Способ получения кремнефтористоводородной кислоты

Изобретение может быть использовано в химической промышленности. Парогазовую смесь со стадии вскрытия флюорит-бертрандит-фенакитового концентрата серной кислотой, содержащую SiF4 и HF, направляют на улавливание. Абсорбцию проводят в двухступенчатой цепочке абсорберов с замкнутой системой орошения до достижения концентрации свободного фтористого водорода в образовавшейся кремнефтористоводородной кислоте 1÷3%. В качестве абсорбента используют плавиковую кислоту с концентрацией не менее 25%. Изобретение позволяет получить 30-45% кремнефтористоводородную кислоту, содержащую не более 0,5% кремнезема. Полнота очистки фторсодержащих газов 98,9-99,0%. 1 табл.

 

Изобретение относится к области химической технологии соединений фтора, в частности к получению кремнефтористоводородной кислоты (КФВК, H2SiF6).

Известен классический способ получения КФВК с концентрацией до 45 мас.%, принятый за аналог, включающий растворение кремнеземистого песка в плавиковой кислоте [см. Н.Г.Рысс. Химия фтора и его неорганических соединений. М.: Госхимиздат, 1956. - С.356, 357].

Недостатком данного способа является то, что для получения конечного продукта необходимо использовать чистые, а следовательно, дорогие исходные реагенты, что определяет высокую стоимость КФВК, полученной по этому способу.

Наиболее близким по технической сущности к заявляемому изобретению, является способ получения КФВК, включающий абсорбцию фторида кремния (SiF4) и фтористого водорода (HF) водой из газов, отходящих из печей серно-кислотной обработки фосфоритов (в общем случае фторсодержащего минерального сырья) [см. Н.П.Галкин, В.А.Зайцев, М.Б.Серегин. Улавливание и переработка фторсодержащих газов. М.: Атомиздат, 1975. - С.26-31].

Недостатком данного способа является образование в результате гидролиза SiF4 побочного продукта реакции кремнезема (SiO2) по реакции

3SiF4+2H2O=2H2SiF6+SiO2↓,

что приводит к выпадению его в осадок и, как следствие, забиванию осадком технологического оборудования. Кроме того, по такой технологии невозможно получение КФВК с концентрацией более 16% и содержанием SiO2 менее 6%.

Задачей настоящего изобретения является получение КФВК с концентрацией от 30 до 45%, содержанием кремнезема не более 0,5% и достижение глубокой очистки фторсодержащих газов на стадии их абсорбции.

Сущность изобретения заключается в том, что в отличие от известного способа получения кремнефтористоводородной кислоты, включающего абсорбцию тетрафторида кремния и фтористого водорода из газов, отходящих со стадии серно-кислотной обработки фторсодержащего минерального сырья, по предлагаемому способу абсорбцию осуществляют в двухступенчатом режиме с использованием плавиковой кислоты с концентрацией не менее 25% и замкнутой системы орошения абсорберов до достижения концентрации свободного фтористого водорода в образовавшейся кремнефтористоводородной кислоте 1÷3%.

Поставленная задача решается тем, что получение H2SiF6 с концентрацией от 30 до 45% (с учетом разбавления парами воды, поступающими вместе с SiF4 и HF со стадии сульфатизации фторсодержащего концентрата и поглощаемыми в замкнутой системе орошения абсорберов) обеспечивается эффективным улавливанием SiF4 и HF при концентрации HF в замкнутой системе орошения абсорберов: начальной от 25 до 42%, а конечной концентрации от 1 до 3%. При этом содержание H2SiF6 в плавиковой кислоте, используемой для процесса абсорбции, не имеет ограничений, и с увеличением концентрации H2SiF6 приводит к увеличению выхода целевого продукта - КФВК. В производстве, ориентированном на выпуск плавиковой кислоты из плавикового шпата, постоянно образуется некоторое количество некондиционной плавиковой кислоты с концентрацией HF до 40% и содержанием H2SiF6 5÷10% и более. Учитывая вышеизложенное, такая кислота может быть использована для реализации предлагаемого способа.

С точки зрения полезного использования фтористого водорода присутствие в КФВК свободного фтористого водорода должно быть минимальным, однако, чтобы исключить гидролиз SiF4 и образование кремнезема в количестве более 0,5%, для продукта с концентрацией КФВК от 30 до 45% необходимо содержание HF в количестве от 1 до 3% соответственно.

В заявляемом способе достигается глубокая очистка абсорбируемых газов от SiF4 и HF (98,9÷99,0%) за счет применения двухступенчатой абсорбции газов и обеспечивается экологическая безопасность производства КФВК. Полученная в первой ступени абсорбции КФВК с концентрацией H2SiF6 30÷45%, HF 1÷3% и содержанием SiO2 не более 0,5% является конечным продуктом технологии. Низкоконцентрированную КФВК, полученную во второй ступени абсорбции, используют в следующем цикле абсорбции в первой ступени абсорбции, при этом согласно заявляемому способу во второй ступени абсорбции применяют низкосортную плавиковую кислоту с концентрацией не менее 25%.

Пример реализации

Заявляемый способ и способ-прототип опробованы в производственных условиях.

Парогазовая смесь со стадии вскрытия серной кислотой бериллий-, кремний- и фторсодержащего минерального сырья (флюорит-бертрандит-фенакитовый концентрат) направляют на улавливание.

Улавливание SiF4 и HF (массовое соотношение которых в парогазовой смеси составляет ˜3:1) осуществляют в двухступенчатой цепочке абсорберов типа «Вентури» с замкнутой системой орошения. В качестве орошающей жидкости по способу-прототипу используют артезианскую воду и 11÷19% раствор плавиковой кислоты, а по заявляемому способу техническую плавиковую кислоту с концентрацией HF 42% и некондиционный продукт производства плавиковой кислоты с концентрацией HF от 21 до 40% и H2SiF6 от 5 до 12%. Результаты экспериментов приведены в таблице 1.

Из результатов испытаний (таблица 1) следует, что использование предложенного способа получения КФВК из бериллий-, кремний- и фторсодержащего концентрата позволяет без технических осложнений и экономически оправдано реализовать на существующем оборудовании производство соответствующей требованиям потребителей товарной продукции - КФВК, содержащую не менее 30% H2SiF6, не более 0,5% SiO2 и 1÷3% HF (таблица 1, примеры 3, 4, 6, 7, 9, 10). При этом полезно вовлекается некондиционный продукт основного производства плавиковой кислоты. Заявляемый способ обеспечивает глубокую очистку абсорбируемых газов от SiF4 и HF - на 98,9÷99,0% (таблица 1, примеры 3, 4, 6, 7, 9, 10). Для сравнения, способ-прототип (см. таблица 1, пример 12 и примечание к таблице 1) позволяет получить лишь низкосортную КФВК с содержанием H2SiF6, SiO2 и HF на уровне 13÷14%, 3÷9% и 0,01÷1,5% соответственно при степени очистки абсорбируемых газов от соединений фтора 94,7÷99,0%, что свидетельствует о сравнительно низкой экологической безопасности способа-прототипа. При использовании в способе-прототипе в качестве исходного абсорбента раствора плавиковой кислоты с концентрацией ниже заявляемой,

Таблица 1
Показатели процесса получения кремнефтористоводородной кислоты
№ примераСпособ реализацииСодержание в исходном абсорбенте, мас.%Содержание в полученной КФВК, мас.%Степень очистки абсорбируемых газов от SiF4 и HF, мас.%
HFH2SiF6HFH2SiF6SiO2P2O5HCl
1Заявляемый способ2171,0250,30,021<0,00198,9
22450,5290,90,022<0,00199,0
325121,1310,20,021<0,00199,0
425121,0300,30,025<0,00199,0
525120,7320,90,019<0,00198,9
64083,1340,10,020<0,00199,0
74083,0360,50,026<0,00199,0
84080,9381,00,017<0,00199,0
9420,53,1410,30,027<0,00199,9
10420,53,0450,50,022<0,00198,9
11420,50,8420,80,018<0,00199,0
12Способ-прототипАбсорбент вода0,0113910,025<0,00194,7
131171,0143,50,019<0,00197,8
141352,015,52,70,023<0,00197,3
151463,017,51,30,021<0,00197,0
161983,0211,00,024<0,00195,9
172171,0250,30,021<0,00194,9
182450,5290,90,022<0,00193,0
1 - после 10 часов работы абсорбер забился осадком кремнезема (после 5 часов работы абсорбера абсорбент содержал 1,5% HF, 14% H2SiF6, 3% SiO2, а степень очистки фторсодержащих газов в абсорбере составляла 99%).

т.е. менее 25% (таблица 1, примеры 13-18), получаемая КФВК содержит не более 29% H2SiF6 при этом, если содержание недоиспользованного фтористого водорода в полученной КФВК составляет 1÷3% (таблица 1, примеры 13-17), способ-прототип характеризуется более высоким содержанием кремнезема в КФВК и значительно более низкой степенью очистки фторсодержащих газов, чем предложенный способ (таблица 1, примеры 3, 4, 6, 7, 9, 10). Так, КФВК содержит 0,1÷0,5% SiO2 в способе-прототипе и 0,3÷3,5% в предложенном способе, а полнота очистки фторсодержащих газов составляет 93,0÷97,7% в способе-прототипе и 98,9÷99,0% в предложенном способе.

Способ получения кремнефтористоводородной кислоты, включающий абсорбцию тетрафторида кремния и фтористого водорода из газов, отходящих со стадии серно-кислотной обработки фторсодержащего минерального сырья, отличающийся тем, что абсорбцию осуществляют в двухступенчатом режиме с использованием плавиковой кислоты с концентрацией не менее 25% и замкнутой системы орошения абсорберов до достижения концентрации свободного фтористого водорода в образовавшейся кремнефтористоводородной кислоте 1÷3%.



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к области переработки рудных концентратов и химической технологии соединений кремния и фтора, в частности получению кремнефтористоводородной кислоты.

Изобретение относится к технологии химической переработки широкого круга минерального сырья, содержащего кремнезем, и может быть использовано как при переработке рудных пород, так и при переработке отходов производства, в частности рисовой шелухи.

Изобретение относится к химической промышленности и может быть использовано в области переработки различных минералов и руд при их обескремнивании с получением аморфного диоксида кремния.

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и может быть использовано в производстве полупроводникового кремния для получения трихлорсилана, являющегося исходным сырьем для получения полупроводникового кремния.

Изобретение относится к производству поликристаллического кремния по замкнутому циклу и касается устройств для конверсии образующегося в процессе получения поликристаллического кремния тетрахлорида кремния в трихлорсилан.

Изобретение относится к химической технологии, а именно к способу получения тетрафторсилана и газу на его основе. .

Изобретение относится к способам получения трихлорсилана из тетрахлорида кремния и может быть использовано для утилизации тетрахлорида кремния, образующегося в процессе получения поликристаллического кремния водородным восстановлением трихлорсилана.
Изобретение относится к металлургической промышленности, в частности к способу производства трихлорсилана, и может быть использовано в производстве полупроводникового кремния.

Изобретение относится к способам получения соединений кремния, используемых в полупроводниковой технике и в кремнийорганической химии. .

Изобретение относится к технологии получения кремнефторида натрия из растворов кремнефтористоводородной кислоты, образующейся на стадии водной абсорбции сбросных газов производства фтористого водорода и фосфорной кислоты, содержащих SiF4 и HF.
Изобретение относится к процессу одновременного получения трихлорсилана и хлоруглеводородов

Изобретение относится к химическим технологиям и предназначено для осуществления гетерогенных химических реакций, проходящих с большим тепловым эффектом

Изобретение относится к области химической технологии и предназначено для утилизации вторичных продуктов переработки апатита в процессе производства фосфорных удобрений, в частности кремнефторида натрия Na2SiF6, с получением тетрафторида кремния SiF4 и фторида натрия NaF

Изобретение относится к области химической технологии и предназначено для утилизации вторичных продуктов переработки апатита в процессе производства фосфорных удобрений, в частности кремнефторида натрия Na2SiF6, с получением тетрафторида кремния SiF4 и фторида натрия NaF

Изобретение относится к химической промышленности и может применяться в производстве полупроводникового кремния

Изобретение относится к химической промышленности, а именно к производству полупроводникового кремния, к созданию устройства для вывода полисиланхлоридов, образующихся при проведении процесса водородного восстановления кремния, из парогазовой смеси, отходящей от установок водородного восстановления кремния

Изобретение относится к химической промышленности и может быть использовано в производстве поликристаллического кремния

Изобретение относится к химической промышленности

Изобретение относится к технологии получения кремнийорганических соединений, а именно к способам разделения парогазовой реакционной смеси продуктов прямого синтеза трихлорсилана (ТХС), и может быть использовано в производстве полупроводникового кремния
Наверх