость к электростатическим разрядам и надежность первой партии выше, чем второй.

ИСТОЧНИКИ ИНФОРМАЦИИ
1. Пат. России 2146827 C1, G 01 R 31/26, Н 01 L 21/66, опубл. 1998.

2. ОСТ 11 073.062-84. Микросхемы интегральные и приборы полупроводниковые. Требования и методы защиты от статического электричества в условиях производства и применения.


Формула изобретения

Способ разбраковки биполярных транзисторов, в соответствии с которым объект испытаний подвергают воздействию электростатических разрядов (ЭСР) и последующему температурному отжигу, получают изменения зависимостей информативного параметра до, после воздействия ЭСР и после отжига и по значениям коэффициентов деградации и восстановления делают вывод о принадлежности транзистора к группе повышенной или пониженной надежности, отличающийся тем, что проводится воздействие ЭСР напряжением выше допустимого по техническим условиям на 10-30%, отжиг в течение 1-4 ч при температуре 100-125oС и разбраковка по критериям для транзисторов повышенной надежности |KДi|KД кр и Квос.пр., установленным по набранной статистике, где коэффициент деградации

КД кр. - критическое значение коэффициента деградации; коэффициент восстановления

Квос.пр. - предельное значение коэффициента восстановления; S1, S2 - площади под кривой зависимости коэффициента усиления транзистора от тока коллектора (IК) до и после воздействия ЭСР; S3 - площадь под кривой (IК) после температурного отжига.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области тестирования и измерения параметров полупроводниковых приборов и может быть использовано для контроля надежности транзисторов по критериям: стойкость к электростатическому разряду (ЭСР) и температурному отжигу, а также для повышения достоверности других способов контроля и отбраковки как в процессе производства, так и на входном контроле на предприятиях-производителях радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к области измерительной техники и может быть использовано для измерения параметров полупроводниковых приборов

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров полупроводниковых приборов, в частности диодов, и может быть использовано для контроля качества диодов и оценки их температурных запасов
Изобретение относится к способам испытаний полупроводниковых приборов на устойчивость к воздействию таких внешних дестабилизирующих факторов, как радиационные излучения и длительные повышенные температуры

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров полупроводниковых приборов и интегральных микросхем и может быть использовано для контроля качества изготовления цифровых интегральных микросхем и оценки их температурных запасов

Изобретение относится к микроэлектронике и предназначено для разбраковки изделий электронной техники по заранее заданным уровням стойкости или надежности

Изобретение относится к способам испытаний полупроводниковых приборов на стойкость к воздействию нейтронного излучения с энергией 14 МэВ по результатам испытаний на стойкость к гамма-нейтронному излучению реактора со средней энергией нейтронов (1,0-3,0) МэВ с использованием коэффициентов перерасчета, в частности фотодиодов, применяемых в системах управления и ориентации

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров компонентов радиоэлектронной аппаратуры, в частности терморезисторов и термисторов, и может быть использовано для контроля качества изделий электронной техники и для оценки их температурных запасов

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров электрорадиоэлементов

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к определению высоты потенциального барьера диода с барьером Шоттки

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров электрорадиоэлементов и может быть использовано для определения температурных запасов и контроля качества двухполюсников

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации интегральных схем (ИС), и может быть использовано для разделения партии на три, имеющих различную надежность, с выделением партии ИС повышенной надежности, с высоким уровнем достоверности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях производителях радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к электротехнике, в частности к способам определения потенциально ненадежных полупроводниковых приборов

Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к обеспечению качества и надежности полупроводниковых приборов за счет определения потенциально нестабильных полупроводниковых приборов, и может быть использовано как на этапе производства, так и применения

Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к обеспечению надежности партий транзисторов за счет определения потенциально ненадежных приборов и может быть использовано как на этапе производства, так и применения

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых изделий электронной техники, а именно к способам отбраковки внутренних микросоединений полупроводниковых приборов

Изобретение относится к измерительной технике, в частности к технике измерения тепловых параметров компонентов силовой электроники, и может быть использовано для контроля качества силовых полупроводниковых приборов в корпусном исполнении
Наверх