Способ определения высоты потенциального барьера диода с барьером шоттки

 

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к определению высоты потенциального барьера диода с барьером Шоттки. Технический результат изобретения заключается в определении высоты потенциального барьера диода с барьером Шоттки по вольт-амперным характеристикам, измеренным при температурах Т1 и Т2 для одной и той же величины тока. Способ заключается в том, что измеряют вольт-амперные характеристики n-p перехода диода с барьером Шоттки при температурах Т1 и Т2 для одной и той же величины тока, определяют по ним напряжение U1 и U2 на n-p переходе указанного диода и по формуле определяют величину потенциального барьера b. 1 ил.

Текст описания в факсимильном виде (см. графическую часть).

Формула изобретения

Способ определения высоты потенциального барьера диода с барьером Шоттки, при котором измеряют вольт-амперные характеристики n-p перехода диода при различных температурах, отличающийся тем, что измеряют вольт-амперные характеристики n-p перехода указанного диода при температурах Т1 и Т2 для одной и той же величины тока, для температур Т1 и Т2 определяют по ним напряжение U1 и U2 на n-p переходе указанного диода и вычисляют величину потенциального барьера диода с барьером Шоттки b по формуле где Т - температура, К; е - заряд электрона, е= 1,60210-19 Дж/Кл; k - постоянная Больцмана, k= 1,380610-23 Дж/Кл; n - показатель идеальности, зависящий от концентрации легирующей примеси; b - высота потенциального барьера диода с барьером Шоттки, В.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области измерения и контроля электрофизических параметров полупроводников и может быть использовано для оценки качества технологического процесса при производстве твердотельных микросхем и приборов на основе металл-диэлектрик-полупроводник (МДП)-структур

Изобретение относится к физике твердого тела и к физике магнитных явлений, в частности к мессбауэровской спектроскопии

Изобретение относится к области анализа материалов с помощью физических средств и может быть использовано в технологии изготовления микроэлектронных полупроводниковых приборов

Изобретение относится к устройствам для климатических испытаний готовых полупроводниковых приборов

Изобретение относится к устройствам внутренней дефектоскопии, а именно к средствам неразрушающего контроля, в частности к средствам контроля при производстве полупроводниковых и гибридных структур

Изобретение относится к неразрушающим способам диагностики структурного совершенства эпитаксиальных слоев кремния, выращенных на диэлектрических монокристаллических подложках, и может использоваться в технологии микроэлектроники для контроля дефектности приборных слоев интегральных схем или дискретных приборов, изготавливаемых на структурах типа "кремний на сапфире" (КНС)

Изобретение относится к устройствам, используемым в полупроводниковом производстве, и может быть применено для климатических испытаний готовых полупроводниковых приборов при одновременном измерении их электрических параметров

Изобретение относится к полупроводниковой технике, а именно к неразрушающим способам диагностики структурного совершенства диэлектрических слоев, осажденных на проводящую или полупроводниковую подложку, и может использоваться в технологии микроэлектроники для контроля качества подзатворных диэлектриков, маскирующих, защитных или изолирующих слоев

Изобретение относится к области метрологии, а именно к метрологическому сопровождению технологии получения слитков полупроводникового кремния
Изобретение относится к способам испытаний полупроводниковых приборов, в частности фотодиодов, применяемых в системах управления и ориентации, на стойкость к воздействию дестабилизирующих факторов внешней среды

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров электрорадиоэлементов

Изобретение относится к области тестирования и измерения параметров полупроводниковых приборов и может быть использовано для контроля надежности транзисторов по критериям: стойкость к электростатическому разряду (ЭСР) и температурному отжигу, а также для повышения достоверности других способов контроля и отбраковки как в процессе производства, так и на входном контроле на предприятиях-производителях радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к области измерительной техники и может быть использовано для измерения параметров полупроводниковых приборов

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров полупроводниковых приборов, в частности диодов, и может быть использовано для контроля качества диодов и оценки их температурных запасов
Изобретение относится к способам испытаний полупроводниковых приборов на устойчивость к воздействию таких внешних дестабилизирующих факторов, как радиационные излучения и длительные повышенные температуры

Изобретение относится к технике измерения тепловых параметров полупроводниковых приборов и интегральных микросхем и может быть использовано для контроля качества изготовления цифровых интегральных микросхем и оценки их температурных запасов

Изобретение относится к микроэлектронике и предназначено для разбраковки изделий электронной техники по заранее заданным уровням стойкости или надежности
Наверх